JPH06279541A - 液状組成物 - Google Patents
液状組成物Info
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- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
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-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱的に又はラジカルを介して重合されて、透
明性、硬さ及び加工性に加えて高い屈折率を有する有機
ガラスを生成できる液状組成物を提供する。 【構成】 一般式(I)又は(II)で表されるウレタン
化合物を含有する。
明性、硬さ及び加工性に加えて高い屈折率を有する有機
ガラスを生成できる液状組成物を提供する。 【構成】 一般式(I)又は(II)で表されるウレタン
化合物を含有する。
Description
【0001】本発明は、基本的にウレタン化合物を包含
してなる液状組成物(架橋されて高屈折率を有する有機
ガラスを形成する)に係る。
してなる液状組成物(架橋されて高屈折率を有する有機
ガラスを形成する)に係る。
【0002】さらに詳述すれば、本発明は、基本的にス
チレン系又は(メタ)アクリル系の不飽和結合を含有す
るウレタン化合物を包含してなる熱的に又はラジカルを
介して重合される液状組成物、及び該組成物のラジカル
架橋によって得られた高屈折率を有する有機ガラスに係
る。
チレン系又は(メタ)アクリル系の不飽和結合を含有す
るウレタン化合物を包含してなる熱的に又はラジカルを
介して重合される液状組成物、及び該組成物のラジカル
架橋によって得られた高屈折率を有する有機ガラスに係
る。
【0003】本発明は、上記液状組成物を構成するウレ
タン化合物の製法にも係る。
タン化合物の製法にも係る。
【0004】アクリル系、ポリスチレン系樹脂を基材と
する又はポリカーボネート又はそれらの混合物を基材と
する有機組成物の架橋によって得られる有機ガラスは当
分野において既に知られている。
する又はポリカーボネート又はそれらの混合物を基材と
する有機組成物の架橋によって得られる有機ガラスは当
分野において既に知られている。
【0005】これらガラスは主に光学製品の製造に使用
されており、無機ガラスの代用品であり、製造が容易で
あり、各種の特性を有しかつ広範な重合体組成及び低い
比重量のため各種の用途に使用される。
されており、無機ガラスの代用品であり、製造が容易で
あり、各種の特性を有しかつ広範な重合体組成及び低い
比重量のため各種の用途に使用される。
【0006】有機ガラスの特別な性質の中には、耐衝撃
性、もろさがないこと有機ガラスを生成する樹脂の加工
性がある。
性、もろさがないこと有機ガラスを生成する樹脂の加工
性がある。
【0007】この分野における技術は、次から次へと欠
点のない精巧な物質を提供するよう進歩しているが、同
時に次の新たな物質が要求されるような状況にある。
点のない精巧な物質を提供するよう進歩しているが、同
時に次の新たな物質が要求されるような状況にある。
【0008】イタリー国特許出願21327A/90号には、
ポリオールのポリ(アリルカーボネート)のラジカル重
合反応生成物でなる光学製品の製造で使用される有機ガ
ラスが開示されている。しかしながら、この有機ガラス
の屈折率はかなり低く、高ジオプターを有するレンズ及
びこの特性が基本的及び不可避的特性となる他の製品の
製造には必ずしも適していない。
ポリオールのポリ(アリルカーボネート)のラジカル重
合反応生成物でなる光学製品の製造で使用される有機ガ
ラスが開示されている。しかしながら、この有機ガラス
の屈折率はかなり低く、高ジオプターを有するレンズ及
びこの特性が基本的及び不可避的特性となる他の製品の
製造には必ずしも適していない。
【0009】高屈折率と共に、有機ガラスについて主に
要求される他の性質は、透明性、硬さ及び加工性であ
る。これら特性を有する有機ガラスの製造は、当分野に
おいて未だ満足に解決されていない問題の1つである。
要求される他の性質は、透明性、硬さ及び加工性であ
る。これら特性を有する有機ガラスの製造は、当分野に
おいて未だ満足に解決されていない問題の1つである。
【0010】過去10年間に、高nD 20屈折率(最小値1.5
より大)を有する有機ガラスの製造に適する各種の重合
体組成物が提案されている。これらの多くは不飽和結合
を含有するウレタン樹脂(架橋されて有機ガラスとな
る)を基材とするものである。
より大)を有する有機ガラスの製造に適する各種の重合
体組成物が提案されている。これらの多くは不飽和結合
を含有するウレタン樹脂(架橋されて有機ガラスとな
る)を基材とするものである。
【0011】特開昭60−11513号は、下記構造を有する
スチレン系化合物中に希釈された(メタ)アクリレート
ウレタン樹脂を開示する。 これらの樹脂は1.55より大の屈折率(20℃で測定)(nD
20>1.55)を有するが、好適な光学純度での合成は困難
である(その複雑性のため精製が困難である)。さら
に、同じ理由により、上述の樹脂は目的の用途に関して
要求されるような完全な無色ではない。
スチレン系化合物中に希釈された(メタ)アクリレート
ウレタン樹脂を開示する。 これらの樹脂は1.55より大の屈折率(20℃で測定)(nD
20>1.55)を有するが、好適な光学純度での合成は困難
である(その複雑性のため精製が困難である)。さら
に、同じ理由により、上述の樹脂は目的の用途に関して
要求されるような完全な無色ではない。
【0012】特開昭60−249101号は、下記構造式を有す
るアクリレートウレタン樹脂(スチレン系化合物中で希
釈される)を開示する。 しかしながら、これらの樹脂も高屈折率を有するが、反
応性希釈剤中におけるヘキサメチレンジイソシアネート
とビスフェノールAのモノアクリレートとの反応によっ
て得られることに関する欠点(二成分系は一般に製造工
業により許容されない)を有する。
るアクリレートウレタン樹脂(スチレン系化合物中で希
釈される)を開示する。 しかしながら、これらの樹脂も高屈折率を有するが、反
応性希釈剤中におけるヘキサメチレンジイソシアネート
とビスフェノールAのモノアクリレートとの反応によっ
て得られることに関する欠点(二成分系は一般に製造工
業により許容されない)を有する。
【0013】ヨーロッパ特許第441,383号は、下記構造
式を有するアクリレートウレタン樹脂を開示する。 この樹脂(ジメタクリレートと混合され、メタクリレー
ト中で40重量%に希釈される)は、架橋後、nD 20屈折
率約1.54を有する有機ガラスを生成する。かかる樹脂の
加工性は良好であるが、これにも拘わらず、系は複雑で
あり、その組成は良好に限定されず(高い分子量を有す
る構造体(二量体及び三量体)が存在する)、上述の如
く屈折率は不満足なものである。
式を有するアクリレートウレタン樹脂を開示する。 この樹脂(ジメタクリレートと混合され、メタクリレー
ト中で40重量%に希釈される)は、架橋後、nD 20屈折
率約1.54を有する有機ガラスを生成する。かかる樹脂の
加工性は良好であるが、これにも拘わらず、系は複雑で
あり、その組成は良好に限定されず(高い分子量を有す
る構造体(二量体及び三量体)が存在する)、上述の如
く屈折率は不満足なものである。
【0014】発明者らは、架橋することにより高い屈折
率(nD 20 1.54〜1.60)を有する有機ガラスを生成で
き、公知技術の欠点を解消できる基本的にウレタン化合
物を包含してなる新規な液状組成物を見出し、本発明に
至った。
率(nD 20 1.54〜1.60)を有する有機ガラスを生成で
き、公知技術の欠点を解消できる基本的にウレタン化合
物を包含してなる新規な液状組成物を見出し、本発明に
至った。
【0015】公知技術のものと比較して、後述のウレタ
ン化合物を単独で又は相互に混合して使用することによ
って得られる主な利点は、これら化合物が室温において
比較的低い粘性の液状物であり、これによりこれら化合
物を純粋な状態で又は各種量の後述の反応性希釈剤と共
に、又は不飽和結合を有する他の反応性化合物に対する
希釈剤として使用できる点にある。
ン化合物を単独で又は相互に混合して使用することによ
って得られる主な利点は、これら化合物が室温において
比較的低い粘性の液状物であり、これによりこれら化合
物を純粋な状態で又は各種量の後述の反応性希釈剤と共
に、又は不飽和結合を有する他の反応性化合物に対する
希釈剤として使用できる点にある。
【0016】第2の利点は、これらウレタン化合物が、
イソシアネートとヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
ト又はシンナムアルコールとの反応によって容易に得ら
れることである。
イソシアネートとヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
ト又はシンナムアルコールとの反応によって容易に得ら
れることである。
【0017】従って、本発明は、熱的に又はラジカルを
介して重合される液状組成物において、基本的に、スチ
レン系又は(メタ)アクリル系の不飽和結合を含有する
一般式(I) 又は一般式(II) (式中、R1、R2及びR3は同一又は相互に異なるもの
であって、水素原子又はメチル基であり、R4は少なく
とも1のジオールのC2-10(イソ)アルキル残基である)
で表されるものの中から選ばれるウレタン化合物を包含
してなる液状組成物に係る。
介して重合される液状組成物において、基本的に、スチ
レン系又は(メタ)アクリル系の不飽和結合を含有する
一般式(I) 又は一般式(II) (式中、R1、R2及びR3は同一又は相互に異なるもの
であって、水素原子又はメチル基であり、R4は少なく
とも1のジオールのC2-10(イソ)アルキル残基である)
で表されるものの中から選ばれるウレタン化合物を包含
してなる液状組成物に係る。
【0018】本発明による一般式(I)又は(II)で表
される好適なウレタン化合物は、R4が−CH2CH2−、−C
H2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2CH2−の1
つで表されるジオールのアルキル残基であるものであ
る。
される好適なウレタン化合物は、R4が−CH2CH2−、−C
H2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2CH2−の1
つで表されるジオールのアルキル残基であるものであ
る。
【0019】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物は、単独で又は相互に混合して使用され、又は
アクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/又は
スチレン系の1以上の反応性希釈剤と混合され、又は不
飽和基を含有する反応性化合物と混合される。
ン化合物は、単独で又は相互に混合して使用され、又は
アクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/又は
スチレン系の1以上の反応性希釈剤と混合され、又は不
飽和基を含有する反応性化合物と混合される。
【0019】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物はあらゆる割合で相互に混合される。
ン化合物はあらゆる割合で相互に混合される。
【0020】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物(そのまま又は相互の混合物として)が混合さ
れるアクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/
又はスチレン系の反応性希釈剤は、1以上の不飽和結合
を含有するモノ−、ジ−又は多官能性でる。これらの希
釈剤は、高い屈折率、低い粘性及び良好な光学特性を有
するアクリル系、メタクリル系及びスチレン系化合物に
属するものの中から選ばれる。
ン化合物(そのまま又は相互の混合物として)が混合さ
れるアクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/
又はスチレン系の反応性希釈剤は、1以上の不飽和結合
を含有するモノ−、ジ−又は多官能性でる。これらの希
釈剤は、高い屈折率、低い粘性及び良好な光学特性を有
するアクリル系、メタクリル系及びスチレン系化合物に
属するものの中から選ばれる。
【0021】アクリレート系及び/又はメタクリレート
系の反応性希釈剤の例(本発明の目的を限定するもので
はない)としては、ヘキサンジオールジアクリレート、
ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、フ
ェノキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、及びイソボルニルメタクリレート 、2−ナフチルメタクリレート 、(o,m,p)−フェニレンジメタクリレート 、メチルチオメタクリレート CH3−S−CO−C(CH3)=CH2 、チオジエチレンジメタクリレート CH2=C(CH3)−COO−CH2−CH2−S−CH2−CH2−OCO−C(CH
3)=CH2 、ジエチレングリコールジメタクリレート CH2=C(CH3)−COO−CH2−CH2−O−CH2−CH2−OCO−C(CH
3)=CH2 、及び相当するアクリレートがある。
系の反応性希釈剤の例(本発明の目的を限定するもので
はない)としては、ヘキサンジオールジアクリレート、
ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、フ
ェノキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、及びイソボルニルメタクリレート 、2−ナフチルメタクリレート 、(o,m,p)−フェニレンジメタクリレート 、メチルチオメタクリレート CH3−S−CO−C(CH3)=CH2 、チオジエチレンジメタクリレート CH2=C(CH3)−COO−CH2−CH2−S−CH2−CH2−OCO−C(CH
3)=CH2 、ジエチレングリコールジメタクリレート CH2=C(CH3)−COO−CH2−CH2−O−CH2−CH2−OCO−C(CH
3)=CH2 、及び相当するアクリレートがある。
【0022】スチレン系の反応性希釈剤の例としては、
m−ジビニルベンゼン、m−エチルビニルベンゼン、ス
チレン、α−メチルスチレン、(o,m,p)−クロロス
チレン、(o,m,p)−ブロモスチレン、2−イソプロ
ペニルナフタレンがある。
m−ジビニルベンゼン、m−エチルビニルベンゼン、ス
チレン、α−メチルスチレン、(o,m,p)−クロロス
チレン、(o,m,p)−ブロモスチレン、2−イソプロ
ペニルナフタレンがある。
【0023】上述の希釈剤は、好ましくは一般式(I)
又は(II)で表されるウレタン化合物(単独又はこれら
の混合物)に該化合物の合成が完了した時点で添加され
る。
又は(II)で表されるウレタン化合物(単独又はこれら
の混合物)に該化合物の合成が完了した時点で添加され
る。
【0024】本発明の液状組成物が可及的に希釈される
アクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/又は
スチレン系の反応性希釈剤の量は、ウレタン化合物/希
釈剤の重量比が99/1〜45/55となる量である。
アクリレート系及び/又はメタクリレート系及び/又は
スチレン系の反応性希釈剤の量は、ウレタン化合物/希
釈剤の重量比が99/1〜45/55となる量である。
【0025】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物(そのまま又は相互に混合して)でなる液状組
成物が可及的に混合される不飽和基を含有する反応性化
合物は、モノ−、ジ−又は多官能性であり、1又は2以
上の不飽和結合を含有する。
ン化合物(そのまま又は相互に混合して)でなる液状組
成物が可及的に混合される不飽和基を含有する反応性化
合物は、モノ−、ジ−又は多官能性であり、1又は2以
上の不飽和結合を含有する。
【0026】本発明の目的に適する不飽和基を含有する
反応性化合物の例(本発明を限定しない)は、a)イタ
リー国特許出願MI92A001276号に開示された如き構造式 (式中、R′は炭素原子2〜19個及びイオウ又は酸素原
子1又は2個を含有するグリコール、ポリオール、ポリ
チオール、ジメルカプタンのアルキル又はシクロアルキ
ル残基であり;R1、R2及びR3は同一又は相互に異な
るものであって、水素原子又はメチル基であり;Xは酸
素又はイオウ原子であり;nは2又は3である)で表さ
れるスチレン−ウレタン樹脂、又はb)英国特許第2,07
6,836号及び西独国特許第4,010,783号に開示された如き
一般式 (式中、R1′は水素原子又はメチル基であり;R2′は
−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH(CH3)−、又は−
CH2CH(OH)CH2−であり;Yは酸素原子又は−SO2−、−C
H2−又は−C(CH3)2−であり;X′は塩素又は臭素原子
であり;mは0、1又は2である)で表されるビス(ア
ルキレンオキシフェニル)ジアクリレート又はジメタク
リレートである。
反応性化合物の例(本発明を限定しない)は、a)イタ
リー国特許出願MI92A001276号に開示された如き構造式 (式中、R′は炭素原子2〜19個及びイオウ又は酸素原
子1又は2個を含有するグリコール、ポリオール、ポリ
チオール、ジメルカプタンのアルキル又はシクロアルキ
ル残基であり;R1、R2及びR3は同一又は相互に異な
るものであって、水素原子又はメチル基であり;Xは酸
素又はイオウ原子であり;nは2又は3である)で表さ
れるスチレン−ウレタン樹脂、又はb)英国特許第2,07
6,836号及び西独国特許第4,010,783号に開示された如き
一般式 (式中、R1′は水素原子又はメチル基であり;R2′は
−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH(CH3)−、又は−
CH2CH(OH)CH2−であり;Yは酸素原子又は−SO2−、−C
H2−又は−C(CH3)2−であり;X′は塩素又は臭素原子
であり;mは0、1又は2である)で表されるビス(ア
ルキレンオキシフェニル)ジアクリレート又はジメタク
リレートである。
【0027】本発明の液状組成物は、ラジカル重合反応
開始剤(過酸化物又はアゾ化合物)及び任意に安定剤、
漂白剤、染料、離型剤等の他の添加剤も包含する。
開始剤(過酸化物又はアゾ化合物)及び任意に安定剤、
漂白剤、染料、離型剤等の他の添加剤も包含する。
【0028】ラジカル重合反応開始剤は、ペルエステル
(たとえばt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノ
エート)、ペルカーボネート(たとえばジシクロヘキシ
ルペルカーボネート)又はジアシルペルオキシド(たと
えばジベンゾイルペルオキシド)に属する過酸化物であ
る。これらは0.01〜5重量%、好ましくは0.1〜3重量
%の割合で液状組成物に添加される。
(たとえばt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノ
エート)、ペルカーボネート(たとえばジシクロヘキシ
ルペルカーボネート)又はジアシルペルオキシド(たと
えばジベンゾイルペルオキシド)に属する過酸化物であ
る。これらは0.01〜5重量%、好ましくは0.1〜3重量
%の割合で液状組成物に添加される。
【0029】過酸化物に代わり、たとえばアゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等の如き
ジアゾ誘導体を使用できる。使用する場合、アゾ化合物
の割合は0.001〜0.5重量%、好ましくは0.01〜0.2重量
%である。
ブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等の如き
ジアゾ誘導体を使用できる。使用する場合、アゾ化合物
の割合は0.001〜0.5重量%、好ましくは0.01〜0.2重量
%である。
【0030】たとえば染料、UV吸収剤等の如き上述の他
の添加剤を本発明の液状組成物に添加できる。しかしな
がら、これらの割合は比較的小さく、下記の主成分でな
る組成物に関して1重量%を越えない。−一般式(I)
又は(II)で表されるウレタン化合物(そのまま又は相
互に混合されたもの); −反応性希釈剤又は不飽和基を含有する反応性化合物; −重合反応開始剤; −染料、UV吸収剤等の如き他の任意成分。
の添加剤を本発明の液状組成物に添加できる。しかしな
がら、これらの割合は比較的小さく、下記の主成分でな
る組成物に関して1重量%を越えない。−一般式(I)
又は(II)で表されるウレタン化合物(そのまま又は相
互に混合されたもの); −反応性希釈剤又は不飽和基を含有する反応性化合物; −重合反応開始剤; −染料、UV吸収剤等の如き他の任意成分。
【0031】本発明は、一般式(I)又は(II)で表さ
れるウレタン化合物の製法にも係る。
れるウレタン化合物の製法にも係る。
【0032】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物の製法は、一般式(III) (式中、R1、R2及びR3は前記と同意義である)で表
されるイソシアネート1モルと、一般式(IV) (式中、R1及びR4は前記と同意義である)又は構造式
(V) に相当するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート及び
/又はシンナムアルコール1モルとを反応させることを包
含してなる。
ン化合物の製法は、一般式(III) (式中、R1、R2及びR3は前記と同意義である)で表
されるイソシアネート1モルと、一般式(IV) (式中、R1及びR4は前記と同意義である)又は構造式
(V) に相当するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート及び
/又はシンナムアルコール1モルとを反応させることを包
含してなる。
【0033】この反応は、一般に、一般式(IV)で表さ
れるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート又は構造式
(V)を有するシンナムアルコールを一般式(III)で
表されるイソシアネートに添加し、又は逆に添加し、反
応時間2〜24時間、温度20〜120℃で行われる。
れるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート又は構造式
(V)を有するシンナムアルコールを一般式(III)で
表されるイソシアネートに添加し、又は逆に添加し、反
応時間2〜24時間、温度20〜120℃で行われる。
【0034】一般式(I)又は(II)で表されるウレタ
ン化合物の合成反応は、たとえばスズの有機金属誘導体
(スズジブチルジラウレート)及び第3級アミン又はこ
れらの組合せの如きウレタンの合成で通常使用される一
般的な触媒(Saunders及びFrisch,Polyurethanes Chem
istry and Technology,Interscience,New York,196
4)によって促進される。これら触媒の量は一般に2つ
の反応体(一般式(III)のイソシアネート+一般式(I
V)のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート又は構造
式(V)のシンナムアルコール)の合計重量の0.01〜1
重量%である。
ン化合物の合成反応は、たとえばスズの有機金属誘導体
(スズジブチルジラウレート)及び第3級アミン又はこ
れらの組合せの如きウレタンの合成で通常使用される一
般的な触媒(Saunders及びFrisch,Polyurethanes Chem
istry and Technology,Interscience,New York,196
4)によって促進される。これら触媒の量は一般に2つ
の反応体(一般式(III)のイソシアネート+一般式(I
V)のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート又は構造
式(V)のシンナムアルコール)の合計重量の0.01〜1
重量%である。
【0035】一般式(III)で表されるイソシアネート
のスチレン部分の重合反応を回避するためラジカル重合
反応開始剤を反応媒体に添加できる。これらの開始剤の
量は非常に少なく、2つの反応体の合計量の0.001〜1
重量%である。
のスチレン部分の重合反応を回避するためラジカル重合
反応開始剤を反応媒体に添加できる。これらの開始剤の
量は非常に少なく、2つの反応体の合計量の0.001〜1
重量%である。
【0036】ウレタンの生成反応は発熱性であり、イソ
シアネートへのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
又はシンナムアルコールの添加又はその逆の添加の間、
温度を制御することが必要である。好適な温度範囲は50
〜70℃である。
シアネートへのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
又はシンナムアルコールの添加又はその逆の添加の間、
温度を制御することが必要である。好適な温度範囲は50
〜70℃である。
【0037】反応は反応性希釈剤又はこれらの一部(上
述した如く、希釈剤の一部は合成が完了した時点で好ま
しくはウレタン化合物に添加される)の存在下で行われ
る。
述した如く、希釈剤の一部は合成が完了した時点で好ま
しくはウレタン化合物に添加される)の存在下で行われ
る。
【0038】本発明は、上述のラジカル架橋によって得
られる高屈折率を有する有機ガラスにも係る。
られる高屈折率を有する有機ガラスにも係る。
【0039】この目的のため、本発明の液状組成物を固
状の型(一般にガラス製であり、その形及びサイズは最
終製品の所望の形状に応じて変化する)に注入する。
状の型(一般にガラス製であり、その形及びサイズは最
終製品の所望の形状に応じて変化する)に注入する。
【0040】本発明の液状組成物を1〜48時間、温度40
〜130℃において熱硬化させる。
〜130℃において熱硬化させる。
【0041】しかしながら、高屈折率を有する有機ガラ
スを製造する上記液状組成物の架橋は、一般に2つの独
特な工程で行われる。
スを製造する上記液状組成物の架橋は、一般に2つの独
特な工程で行われる。
【0042】第1工程では、架橋すべき組成物を、所望
の最終製品の形状を有する型内で、ラジカル開始剤の半
減期(10時間)に相当するよりも数10℃低い温度に加熱
する。組成物を当該温度に6〜15時間維持する。
の最終製品の形状を有する型内で、ラジカル開始剤の半
減期(10時間)に相当するよりも数10℃低い温度に加熱
する。組成物を当該温度に6〜15時間維持する。
【0043】第2工程では、架橋すべき組成物を第1工
程よりも30〜50℃高い温度に1〜6時間維持する。
程よりも30〜50℃高い温度に1〜6時間維持する。
【0044】上述の組成物の架橋は酸素の存在によって
遅延されるため、組成物の正確な硬化のためには空気が
存在してはならない。
遅延されるため、組成物の正確な硬化のためには空気が
存在してはならない。
【0045】公知技術とは異なり、本発明の液状組成物
は下記の利点を有する。 −これらは、一般式(I)又は(II)で表される特別な
種類のウレタン化合物のため、該組成物に対して高割合
の芳香族核を含有する。 −これらの成分はいずれも良好に限定された構造を有
し、公知の技術ではしばしば見られるような重合体系の
副生物を生じない。 −これらは特に低い粘性を有するが、容易に調節され
る。 −これらは、従来技術の組成物(特開昭60−249101号)
に関してしばしば見られるように使用直前に2つの異な
る混合物を合わせることが必要ではないという点で一成
分系を有する。 −一般式(I)又は(II)で表されるウレタン化合物の
合成において、低毒性であるとの特性を有する一般式
(III)の化合物を使用し、加えて、市販品として容易
に入手できかつ全く安価な化合物を使用できる。 −最後に、本発明の組成物の架橋によって、良好な透明
性、硬さ及び良好な加工性を有することを特徴とする高
屈折率の有機ガラスが得られる。
は下記の利点を有する。 −これらは、一般式(I)又は(II)で表される特別な
種類のウレタン化合物のため、該組成物に対して高割合
の芳香族核を含有する。 −これらの成分はいずれも良好に限定された構造を有
し、公知の技術ではしばしば見られるような重合体系の
副生物を生じない。 −これらは特に低い粘性を有するが、容易に調節され
る。 −これらは、従来技術の組成物(特開昭60−249101号)
に関してしばしば見られるように使用直前に2つの異な
る混合物を合わせることが必要ではないという点で一成
分系を有する。 −一般式(I)又は(II)で表されるウレタン化合物の
合成において、低毒性であるとの特性を有する一般式
(III)の化合物を使用し、加えて、市販品として容易
に入手できかつ全く安価な化合物を使用できる。 −最後に、本発明の組成物の架橋によって、良好な透明
性、硬さ及び良好な加工性を有することを特徴とする高
屈折率の有機ガラスが得られる。
【0046】下記の実施例は本発明がさらに良好に理解
されるように例示するものであって、その具体例は本発
明を限定するものではない。
されるように例示するものであって、その具体例は本発
明を限定するものではない。
【0047】後述の表1は、実施例1〜12で使用する化
合物及び触媒の種類及び割合(重量%)を示す。
合物及び触媒の種類及び割合(重量%)を示す。
【0048】表2は、実施例1〜12に従って操作するこ
とによって得られたガラスの特性に関するデータを示
す。
とによって得られたガラスの特性に関するデータを示
す。
【0049】nD 20屈折率及び分散ファクターに相当す
るZ値をAbbe屈折計で測定した(ASTM D524)。
るZ値をAbbe屈折計で測定した(ASTM D524)。
【0050】光透過についてはGardner Hazegard XL211
を使用して測定した(ASTM D1003)。
を使用して測定した(ASTM D1003)。
【0051】ロックウエル硬さ(M)についてはロック
ウエルジュロメーターによって測定した(ASTM D78
5)。
ウエルジュロメーターによって測定した(ASTM D78
5)。
【0052】
【実施例1】機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び窒
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mg
を添加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6
5.5g(0.5モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混
合物全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反
応が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸
収バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続
けた。nD 20屈折率1.5252及び密度1.084を有する無色透
明の液状物を得た(混合物A)。室温に冷却した混合物
A 100gに触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO)0.6g(0.6重量%)を添加した。
ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビ
ニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片で
なる好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で
14時間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加
熱サイクルに従って架橋させた。
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mg
を添加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6
5.5g(0.5モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混
合物全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反
応が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸
収バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続
けた。nD 20屈折率1.5252及び密度1.084を有する無色透
明の液状物を得た(混合物A)。室温に冷却した混合物
A 100gに触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO)0.6g(0.6重量%)を添加した。
ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビ
ニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片で
なる好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で
14時間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加
熱サイクルに従って架橋させた。
【0053】
【実施例2】室温に冷却した混合物A 100gに、ジエチ
レングリコールジメタクリレート(EGDMA)17.6g及び
触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエー
ト(tBPO、1.5重量%)を添加した。ついで、混合物を
脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)シー
ルで分離されたガラス製の2つの片でなる好適な型に移
し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時間、3時間で
70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サイクルに従っ
て架橋させた。
レングリコールジメタクリレート(EGDMA)17.6g及び
触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエー
ト(tBPO、1.5重量%)を添加した。ついで、混合物を
脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)シー
ルで分離されたガラス製の2つの片でなる好適な型に移
し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時間、3時間で
70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サイクルに従っ
て架橋させた。
【0054】
【実施例3】室温に冷却した混合物A 90gに、スチレ
ン10g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
ン10g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
【0055】
【実施例4】室温に冷却した混合物A 70gに、スチレ
ン30g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
ン30g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘ
キサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
【0056】
【実施例5】室温に冷却した混合物A 34gに、ビスフ
ェノールAジエトキシレートジメタクリレート(DKS In
ternational社のBPEM2−T)45g及び触媒のt−ブチル
ペルオキシ−2−エチルヘキサノエート(tBPO、0.6重
量%)を添加した。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mm
の可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)シールで分離されたガ
ラス製の2つの片でなる好適な型に移し、45℃で2時
間、60℃で15時間、70℃で5時間及び80℃で3時間の加
熱サイクルに従って架橋させた。
ェノールAジエトキシレートジメタクリレート(DKS In
ternational社のBPEM2−T)45g及び触媒のt−ブチル
ペルオキシ−2−エチルヘキサノエート(tBPO、0.6重
量%)を添加した。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mm
の可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)シールで分離されたガ
ラス製の2つの片でなる好適な型に移し、45℃で2時
間、60℃で15時間、70℃で5時間及び80℃で3時間の加
熱サイクルに従って架橋させた。
【0057】
【実施例6】機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び窒
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mg
を添加したシンナムアルコール(ACINN)67.1g(0.5モ
ル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合物全体を
温度60〜65℃に維持し、この温度において反応が完了す
るまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収バンド)
が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続けた。nD
20屈折率1.5785を有する透明の液状物を得た(混合物
B)。室温に冷却した混合物B 70gに、ヘキサジオー
ルジアクリレート(EDDA)10g、ベンジルメタクリレー
ト(BzMA)20g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−
エチルヘキサノエート(tBPO、2.5重量%)を添加し
た。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩
化ビニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの
片でなる好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70
℃で14時間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間
の加熱サイクルに従って架橋させた。
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mg
を添加したシンナムアルコール(ACINN)67.1g(0.5モ
ル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合物全体を
温度60〜65℃に維持し、この温度において反応が完了す
るまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収バンド)
が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続けた。nD
20屈折率1.5785を有する透明の液状物を得た(混合物
B)。室温に冷却した混合物B 70gに、ヘキサジオー
ルジアクリレート(EDDA)10g、ベンジルメタクリレー
ト(BzMA)20g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−
エチルヘキサノエート(tBPO、2.5重量%)を添加し
た。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩
化ビニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの
片でなる好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70
℃で14時間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間
の加熱サイクルに従って架橋させた。
【0058】
【実施例7】機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び窒
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、シンナムアルコール(ACINN)33.5g(0.25モ
ル)及び予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mgを
添加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)32.5
g(0.25モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合
物全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反応
が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収
バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続け
た。nD 20屈折率1.5552を有する透明で均質な液状物を
得た(混合物C)。室温に冷却した混合物C 80gに、
スチレン8.5g、ベンジルメタクリレート(BzMA)11g
及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノ
エート(tBPO、2.5重量%)を添加した。ついで、混合
物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)
シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適な型
に移し、5時間で60℃から70℃へ、70℃で14時間、3時
間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サイクルに
従って架橋させた。
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)10
0.5g(0.5モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル
(HQMME)25mg(150ppm)を充填した。混合物を60℃に
加熱し、シンナムアルコール(ACINN)33.5g(0.25モ
ル)及び予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mgを
添加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)32.5
g(0.25モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合
物全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反応
が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収
バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続け
た。nD 20屈折率1.5552を有する透明で均質な液状物を
得た(混合物C)。室温に冷却した混合物C 80gに、
スチレン8.5g、ベンジルメタクリレート(BzMA)11g
及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノ
エート(tBPO、2.5重量%)を添加した。ついで、混合
物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PVC)
シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適な型
に移し、5時間で60℃から70℃へ、70℃で14時間、3時
間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サイクルに
従って架橋させた。
【0059】
【実施例8】室温に冷却した混合物A 35g及び混合物
B 35g、スチレン20g、ベンジルメタクリレート(BzM
A)10g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチル
ヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を混合した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
B 35g、スチレン20g、ベンジルメタクリレート(BzM
A)10g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチル
ヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を混合した。つい
で、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル
(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる
好適な型に移し、6時間で50℃から70℃へ、70℃で14時
間、3時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
【0060】
【実施例9】機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び窒
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)201
g(1モル)、ヒドロキノンモノメチルエーテル(HQMM
E)25mg(150ppm)及びチオジエチレングリコール(TD
G)21.3g(0.175モル)を充填した。混合物を60℃に加熱
し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mgを添
加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)84.5g
(0.65モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合物
全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反応が
完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収バ
ンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続け
た。nD 20屈折率1.5357を有する透明で均質な液状物を
得た(混合物D)。室温に冷却した混合物D 86.5g
に、スチレン13.5g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−
2−エチルヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加
した。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ
塩化ビニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つ
の片でなる好適な型に移し、60℃で16時間、70℃で7.5
時間、1時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱
サイクルに従って架橋させた。
素弁を具備する4頸フラスコ(250ml)に、ジメチル−
m−イソプロペニルベンジルイソシアネート(TMI)201
g(1モル)、ヒドロキノンモノメチルエーテル(HQMM
E)25mg(150ppm)及びチオジエチレングリコール(TD
G)21.3g(0.175モル)を充填した。混合物を60℃に加熱
し、予めスズジブチルジラウレート(SnDBL)25mgを添
加したヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)84.5g
(0.65モル)を撹拌下に滴加した。添加を行う間、混合物
全体を温度60〜65℃に維持し、この温度において反応が
完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸収バ
ンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続け
た。nD 20屈折率1.5357を有する透明で均質な液状物を
得た(混合物D)。室温に冷却した混合物D 86.5g
に、スチレン13.5g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−
2−エチルヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加
した。ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ
塩化ビニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つ
の片でなる好適な型に移し、60℃で16時間、70℃で7.5
時間、1時間で70℃から100℃へ、100℃で1時間の加熱
サイクルに従って架橋させた。
【0061】
【実施例10】室温に冷却した混合物B(実施例6に記
載の如くして得たもの)25gに、ビスフェノールAジエ
トキシレートジメタクリレート(DSK International社
のBPEM2−T)25g、ベンジルメタクリレート(BzMA)10
g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。ついで、混
合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PV
C)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適
な型に移し、50℃で3時間、60℃で15時間、70℃で3時
間、80℃で3時間、90℃で1時間及び100℃で1時間の
加熱サイクルに従って架橋させた。
載の如くして得たもの)25gに、ビスフェノールAジエ
トキシレートジメタクリレート(DSK International社
のBPEM2−T)25g、ベンジルメタクリレート(BzMA)10
g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。ついで、混
合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PV
C)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適
な型に移し、50℃で3時間、60℃で15時間、70℃で3時
間、80℃で3時間、90℃で1時間及び100℃で1時間の
加熱サイクルに従って架橋させた。
【0062】
【実施例11】機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び
窒素弁を具備する4頸フラスコに、ジメチル−m−イソ
プロペニルベンジルイソシアネート(TMI)200g(0.99
モル)、ビスフェノールAジエトキシレート(BPHE)71g
(0.225モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル(HQM
ME)2gを充填した。混合物を50℃に加熱し、スズジブ
チルジラウレート(SnDBL)30mgを撹拌下に添加した。
混合物全体を温度65〜75℃で、ビスフェノールAジエト
キシレートが完全に溶解するまで撹拌下に維持した。さ
らに、ジメチル−m−イソプロペニルベンジルイソシア
ネート(TMI)101.5g(0.5モル)を添加し、温度を60℃
とした。ついで、ヒドロキシエチルメタクリレート(HE
MA)136.5g(1.05モル)を滴加した。添加を行う間、混
合物全体を温度60〜65℃に加熱し、この温度において反
応が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸
収バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続
けた。nD 20屈折率1.5420を有する無色透明な液状物を
得た(混合物E)。室温に冷却した混合物E 19.4g
に、スチレン4g、ベンジルメタクリレート(BzMA)2
g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート(tBPO、0.64重量%)を添加した。ついで、混
合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PV
C)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適
な型に移し、65℃で18時間、75℃で7時間、85℃で16時
間、95℃で1時間、105℃で2時間の加熱サイクルに従
って架橋させた。
窒素弁を具備する4頸フラスコに、ジメチル−m−イソ
プロペニルベンジルイソシアネート(TMI)200g(0.99
モル)、ビスフェノールAジエトキシレート(BPHE)71g
(0.225モル)及びヒドロキノンモノメチルエーテル(HQM
ME)2gを充填した。混合物を50℃に加熱し、スズジブ
チルジラウレート(SnDBL)30mgを撹拌下に添加した。
混合物全体を温度65〜75℃で、ビスフェノールAジエト
キシレートが完全に溶解するまで撹拌下に維持した。さ
らに、ジメチル−m−イソプロペニルベンジルイソシア
ネート(TMI)101.5g(0.5モル)を添加し、温度を60℃
とした。ついで、ヒドロキシエチルメタクリレート(HE
MA)136.5g(1.05モル)を滴加した。添加を行う間、混
合物全体を温度60〜65℃に加熱し、この温度において反
応が完了するまで(NCO基のIRシグナル(2260cm-1の吸
収バンド)が消失する;一般に2〜3時間後)撹拌を続
けた。nD 20屈折率1.5420を有する無色透明な液状物を
得た(混合物E)。室温に冷却した混合物E 19.4g
に、スチレン4g、ベンジルメタクリレート(BzMA)2
g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート(tBPO、0.64重量%)を添加した。ついで、混
合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビニル(PV
C)シールで分離されたガラス製の2つの片でなる好適
な型に移し、65℃で18時間、75℃で7時間、85℃で16時
間、95℃で1時間、105℃で2時間の加熱サイクルに従
って架橋させた。
【0063】
【実施例12】室温に冷却した混合物E 21.6gに、ス
チレン5.4g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エ
チルヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。
ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビ
ニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片で
なる好適な型に移し、60℃で16時間、75℃で8時間、85
℃で16時間、90℃で3時間及び100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
チレン5.4g及び触媒のt−ブチルペルオキシ−2−エ
チルヘキサノエート(tBPO、0.6重量%)を添加した。
ついで、混合物を脱気し、厚さ2mmの可塑化ポリ塩化ビ
ニル(PVC)シールで分離されたガラス製の2つの片で
なる好適な型に移し、60℃で16時間、75℃で8時間、85
℃で16時間、90℃で3時間及び100℃で1時間の加熱サ
イクルに従って架橋させた。
【0064】
【表1】
【0065】
【表2】
Claims (14)
- 【請求項1】熱的に又はラジカルを介して重合される液
状組成物において、基本的に、スチレン系又は(メタ)
アクリル系の不飽和結合を含有する一般式(I) 又は一般式(II) (式中、R1、R2及びR3は同一又は相互に異なるもの
であって、水素原子又はメチル基であり、R4は少なく
とも1のジオールのC2-10(イソ)アルキル残基である)
で表されるものの中から選ばれるウレタン化合物を包含
してなる、液状組成物。 - 【請求項2】請求項1記載のものにおいて、前記一般式
(I)又は(II)で表されるウレタン化合物が、該一般
式のR4が−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH2
−、−CH2CH2CH2CH2−の1つで表されるジオールのアル
キル残基であるものである、液状組成物。 - 【請求項3】請求項1又は2記載のものにおいて、前記
一般式(I)又は(II)で表されるウレタン化合物を、
単独で又は相互に混合して使用するか、又はアクリレー
ト及び/又はメタクリレート系及び/又はスチレン系の
1以上の反応性希釈剤と混合するか、又は不飽和基を含
有する反応性化合物と混合する、液状組成物。 - 【請求項4】請求項3記載のものにおいて、アクリレー
ト系及び/又はメタクリレート系及び/又はスチレン系
の反応性希釈剤がモノ−、ジ−又は多官能性である、液
状組成物。 - 【請求項5】請求項4記載のものにおいて、前記反応性
希釈剤が、高い屈折率、低い粘性及び良好な光学特性を
有するアクリル系、メタクリル系及びスチレン系化合物
に属するものの中から選ばれるものである、液状組成
物。 - 【請求項6】請求項4又は5記載のものにおいて、アク
リレート系及び/又はメタクリル系の前記反応性希釈剤
が、ヘキサンジオールジアクリレート、ベンジルメタク
リレート、フェニルメタクリレート、フェノキシエチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソ
ボルニルメタクリレート、2−ナフチルメタクリレー
ト、(o,m,p)−フェニレンジメタクリレート、メチ
ルチオメタクリレート、チオジエチレンジメタクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、及び相当
するアクリレートの中から選ばれるものである、液状組
成物。 - 【請求項7】請求項4又は5記載のものにおいて、スチ
レン系の前記反応性希釈剤が、m−ジビニルベンゼン、
m−エチルビニルベンゼン、スチレン、α−メチルスチ
レン、(o,m,p)−クロロスチレン、(o,m,p)−
ブロモスチレン、2−イソプロペニルナフタレンの中か
ら選ばれるものである、液状組成物。 - 【請求項8】請求項3〜7のいずれか1項記載のものに
おいて、アクリレート系及び/又はメタクリレート系及
び/又はスチレン系の反応性希釈剤の量が、ウレタン化
合物/反応性希釈剤の重量比が99/1〜45/55となる量
である、液状組成物。 - 【請求項9】請求項3記載のものにおいて、不飽和基を
含有する反応性化合物がモノ−、ジ−又は多官能性であ
る、液状組成物。 - 【請求項10】請求項9記載のものにおいて、不飽和基
を含有する反応性化合物が、a)構造式 (式中、R′は炭素原子2〜19個及びイオウ又は酸素原
子1又は2個を含有するグリコール、ポリオール、ポリ
チオール、ジメルカプタンのアルキル又はシクロアルキ
ル残基であり;R1、R2及びR3は同一又は相互に異な
るものであって、水素原子又はメチル基であり;Xは酸
素又はイオウ原子であり;nは2又は3である)で表さ
れるスチレン−ウレタン樹脂、又はb)一般式 (式中、R1′は水素原子又はメチル基であり;R2′は
−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH(CH3)−、又は−
CH2CH(OH)CH2−であり;Yは酸素原子又は−SO2−、−C
H2−又は−C(CH3)2−であり;X′は塩素又は臭素原子
であり;mは0、1又は2である)で表されるビス(ア
ルキレンオキシフェニル)ジアクリレート又はジメタク
リレートである、液状組成物。 - 【請求項11】請求項1〜10のいずれか1項記載のもの
において、ラジカル重合反応開始剤、安定剤、漂白剤、
離型剤、染料、UV吸収剤を含有してなる、液状組成物。 - 【請求項12】一般式(I)又は(II)で表されるウレ
タン化合物の製法において、一般式(III) (式中、R1、R2及びR3は前記と同意義である)で表
されるイソシアネート1モルと、一般式(IV) (式中、R1及びR4は前記と同意義である)又は構造式
(V) に相当するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート及び
/又はシンナムアルコール1モルとを反応させることを特
徴とする、ウレタン化合物の製法。 - 【請求項13】請求項12記載の製法において、前記反応
を、一般式(IV)で表されるヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート又は構造式(V)を有するシンナムアルコ
ールを一般式(III)で表されるイソシアネートに添加
し、又は逆に添加し、反応時間2〜24時間、温度20〜12
0℃で行う、ウレタン化合物の製法。 - 【請求項14】請求項1〜11記載の液状組成物を過酸化
物0.01〜5重量%又はアゾ誘導体0.001〜0.5重量%の存
在下でラジカル架橋することによって得られた高屈折率
を有する有機ガラス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ITMI922813A IT1256639B (it) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | Vetri organici ad elevato indice di rifrazione |
IT92A002813 | 1992-12-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06279541A true JPH06279541A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=11364435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5340336A Withdrawn JPH06279541A (ja) | 1992-12-11 | 1993-12-09 | 液状組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0601661A3 (ja) |
JP (1) | JPH06279541A (ja) |
IT (1) | IT1256639B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
JP2641763B2 (ja) * | 1988-06-09 | 1997-08-20 | 三井東圧化学株式会社 | 高硬度透明樹脂 |
BR9000917A (pt) * | 1989-03-01 | 1991-02-13 | Mitsui Toatsu Chemicals | Processo para preparar uma resina transparente de elevada dureza,processo para preparar um monomero,material de envidracamento,cobertura protetora,lente otica,material de revestimento duro e processo para preparar uma camada de revestimento duro |
US5393607A (en) * | 1992-01-13 | 1995-02-28 | Mitsui Toatsu Chemiclas, Inc. | Laminated transparent plastic material and polymerizable monomer |
-
1992
- 1992-12-11 IT ITMI922813A patent/IT1256639B/it active IP Right Grant
-
1993
- 1993-12-04 EP EP19930203412 patent/EP0601661A3/en not_active Withdrawn
- 1993-12-09 JP JP5340336A patent/JPH06279541A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0601661A2 (en) | 1994-06-15 |
ITMI922813A1 (it) | 1994-06-11 |
ITMI922813A0 (it) | 1992-12-11 |
EP0601661A3 (en) | 1994-07-27 |
IT1256639B (it) | 1995-12-12 |
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