JPH06256565A - 感放射線性樹脂組成物の調製法 - Google Patents

感放射線性樹脂組成物の調製法

Info

Publication number
JPH06256565A
JPH06256565A JP4301693A JP4301693A JPH06256565A JP H06256565 A JPH06256565 A JP H06256565A JP 4301693 A JP4301693 A JP 4301693A JP 4301693 A JP4301693 A JP 4301693A JP H06256565 A JPH06256565 A JP H06256565A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
sensitive
resin composition
alkali
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4301693A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3303393B2 (ja
Inventor
Kenji Takahashi
憲司 高橋
Yukio Hanamoto
幸夫 花元
Hiroshi Moriba
洋 森馬
Nobuo Ando
信雄 安藤
Masataka Hiroya
正孝 廣谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP4301693A priority Critical patent/JP3303393B2/ja
Publication of JPH06256565A publication Critical patent/JPH06256565A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3303393B2 publication Critical patent/JP3303393B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 比較的大きい非溶解粒子数が調製時及び長期
保存後に少ない、感放射線性樹脂組成物の調製法を提供
する。 【構成】 アルカリ可溶性樹脂、感放射線性化合物及び
溶剤を含む感放射線性樹脂組成物の調製法であって、ア
ルカリ可溶性樹脂、感放射線性化合物及び溶剤を約50〜
約70℃で混合することを特徴とする感放射線性樹脂組成
物の調製法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感放射線性化合物、アル
カリ可溶性樹脂及び溶剤を含む感放射線性樹脂組成物の
調製法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感放射線性樹脂組成物は感放射線
性化合物及びアルカリ可溶性樹脂を室温近辺の温度で溶
剤と混合することにより調製されていた。しかしなが
ら、この調製法では、感放射線性化合物、アルカリ可溶
性樹脂及び溶剤の組合せ等により、上記樹脂組成物の調
製時に感放射線性化合物等の固形分の結晶が析出した
り、調製した樹脂組成物の保存、輸送時に感放射線性化
合物等の結晶が析出する場合がある。又、目視では観察
しえない非溶解粒子が上記樹脂組成物の調製時又は保存
時に多数含まれるため、このような樹脂組成物を用いる
と集積回路作製時の歩留りが悪化する場合が有った。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点を解決し、比較的大きい非溶解粒子が少なく、
又、感放射線性樹脂組成物の調製時及び保存時に固形分
の結晶が析出しない感放射線性樹脂組成物の調製法を提
供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、感放射線性化
合物、アルカリ可溶性樹脂及び溶剤を含む感放射線性樹
脂組成物の調製法であって、感放射線性化合物、アルカ
リ可溶性樹脂及び溶剤を約50〜約70℃で混合することを
特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製法である。
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。感放射線
性化合物としては、例えば1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホニルハライドもしくは1,2−ベンゾキノンジ
アジドスルホニルハライドと、フェノール化合物との縮
合生成物等が挙げられる。フェノール化合物としては、
例えば2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’,3−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,
2’,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,
5−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,3’−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4’−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3’,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,3’,5−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,4’,5−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2’,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、3,
3’,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、3,4,
4’−トリヒドロキシベンゾフェノン等のトリヒドロキ
シベンゾフェノン類、2,3,3’,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,5,5’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、2,3’,4’,5−テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、2,3’,5,5’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシ
ベンゾフェノン類、2,2’,3,4,4’−ペンタヒ
ドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4,5’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,3’,
4−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,3,3’,
4,5’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタ
ヒドロキシベンゾフェノン類、2,3,3’,4,
4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、2,
2’,3,3’,4,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、下式
【0006】
【化1】
【0007】(式中、Y1 及びY2 は少なくとも一方が
水酸基であるという条件付きで、各々水素原子、水酸基
又は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、Z1 、Z2
3 、Z4 、Z5 、Z6 及びZ7 はこれらの中、少なく
とも2つが水酸基であるという条件付きで、各々水素原
子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4のアルキル
基、炭素数5〜8のシクロアルキル基又はアリール基を
表わし、R1 、R2 、R3、R4 及びR5 は、R4 及び
5 のどちらか一方が炭素数1〜10のアルキル基、炭素
数2〜4のアルケニル基、シクロヘキシル基又はアリー
ル基であるという条件付きで、各々水素原子、炭素数1
〜10のアルキル基、炭素数2〜4のアルケニル基、シク
ロヘキシル基又はアリール基を表わす。)で示されるオ
キシフラバン類、並びに下式
【0008】
【化2】
【0009】で示される化合物等が挙げられる。
【0010】アルカリ可溶性樹脂としては、例えばフェ
ノール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類との縮合
により得られるノボラック樹脂等が挙げられる。フェノ
ール類としては、例えばフェノール、o−クレゾール、
m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノー
ル、3,5−キシレノール、3,4−キシレノール、
2,3,5−トリメチルフェノール、4−t−ブチルフ
ェノール、2−t−ブチルフェノール、3−t−ブチル
フェノール、3−エチルフェノール、2−エチルフェノ
ール、4−エチルフェノール、3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール、4−メチル−2−t−ブチルフェノー
ル、2−ナフトール、1,3−ジヒドロキシナフタレ
ン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒド
ロキシナフタレン等が挙げられる。溶剤として好ましく
はエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等
のグリコールエーテルアセテート類、酢酸エチル、酢酸
イソアミル等の酢酸エステル類又は2−ペンタノン、2
−ヘプタノン等のケトン類等が挙げられる。
【0011】感放射線性樹脂組成物には、上記感放射線
性化合物、アルカリ可溶性樹脂及び溶剤以外に、例えば
分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物等を含んでいて
もよい。分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物として
は、フェノール性水酸基を少なくとも2個以上有する化
合物が好ましい。より好ましいアルカリ可溶性化合物と
しては、例えば特開平2−275955号公報に一般式(I)
で記載されている化合物、特開平4−50851 号公報に一
般式(I)で記載されている化合物又は特開平3−1793
53号公報に一般式(I)で記載されている化合物等が挙
げられる。分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物の好
ましい使用量は感放射線性樹脂組成物の全固形分中、3
〜40重量%である。
【0012】感放射線性化合物、アルカリ可溶性樹脂及
び溶剤を約50〜約70℃で混合する際の好ましい混合方法
としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂と溶剤とを先に
混合して溶液を得、得られた溶液と感放射線性化合物と
を混合して感放射線性化合物及びアルカリ可溶性樹脂を
含む溶液を得、該溶液を約50〜約70℃で保持する方法等
が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂と溶剤とを先に混合
する際の好ましい温度及び混合時間は、各々0〜40℃及
び30分〜10時間である。より好ましい温度及び混合時間
は各々20〜30℃及び1時間〜5時間である。又、感放射
線性化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含む溶液を得る際
の好ましい温度及び混合時間は、各々0〜40℃及び30分
以上である。より好ましい温度及び混合時間は各々20〜
30℃及び1時間以上である。このようにして得られた感
放射線性化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含む溶液の温
度を約50〜約70℃まで上昇させる。上昇に要する好まし
い時間は30分〜6時間であり、より好ましい時間は1〜
3時間である。一般的には、約50〜約70℃で長時間保持
するほど調製時及び長期保存後の感放射線性樹脂組成物
中の比較的大きい非溶解粒子数が少ないが、一方で、感
放射線性樹脂組成物の基本的な性能(例えば感度、解像
度等)が悪化する傾向にあるため、好ましい保持時間は
3〜24時間であり、より好ましい保持時間は3〜12時間
である。約50〜約70℃で保持後、感放射線性化合物及び
アルカリ可溶性樹脂を含む溶液は室温まで冷却される。
冷却に要する好ましい時間は30分〜12時間であり、より
好ましい時間は1〜6時間である。以上のとおり、感放
射線性化合物、アルカリ可溶性樹脂及び溶剤が好ましく
混合される。混合に要する合計時間は好ましくは12〜12
0 時間であり、より好ましくは24〜72時間である。分子
量900 未満のアルカリ可溶性化合物を含む感放射線性樹
脂組成物を調製する場合の好ましい方法としては、例え
ばアルカリ可溶性樹脂及び上記アルカリ可溶性化合物
と、溶剤とを先に混合して溶液を得、得られた溶液と感
放射線性化合物とを混合して感放射線性化合物、上記ア
ルカリ可溶性化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含む溶液
を得、該溶液を約50〜約70℃で保持する方法等が挙げら
れる。
【0013】
【発明の効果】本発明の調製法によれば、調製時及び長
期保存時に、比較的大きい非溶解粒子数の少ない感放射
線性樹脂組成物が得られ、該樹脂組成物を用いると集積
回路作製時の歩留りを良好にすることができる。
【0014】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 合成例1 特開昭55−139375号公報に記載の方法と同様にして得ら
れた下式
【0015】
【化3】
【0016】で示される化合物27.9g、1,2−ナフト
キノンジアジド−(2) −5−スルホニルクロリド及びジ
オキサン490 gの混合物に、26〜32℃・約1時間かけて
トリエチルアミンを滴下した。滴下終了後、同温度で約
4時間反応させた。トリエチルアミン塩酸塩を濾過した
後の反応混合物をイオン交換水に注いだ。析出した結晶
を濾過、洗浄及び乾燥して感放射線性化合物A(エステ
ル化率87%)を得た。
【0017】合成例2 2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン2
5.67 g、1,2−ナフトキノンジアジド−(2) −5−
スルホニルクロリド及びジオキサン574 gの混合物に、
15〜25℃・約1時間かけてトリエチルアミンを滴下し
た。滴下終了後、同温度で約2時間反応させた。トリエ
チルアミン塩酸塩を濾過した後の反応混合物を、35〜40
℃のイオン交換水に注いだ。析出した結晶を濾過、洗浄
及び乾燥して感放射線性化合物B(エステル化率68%)
を得た。
【0018】実施例1 2−ヘプタノン1350重量部及びクレゾールノボラック樹
脂〔m−クレゾール/p−クレゾール=6/4、クレゾ
ール/ホルマリン1/0.75のモル比で蓚酸を反応触媒と
して用いて得られたポリスチレン換算重量平均分子量72
00の樹脂〕450重量部を20〜30℃で約1時間攪拌して溶
液を得た。次いで、この溶液に同温度で感放射線性化合
物A120 重量部を加え、約2時間を要して70℃まで昇温
した。同温度で3時間攪拌後、約3時間を要して30℃ま
で冷却し、同温度で12時間攪拌した。得られた混合液を
孔径0.1 μmのテフロン製フィルターで濾過して感放射
線性樹脂組成物を調製後、23℃で30日保存した。0.25μ
m以上の粒子数を、リオン(株)社製の自動微粒子計測
器(KL-20 型)を用いて測定した。
【0019】実施例2 エチルセロソルブアセテート1500重量部及び実施例1で
用いたクレゾールノボラック樹脂450 重量部を20〜30℃
で約1時間攪拌して溶液を得た。次いで、この溶液に同
温度で感放射線性化合物B150 重量部を加え、約1時間
を要して60℃まで昇温した。同温度で6時間攪拌後、約
6時間を要して30℃まで冷却し、同温度で12時間攪拌し
た。得られた混合液を孔径0.1 μmのテフロン製フィル
ターで濾過して感放射線性樹脂組成物を調製後、23℃で
30日保存した。0.25μm以上の粒子数を、リオン(株)
社製の自動微粒子計測器(KL-20 型)を用いて測定し
た。
【0020】比較例1 エチルセロソルブアセテート1500重量部、感放射線性化
合物B150 重量部及び実施例1で用いたクレゾールノボ
ラック樹脂450 重量部を30℃で25時間攪拌して混合し
た。得られた混合液を孔径0.1 μmのテフロン製フィル
ターで濾過して感放射線性樹脂組成物を調製後、23℃で
30日保存した。0.25μm以上の粒子数を、リオン(株)
社製の自動微粒子計測器(KL-20 型)を用いて測定し
た。
【0021】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 信雄 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友化学工業株式会社内 (72)発明者 廣谷 正孝 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友化学工業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感放射線性化合物、アルカリ可溶性樹脂及
    び溶剤を含む感放射線性樹脂組成物の調製法であって、
    感放射線性化合物、アルカリ可溶性樹脂及び溶剤を約50
    〜約70℃で混合することを特徴とする感放射線性樹脂組
    成物の調製法。
JP4301693A 1993-03-03 1993-03-03 感放射線性樹脂組成物の調製法 Expired - Lifetime JP3303393B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4301693A JP3303393B2 (ja) 1993-03-03 1993-03-03 感放射線性樹脂組成物の調製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4301693A JP3303393B2 (ja) 1993-03-03 1993-03-03 感放射線性樹脂組成物の調製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06256565A true JPH06256565A (ja) 1994-09-13
JP3303393B2 JP3303393B2 (ja) 2002-07-22

Family

ID=12652183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4301693A Expired - Lifetime JP3303393B2 (ja) 1993-03-03 1993-03-03 感放射線性樹脂組成物の調製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3303393B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0448720B1 (en) * 1989-09-29 1995-07-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Surface-coated hard member for cutting and abrasion-resistant tools
US5677102A (en) * 1995-03-28 1997-10-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for the preparation of photoresist solution
DE19615534C1 (de) * 1996-04-19 1998-01-15 Dresden Ev Inst Festkoerper Beschichteter Verschleißkörper
GB2436106A (en) * 2006-01-21 2007-09-19 Advanced Composites Group Ltd Resinous materials
JP2009245993A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Tokyo Electron Ltd レジスト液供給装置、レジスト液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2010082232A1 (ja) * 2009-01-15 2010-07-22 ダイセル化学工業株式会社 フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法
JP2010204306A (ja) * 2009-03-02 2010-09-16 Jsr Corp フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法
CN109456230A (zh) * 2018-11-14 2019-03-12 大晶信息化学品(徐州)有限公司 一种光敏剂的制备方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0448720B1 (en) * 1989-09-29 1995-07-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Surface-coated hard member for cutting and abrasion-resistant tools
US5677102A (en) * 1995-03-28 1997-10-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for the preparation of photoresist solution
DE19615534C1 (de) * 1996-04-19 1998-01-15 Dresden Ev Inst Festkoerper Beschichteter Verschleißkörper
GB2436106A (en) * 2006-01-21 2007-09-19 Advanced Composites Group Ltd Resinous materials
GB2436106B (en) * 2006-01-21 2011-10-19 Advanced Composites Group Ltd Resinous materials, articles made therewith and methods of producing same
JP2009245993A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Tokyo Electron Ltd レジスト液供給装置、レジスト液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR101454037B1 (ko) * 2008-03-28 2014-10-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 레지스트액 공급 장치, 레지스트액 공급 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
WO2010082232A1 (ja) * 2009-01-15 2010-07-22 ダイセル化学工業株式会社 フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法
US8753793B2 (en) 2009-01-15 2014-06-17 Daicel Chemical Industries, Ltd. Method for producing resin solution for photoresist, photoresist composition, and pattern-forming method
JP2010204306A (ja) * 2009-03-02 2010-09-16 Jsr Corp フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法
CN109456230A (zh) * 2018-11-14 2019-03-12 大晶信息化学品(徐州)有限公司 一种光敏剂的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3303393B2 (ja) 2002-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4863828A (en) Positive-working o-quinone diazide photoresist composition
JPH06167805A (ja) ポジ型レジスト組成物
US4871645A (en) Positive-working photoresist composition
JP3303393B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物の調製法
EP0458988B1 (en) Positive resist composition
JP2636348B2 (ja) ポジ型レジスト用組成物
JP3444562B2 (ja) レジスト溶液の調製方法
WO1992012205A1 (en) Positive resist composition
JPH01289947A (ja) ポジ型レジスト組成物
JPH06258824A (ja) ポジ型レジスト組成物
JPH06258825A (ja) 感放射線性樹脂組成物の調製法
JP6814421B2 (ja) レジスト組成物
US7462436B2 (en) Positive photoresist composition and method of forming resist pattern
JPH06258826A (ja) ポジ型レジスト組成物の調製法
JPH07168355A (ja) ポジ型レジスト組成物
JP3329026B2 (ja) ポジ型フォトレジスト組成物
JPH05307263A (ja) レジスト組成物の製造方法及びレジスト組成物
JP2629988B2 (ja) ポジ型レジスト組成物
US5235022A (en) Selected block copolymer novolak binder resins
JP3968763B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物
CA2062399A1 (en) Positive resist composition
JPH03150567A (ja) ポジ型フォトレジスト塗布組成物
JPH1048819A (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JP3265689B2 (ja) 感光剤、その製造方法及び該感光剤を用いてなるポジ型レジスト組成物
JP3600375B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080510

Year of fee payment: 6

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090510

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100510

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100510

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110510

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110510

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120510

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120510

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130510

EXPY Cancellation because of completion of term