JPH06243803A - 陰極線管およびその製造方法 - Google Patents

陰極線管およびその製造方法

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JPH06243803A
JPH06243803A JP5288173A JP28817393A JPH06243803A JP H06243803 A JPH06243803 A JP H06243803A JP 5288173 A JP5288173 A JP 5288173A JP 28817393 A JP28817393 A JP 28817393A JP H06243803 A JPH06243803 A JP H06243803A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 表示画像の解像度やコントラストの劣化を最
小限に抑え，外光反射を低減し，実用上十分な膜強度を
備え持つ帯電防止処理型さらには漏洩電界（ＶＬＦ帯
域）遮蔽型陰極線管を低コストで得ること。 【構成】 フェース・プレート部３側から第１層目に高
屈折率導電層を設け、第２層目に平滑な低屈折率透明層
を設け、さらに第３層目に凹凸のある低屈折率透明層を
設け、１５０〜２００℃で焼成硬化して、３層コート層
１３を形成する。３層コート層１３を具備することによ
り、実用上十分な膜強度を備えもち、反射像の輪郭をは
っきりとさせることなく、外光反射を低減する帯電防止
型陰極線あるいは漏洩電界（ＶＬＦ帯域）遮蔽型陰極線
管を低コストで得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、フェース・プレート
の表面上に反射防止膜および帯電防止膜さらには漏洩電
界（ＶＬＦ帯域）遮蔽膜を具備した陰極線管（以下ＣＲ
Ｔという）およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＲＴは、動作原理上、蛍光面に印加す
る電圧すなわち電子ビームの加速電圧が高く、２０ｋＶ
を越える高圧が印加される。最近では、高輝度化・高解
像度化に伴い、カラーテレビ用ＣＲＴでは３０ｋＶ以
上、ディスプレイモニタ用ＣＲＴにおいても２５ｋＶも
の高圧が印加されており、セット電源がオンされること
によりＣＲＴのフェース・プレートの外表面がチャージ
アップして、観視者が接近した時に放電現象が起こり、
観視者に不快感を与えたり、時として電撃を与えること
がある。
【０００３】このような現象を防止するため、従来か
ら、１０9 Ω／□程度の表面抵抗値を有するコーティン
グ膜をフェース・プレート面に施したり、１０9 Ω／□
程度の表面抵抗値を有する導電膜を有するガラスパネル
を、このガラスパネルとほぼ同じ屈折率を有する紫外線
（ＵＶ）硬化樹脂によってフェース・プレート面に貼り
付けたりして、これらのコーティング膜または導電膜の
一部をフェース・プレートの外周上に巻かれた金属製防
爆バンドを介してアースに落として、放電する方法が採
られている。
【０００４】図１４は、上記帯電防止処理型ＣＲＴの帯
電防止機構を説明するための模式的側面図であり、１は
ＣＲＴ、２はフェース・プレート部３の表面に形成され
た凹凸導電膜またはフェース・プレート部３の表面に紫
外線（ＵＶ）硬化樹脂を介して設けられた導電膜を有す
るガラスパネル、４はファンネル部、５は高圧ボタン、
６は図示していない電子銃を内蔵するネック部、７は偏
向ヨークである。ここで高圧ボタン５はリード線５ａを
介して高圧電源３５に、また電子銃はリード線６ａを介
して駆動電源３６に、さらに偏向ヨーク７はリード線７
ａを介して偏向電源３７に夫々接続されている。８は導
電膜に接続された導電性テープまたはペースト、９は金
属製防爆バンド、１０は金属製防爆バンド９に取付けら
れた取り付け耳、１１は取り付け耳１０に接続されたア
ース線、１２はアースである。ここで導電膜または導電
膜を有するガラスパネル２は導電性テープまたはペース
ト８、金属製防爆バンド９、取り付け耳１０およびアー
ス線１１を介してアース１２に接続され、チャージが常
にアース１２へ落とされるよう構成されている。
【０００５】このように構成されたＣＲＴ１において、
ネック部６に内蔵した電子銃から発射された電子線を偏
向ヨーク７によって電磁的に偏向するとともに高圧ボタ
ン５を介してフェース・プレート部３の内面に設けられ
た蛍光面に高圧を印加して電子線を加速し、そのエネル
ギによって蛍光面を励起発光させて光出力を取り出す。
【０００６】このフェース・プレート部３の内面の蛍光
面に印加する高圧の影響で、上述したようにフェース・
プレート部３の外表面がチャージアップするため、この
フェース・プレート部３に観視者が接近した時に放電現
象が起こり、観視者に不快感を与えたり、電撃などの弊
害を生じる。また、このチャージアップによって、フェ
ース・プレート部３の外表面に空気中のホコリや細かい
ゴミなどが付着して汚れがめだち、その結果として画質
性能を損なう。
【０００７】そこで、このような、弊害をなくすため
に、図１４に示すようにフェース・プレート部３の外表
面に導電性を有するコーティングを施したり、導電膜を
有するガラスパネルをガラスとほぼ同じ屈折率を有する
紫外線（ＵＶ）硬化樹脂によってフェース・プレート部
３の外表面に張り付け、これらの導電膜をアース１２に
接続することで、帯電電荷を常にアースへ逃がしてチャ
ージアップを防ぐ構成としており、このような帯電防止
処理型ＣＲＴの表面抵抗値は１０9 Ω／□程度で十分で
ある。したがって、上記コーティング材料としては、ア
ンチモン含有酸化スズ（ＳｎＯ2 ）微粒子をフィラーと
するものが用いられていた。
【０００８】また、一般に、ＣＲＴはそのフェース・プ
レート表面で外光を反射するため、表示画像が見づらく
なるという問題がある。これを解決する手段として、上
記導電膜を凹凸形状にすることによって、フェース・プ
レート表面に入射する外光を乱反射させる防眩処理が施
される。この凹凸形状は、フェース・プレート表面に入
射する外光だけでなく、蛍光面から発光される光も乱反
射するため、表示画像の解像度やコントラストが劣化す
るという問題があった。
【０００９】また、導電膜を有するガラスパネル２は、
通常４層の光学薄膜（内、導電膜は最下層）から成り、
屈折率の異なる薄膜材料を高屈折材料／低屈折材料／高
屈折材料／低屈折材料のように交互に蒸着積層すること
によって表面反射率の低減をはかっている。さらに、最
下層の導電膜の抵抗値を３×１０3 Ω／□以下にするこ
とにより、漏洩電界（ＶＬＦ帯域）を遮蔽することがで
きる。この４層光学薄膜は蒸着による平滑膜であるた
め、凹凸形状のように表示画像を劣化させることはな
く、さらに低反射効果も十分であるが、材料コストや製
造コストが増大する。さらにガラスパネルをフェース・
プレート部に貼付するために用いられる紫外線（ＵＶ）
硬化樹脂によって重量が大きくなるという問題があっ
た。
【００１０】また、近年、ＣＲＴのフェース・プレート
部に直接コーティングを施す２層低反射コートが実用化
され始めた。２層低反射コートは、平滑膜であるため表
示画像の解像度やコントラストが劣化するという問題は
ないが、低反射効果そのものが不十分であり、反射像の
輪郭がはっきりしてしまう。また、フィンガープリンテ
ィングと呼ばれる指紋跡が目立ちやすく、それを除去す
るための清掃に耐えうる膜強度、特に耐磨耗性もまた備
えていなければならない。
【００１１】また、２層低反射コートの製造方法には、
第１層目の高屈折率導電層をＣＶＤ（化学蒸着）法で設
け、第２層目をスピンコート法で設ける方法と、第１層
目と第２層目をともにスピンコート法で設ける方法とが
ある。前者のＣＶＤ法はフェース・プレート部を５００
℃程度にする必要があり、ＣＲＴ完成管への後処理とし
ては適用できない。次に、ＣＲＴ完成管へ処理できる後
者のスピンコート法を用いて第１層目および第２層目を
設ける方法について、以下に説明する。
【００１２】図１５は、スピンコート法での製造プロセ
スを説明する製造プロセスフローチャートである。フロ
ーチャートに示すように、ＣＲＴ完成管のフェース・プ
レート部を炉内で４０〜５０℃に予熱し（ステップＳ１
１）、第１のスピンブース内へ搬入する。このスピンブ
ース内にはスピン機およびコーティング液ディスペンサ
ー等が配設されており、ブース内部の温度，湿度および
ダストレベルを調節する機能を有している。このような
スピンブース内に搬入されたＣＲＴ完成管のフェース・
プレート部に、高屈折率導電材料である酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ2 ）、膜を形成するためのシリカ（ＳｉＯ2 ）および
溶媒としてのアルコールなどを含む第１層目液をスピン
コートして第１層目の高屈折率導電層を形成する（ステ
ップＳ１２）。
【００１３】そして、炉内にて乾燥および硬化を１００
℃程度で行い（ステップＳ１３）、さらに４０〜５０℃
に降温した後（ステップＳ１４）、第２のスピンブース
内へ搬入する。スピンブース内にて、低屈折率透明材料
としてのシリカ（ＳｉＯ2 ）を含む第２層目アルコール
溶液をスピンコートし、第２層目の低屈折率透明層を形
成する（ステップＳ１５）。そして、炉内にて高屈折率
導電層及び低屈折率導電層を１５０〜２００℃で焼成硬
化し、２層低反射コート付きＣＲＴが形成される（ステ
ップＳ１６）。なお、第２のスピンブースは第１のスピ
ンブースと同様の機能を有している。
【００１４】このような従来の方法では、第１および第
２のスピンブースが夫々独立しており、第１層目塗布後
の乾燥、硬化および降温の為の炉が必要である。このた
め、設備コスト高や工程が長くなるという問題があっ
た。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記のよう
な問題を解決するためになされたものであって、反射コ
ートをフェース・プレート部に直接コーティングするこ
とにより軽量化され、表示画像の解像度やコントラスト
の劣化を最小限に抑え、外光反射を低減し、実用上十分
な膜強度を備え持つ帯電防止処理型さらには漏洩電界
（ＶＬＦ帯域）遮蔽型のＣＲＴを、短い工程および低コ
ストで得ることを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】第１発明に係る陰極線管
は、フェース・プレートの外表面に高屈折率導電層、平
滑な低屈折率透明層および凹凸のある低屈折率透明層を
順に備えることを特徴とする。
【００１７】第２発明に係る陰極線管は、第１発明にお
いて、高屈折率導電層の光学膜厚が入射光の波長の１／
４であり、平滑な低屈折率透明層および凹凸がある低屈
折率透明層の２層の和の光学膜厚が入射光の波長の１／
４であり、凹凸のある低屈折率透明層の光沢度がフェー
ス・プレートガラスに対して７５〜８５％になるように
構成してあることを特徴とする。
【００１８】第３発明に係る陰極線管の製造方法は、ス
ピンコート法によりフェース・プレートの外表面に高屈
折率導電層を形成し、スピンコート法により高屈折率導
電層の外表面に平滑な低屈折率透明層を形成し、スプレ
ーコート法により平滑な低屈折率透明層の外表面に凹凸
がある低屈折率透明層を形成することを特徴とする。
【００１９】第４発明に係る陰極線管の製造方法は、第
３発明において、平滑な低屈折率透明層および凹凸があ
る低屈折率透明層を形成し、焼成硬化することを特徴と
する。
【００２０】第５発明に係る陰極線管の製造方法は、第
４発明において、１５０〜２００℃にて焼成硬化するこ
とを特徴とする。
【００２１】第６発明に係る陰極線管の製造方法は、ス
ピンコート法によりフェース・プレートの外表面に高屈
折率導電層を形成し、スピンコート法により高屈折率導
電層の外表面に平滑な低屈折率透明層を形成し、焼成硬
化することを特徴とする。
【００２２】第７発明に係る陰極線管の製造方法は、第
６発明において、１５０〜２００℃にて焼成硬化するこ
とを特徴とする。
【００２３】第８発明に係る陰極線管の製造方法は、第
４または第６発明において、同一の装置内にて同一のス
ピン機を用いて高屈折率導電層および平滑な低屈折率透
明層を形成することを特徴とする。
【００２４】第９発明に係る陰極線管の製造方法は、第
８発明において、形成した高屈折率導電層をスピンさせ
ながら乾燥することを特徴とする。
【００２５】第１０発明に係る陰極線管の製造方法は、
第４または第６発明において、装置内にて第１のスピン
機を用いて高屈折率導電層を形成し、この後、前記装置
内に設けられた乾燥手段を用いて高屈折率導電層を乾燥
し、前記装置内にて第２のスピン機を用いて平滑な低屈
折率透明層を形成することを特徴とする。
【００２６】
【作用】本発明の陰極線管およびその製造方法では、フ
ェース・プレートの外表面に高屈折率導電層、平滑な低
屈折率透明層および凹凸のある低屈折透明層で形成され
ている３層コート層を設けたので、反射像の輪郭をはっ
きりとさせることなく、外光反射を低減することができ
る。
【００２７】また、本発明の陰極線管では、フェース・
プレートの外表面の高屈折率導電層の光学膜厚を入射光
の波長の１／４に設定し、平滑な低屈折率透明層と凹凸
のある低屈折透明層の２層の光学膜厚を入射光の波長の
１／４に設定することで最適な低反射効果を得ることが
できる。さらに、最外層の凹凸のある低屈折透明層の光
沢度を７５〜８５％に調整することにより、反射像の輪
郭をはっきりとさせない防眩効果と外光反射を低減する
低反射効果のバランスとを最適にすることができる。
【００２８】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、フェースプレート部側から第１層目の高屈折率導電
層をスピンコート法で形成し、第２層目の平滑な低屈折
率透明層をスピンコート法で形成し、第３層目の凹凸の
ある低屈折率透明層をスプレーコート法で形成すること
によって低コストで膜品位のよい３層コート層を得るこ
とができる。
【００２９】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、フェースプレート部から見て第１層目の高屈折率導
電層をスピンコート法で、第２層目の平滑な低屈折率透
明層をスピンコート法で、第３層目の凹凸のある低屈折
率透明層をスプレーコート法で形成した後、例えば１５
０〜２００℃で焼成硬化させることにより、実用上十分
な膜強度を備えた３層コート層を得ることができる。
【００３０】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、フェースプレート部側から第１層目の高屈折率導電
層をスピンコート法で形成し、第２層目の平滑な低屈折
率透明層をスピンコート法で形成した後、例えば１５０
〜２００℃で焼成硬化させることにより、実用上十分な
膜強度を備えた２層コート層を得ることができる。さら
に、この２層コート層の外表面に第３層目の凹凸のある
低屈折率透明層を形成した場合には、膜品位のよい３層
コート層を得ることができる。
【００３１】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、第１層目の高屈折率導電層と第２層目の低屈折率透
明層を同一装置内の同一スピン機で形成するので、省ス
ペース、低設備コストを実現することができる。
【００３２】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、第１層目の高屈折率導電層の乾燥工程をスピンさせ
ながら行うことにより、陰極線管のスピンにより生じる
気流でフェース・プレート表面上へのゴミ・ホコリ等の
落下を抑えることができシミ不良を低減できるだけでな
く、乾燥時間の短縮化および膜品位の安定化を図ること
ができる。
【００３３】また更に、本発明の陰極線管の製造方法で
は、第１層目の高屈折率導電層と第２層目の低屈折率透
明層を同一装置内の各別のスピン機で形成し、同一装置
内に設けられた乾燥手段、例えばエアブローまたはヒー
ターを用いることにより、第１層目の乾燥を安定化する
ことができる。さらに、第１層目と第２層目の各層の形
成条件、例えばスピン回転数や時間を任意に調節するこ
とにより、膜品位の向上を図ることができる。
【００３４】
【実施例】
実施例１．以下、この発明の実施例１をこれを示す図面
に基づいて具体的に説明する。図１は、本発明に係る陰
極線管の構造を示す模式的側面図であり、図中１はＣＲ
Ｔであり、ＣＲＴ１の前面に設けられたフェース・プレ
ート部３の表面には、３層コート層１３が形成されてい
る。図２は、図１の３層コート層１３のＡ部分を拡大し
て示した断面図である。フェース・プレート部３側から
順に、第１層目は酸化スズ（ＳｎＯ2 ）およびカーボン
ブラックをスピンコート法で形成した平滑な高屈折率平
滑導電層１４が、第２層目はシリカをスピンコート法で
形成した平滑な低屈折率平滑透明層１５が、第３層目は
シリカをスプレーコート法で形成した凹凸のある低屈折
率凹凸透明層１６が形成されている。
【００３５】そして、ＣＲＴ１の側面部分はファンネル
部４であり、ファンネル部４の上部には高圧ボタン５が
設けられている。ＣＲＴ１の後部は図示しない電子銃を
内蔵するネック部６であり、ファンネル部４およびネッ
ク部６の境界部分を覆って偏向ヨーク７が固定されてい
る。ここで高圧ボタン５はリード線５ａを介して高圧電
源３５に、また電子銃はリード線６ａを介して駆動電源
３６に、さらに偏向ヨーク７はリード線７ａを介して偏
向電源３７に夫々接続されている。
【００３６】フェース・プレート部３の側面には金属製
防爆バンド９が周設され、ガラスパネル２の周囲に接続
された導電性テープ８によって固定されている。なお、
導電性テープ８は導電性ペーストであっても良い。金属
製防爆バンド９には取り付け耳１０が取り付けられてお
り、取り付け耳１０はアース線１１を介してアース１２
に接続されている。
【００３７】このように構成されたＣＲＴ１では、ネッ
ク部６に内蔵した電子銃から発射された電子線を偏向ヨ
ーク７によって電磁的に偏向するとともに、高圧ボタン
５を介してフェース・プレート部３の内面に設けられた
蛍光面に高圧を印加して電子線を加速し、そのエネルギ
ーによって蛍光面を励起発光させて光出力を取り出す。
このとき、印加された高圧によりフェース・プレート部
３がチャージアップされるが、このチャージは、導電製
テープ８、金属製防爆バンド９、取り付け耳１０および
アース線１１を介してアース１２へ逃げ、これにより前
述したチャージアップによる弊害が防止される。
【００３８】以上の如き構造の陰極線管の３層コート１
３を形成する方法について説明する。図３は、３層コー
ト層を形成するプロセスを示した製造プロセスフローチ
ャートである。フローチャートに示すように、まず、Ｃ
ＲＴ完成管のフェース・プレート部の温度を予熱炉で４
０〜５０℃に昇温する（ステップＳ２１）。そして、予
熱されたＣＲＴ完成管はスピンブースへ搬送されるる。
図４は本実施例に使用するスピンブースの模式的平面図
である。
【００３９】スピンブース１７にはコンベア２２が組み
込まれており、コンベア２２上に載置されたＣＲＴ１
が、スピンブース１７壁面に対向させて設けたシャッタ
２１，２１間を移動することにより、スピンブース１７
内外に搬送されるようになっている。そして、スピンブ
ース１７内には、ＣＲＴ移載ロボット２０および回転可
能なスピン台１８が配設されており、スピン台１８には
複数のノズルを有するコーティング液ディスペンサー１
９が付設されている。
【００４０】ＣＲＴ移載ロボット２０が、搬入されたＣ
ＲＴ１をスピン台１８上に載置し、スピン台１８が回転
して、ＣＲＴ１のフェース・プレート上に第１層目の高
屈折率導電層１４をスピンコートする（ステップＳ２
２）。そして、スピン台１８の回転が停止して高屈折率
平滑導電層１４を乾燥した後、第２層目の低屈折率平滑
透明層１５をスピンコートする（ステップＳ２４）。こ
の第１層目および第２層目の形成時のコーティング液注
入は、夫々独立のノズルを用いて行う。スピンコートの
タイムスケジュールおよびスピン台１８の回転数を表１
に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】第２層目の塗布が完了した後、再びＣＲＴ
移載ロボット２０でＣＲＴをコンベアー２２に戻し、シ
ャッター２１を経てスピンブース１７から搬出する。そ
して、予熱炉でフェース・プレート部３の温度を７０〜
８０℃に加熱し（ステップＳ２５）、スプレーブース内
にて第３層目の凹凸のある低屈折率凹凸透明層１６をス
プレーコートし（ステップＳ２６）、炉内で１５０〜２
００℃にて焼成硬化して（ステップＳ２７）、３層低反
射コート付きＣＲＴが形成される。
【００４３】ここで、第１層目を形成する液には、住友
セメント（株）製スミセファイン：ＡＲＳ−Ｍ−１を、
第２層目を形成する液には住友セメント（株）製スミセ
ファイン：ＡＲＧ−Ｍ−１を、第３層目を形成する液に
はコルコート（株）製：コルコートＲを用いた。
【００４４】以上の如き方法で３層コート１３を形成す
る際に、高屈折率平滑導電層１４の光学膜厚（屈折率×
膜厚）をフェース・プレート部３への入射光の所定の波
長の１／４にし、さらにその外表面の低屈折率平滑透明
層１５と低屈折率凹凸透明層１６の和の光学膜厚（屈折
率×膜厚）を入射光の波長の１／４にすることにより、
最大の低反射効果が得られる。すなわち、所定の波長を
観視者の視感度が高い５５０ｎｍとした場合は、フェー
ス・プレートガラスであるフェース・プレート部３から
見て第１層目の高屈折率平滑導電層１４、第２層目の低
屈折率平滑透明層１５および第３層目の低屈折率凹凸透
明層１６のそれぞれの屈折率がｎG ＝１．５３６，ｎ1
＝１．６，ｎ2 ＝１．４７およびｎ3 ＝１．４７である
ので、第１層目の高屈折率平滑導電層１４の膜厚をａ1
＝８３ｎｍ、第２層目の低屈折率平滑透明層１５と第３
層目の低屈折率凹凸透明層１６の和の膜厚をａ23＝９４
ｎｍになるように形成する。これにより、入射光５５０
ｎｍでの表面反射率は、１．０％となった。なお、本実
施例では、所定の波長が５５０ｎｍの場合を説明してい
るが、これに限るものではない。
【００４５】さらに、フェース・プレート部３側から第
３層目の低屈折率凹凸透明層１６の膜厚を大きくしすぎ
ると、防眩効果のほうが低反射効果を上回ってしまうた
め、第３層目の低屈折率凹凸透明層１６はフェース・プ
レートガラスに対する６０゜光沢度が８０％になるよう
に形成し、表示画像の解像度やコントラストの劣化を最
小限に抑えた。図５は、このときの可視光域での表面反
射スペクトルを示したグラフである。縦軸は反射率を、
横軸は波長を表している。図から明らかなように、未処
理のフェース・プレート部３を有するＣＲＴの特性曲線
ａが表面反射率４％強であるのに対し、本実施例の３層
コート層１３を施したＣＲＴの特性曲線ｂは最低反射率
が約１／４の１．０％となり、外光反射を大幅に低減で
きることが判る。この低反射効果と最外層の凹凸形状に
よる防眩効果の組合せにより、ディスプレイの表面反射
に関するドイツのトゥフ規格を満足できる。
【００４６】また、図６は可視光域での光線透過率を示
したグラフである。縦軸は相対発光強度・透過率を、横
軸は波長を表している。図に示すように、上述の実施例
で光線透過率Ｉは、第１層目の高屈折率平滑導電層１４
に含まれる粒径２００〜３００Åのカーボンブラックに
より、可視光域で９５％となり、輝度の低下を最小限に
抑えつつ、第３層目の凹凸形状によって引き起こされる
コントラストの劣化をカバーできることが判る。
【００４７】また、カーボンブラックは耐光性も強く、
３層コート層１３を具備したＣＲＴの太陽光曝露試験
（晴天のとき、６時間）および水銀ランプ強制曝露試験
（紫外線強度：２．２ mＷ／cm2 ×４２min.： at ２５
０nm）においても全く退色は認められない。
【００４８】また、図７は表面電位減衰特性を示すグラ
フであり、縦軸は表面電位を、横軸は時間を表してい
る。グラフ中の破線で示した特性曲線ＭおよびＭ1 は、
３層コート層１３の表面抵抗値が３×１０7 Ω／□の時
の電源オン時およびオフ時のフェース・プレート部３外
表面の電位変化を示すものであり、未処理ＣＲＴの実線
で示した特性曲線ＬおよびＬ1 に比べて、大幅にチャー
ジアップが低減されたことが判る。
【００４９】また、フェース・プレート部３側から第２
層目の低屈折率平滑透明層１５と第３層目の低屈折率凹
凸透明層１６は、ほかに混合物のない純粋なシリカ膜で
あるので、１５０〜２００℃で焼成することによって第
１層目のオーバーコート的な役割も果たし、ＪＩＳ Ｋ
５４００に基づく鉛筆硬度は９Ｈ以上、プラスチック
消しゴム（ＬＩＯＮ ５０−３０）による５０回以上の
磨耗テストでも傷が入らず、非常に膜強度の優れた３層
コート層１３を得ることができた。
【００５０】さらに、フィンガープリンティングと呼ば
れる指紋跡も第３層目の凹凸形状によって付きにくく、
それを除去するための清掃にも十分耐えうる膜強度を備
えている。
【００５１】以上のように３層コート層１３を構成する
ことにより、表示画像の解像度やコントラストの劣化を
最小限に抑え、外光反射を低減し、さらには実用上十分
な膜強度を備え持つ帯電防止型ＣＲＴを低コストで得る
ことができた。
【００５２】実施例２．実施例１の図３に示した製造プ
ロセスと同様に第１層目の高屈折率導電層をスピンコー
トした後の乾燥をスピン台１８を回転しながら行った。
この時のタイムスケジュールおよび回転数を表２に示
す。なお、使用した材料は上述の実施例１と同じであ
る。
【００５３】
【表２】
【００５４】この時得られた３層コート層の反射性能お
よび膜強度は実施例１と全く同じであるが、第１層目の
乾燥時間を３０sec 短縮することができた。また、第１
層目の乾燥が完了するまでにゴミ・ホコリがフェース・
プレート上に落下するとシミ不良が発生するが、乾燥工
程をスピンさせながら行うことにより、ＣＲＴのスピン
による自転で生じる気流でゴミ・ホコリの落下を抑制す
ることができ、シミ不良が大幅に低減した。
【００５５】また、実施例１のように乾燥中のスピンを
停止した場合は、第１層目の高屈折率導電層をスピンコ
ートする際に、フェース・プレート部温度が設定温度よ
り低い場合は第１層目の乾燥時間がラインインデックス
より長くかかり、乾燥が完了しないうちに第２層目をス
ピンコートしてしまう不良が発生する。本実施例のよう
に乾燥工程をスピンさせながら行うことにより、ＣＲＴ
のスピンによる自転で生じる気流で乾燥の安定化を図る
ことができ、そのような不良は全くなくなった。
【００５６】実施例３．以下に実施例３をこれを示す図
面に基づいて具体的に説明する。図８は、本実施例に使
用するスピンブースの模式的平面図である。図中２７は
スピンブースであり、スピンブース２７内にはＣＲＴ移
載ロボット２０，第１のスピン台２３および第２のスピ
ン台２４が配設されており、夫々のスピン台にはノズル
を有するコーティング液ディスペンサー１９，１９が配
設されている。また、スピンブース２７内には乾燥ポジ
ション２５が設けられ、ＣＲＴ移載ロボット２０は、Ｃ
ＲＴ１を台１のスピン台２３，第２のスピン台２４また
は乾燥ポジション２５へ移載できるように構成されてい
る。図９は乾燥ポジションの構造を示した模式的側面図
であり、ＣＲＴ架台２６の上方に配されたエアブロー２
７からなる。ＣＲＴ架台２６にて固定されたＣＲＴ１の
フェース・プレート部の表面が、エアブロー２７により
乾燥するようになっている。なお、本実施例ではエアブ
ロー２７を用いているが、ヒータのような乾燥手段を用
いても良い。
【００５７】以上の如き構成のスピンブースを使用し
て、ＣＲＴ１のフェース・プレート部に３層コートを形
成する場合は、第１のスピン台２３に載置したフェース
・プレート部に第１層目をスピンコートした後、ＣＲＴ
移載ロボット２０によりＣＲＴ１が乾燥ポジション２５
に移載される。乾燥ポジション２５にて第１層目を乾燥
し、乾燥後、ＣＲＴ移載ロボット２０によりＣＲＴ１を
第２のスポン台２４上に移載して、第１層目の外表面に
第２層目をスピンコートする。この時のタイムスケジュ
ールおよび回転数を表３に示す。なお、コーティング液
材料は実施例１に示したものと同じである。
【００５８】
【表３】
【００５９】そして、第２層目を形成した後スピンブー
ス２７から搬出し、炉内で焼成する。このような方法で
得られた３層コート層は、その光学特性や膜強度が実施
例１および実施例２と同じであった。また、本実施例で
は、第１層目と第２層目のスピン機を各別に設けたの
で、コーティング液の材料物性が変化したとき、例えば
溶媒の蒸発速度や粘度が変化したときに、スピン機の回
転数や時間を各層ごとに容易に調整することが可能であ
り、光学特性の安定化が図りやすくなった。そして、第
１層目の乾燥時間を上述の第１，第２実施例の場合より
も短縮することができ、さらに安定化が図られる。
【００６０】実施例４．３層コート層１３の構造は実施
例１と同じであるが、第３層目の低屈折率凹凸透明層１
６の膜厚を実施例１の場合より薄くし、フェース・プレ
ートガラスに対する６０゜光沢度が８５％になるように
形成した。製造プロセスは実施例１、実施例２および実
施例３のいずれでも良い。表面反射率、膜強度および帯
電防止効果は、実施例１とほぼ同じであるが、凹凸形状
による表示画像の解像度やコントラストの劣化が実施例
１より低減される。ただし、凹凸形状による防眩効果が
小さくなるので、ディスプレイの表面反射に関するドイ
ツのトゥフ規格に対する裕度は少なくなる。
【００６１】実施例５．３層コート層１３の構造は実施
例１と同じであるが、第３層目の低屈折率凹凸透明層１
６の膜厚を実施例１の場合より厚くし、フェース・プレ
ートガラスに対する６０゜光沢度で７５％になるように
形成した。製造プロセスは実施例１、実施例２および実
施例３のいずれでも良い。表面反射率、膜強度および帯
電防止効果は、実施例１とほぼ同じであるが、実施例４
とは反対に、凹凸形状による表示画像の解像度やコント
ラストの劣化は実施例１より増加され、凹凸形状による
防眩効果が大きくなるので、ディスプレイの表面反射に
関するドイツのトゥフ規格に対する裕度は多くなる。
【００６２】実施例１、実施例４および実施例５に示し
たように、第３層目の低屈折率凹凸透明層１６の膜厚を
調整することにより、低反射効果に対する防眩効果の組
合せをコントロールでき、これらのバランスを取ること
により、凹凸形状による表示画像の解像度やコントラス
トの劣化を最小限に抑えかつトゥフ規格を満足する最適
な膜設計ができる。
【００６３】実施例６．３層コート層１３の構造は実施
例１と同様であり、第１層目の高屈折率平滑導電層１４
に含まれるカーボンブラックの量を増量して形成する。
製造プロセスは実施例１、実施例２および実施例３のい
ずれでも良い。図１０は、可視光域での光線透過率を示
したグラフであり、縦軸は相対発光強度・透過率を、横
軸は波長を表している。グラフから明らかなように、本
実施例の３層コート層１３の特性曲線IIは、可視光域で
８０％である。
【００６４】また、図１１はこのときの可視光域での表
面反射スペクトルを示したグラフである。縦軸は反射率
を、横軸は波長を表している。図から明らかなように、
未処理のフェース・プレート部３を有するＣＲＴの特性
曲線ａが表面反射率４％強であるのに対し、本実施例の
３層コート層１３を施したＣＲＴの特性曲線ｃは光の吸
収が干渉作用による低反射効果に相乗され、５５０ｎｍ
での表面反射率は０．８％となり、低反射効果が向上し
ていることが判る。
【００６５】また、本実施例では第１実施例と比較し
て、ボディーカラーは黒く締まりコントラストは大幅に
向上するが、輝度が低下するという問題がある。しかし
ながら、カーボンブラックの分散濃度を調整することに
より、コントラストの向上、表面反射率の低減および輝
度の低下のバランスを取ることが可能である。表面抵抗
値は１×１０7 Ω／□であり、帯電防止効果は実施例１
と同様に良好である。
【００６６】実施例７．３層コート層１３の構造は実施
例１と同様であるが、第１層目の高屈折率平滑導電層１
４を酸化スズ（ＳｎＯ2 ）よりさらに抵抗の低い酸化イ
ンジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）を用い、スピンコート法で形成
する。製造プロセスは実施例１、実施例２および実施例
３のいずれでも良い。このときの３層コート層１３の表
面抵抗値は２×１０5 Ω／□となり、帯電防止効果は実
施例１と同様に非常に良好であった。また、漏洩電界
（ＶＬＦ帯域）について測定した結果を表４に示す。
【００６７】
【表４】
【００６８】表４から明らかなように、本実施例では、
漏洩電界（ＶＬＦ帯域）はコート層なしに比べて低減さ
せることはできるが、スウェーデンにおける規格のＭＰ
Ｒ−IIおよびＴＣＯをＣＲＴ単体では満足することはで
きない。
【００６９】ただし、ディスプレイモニタセットとの複
合の対策により、漏洩電界（ＶＬＦ帯域）を遮蔽するこ
とは可能である。
【００７０】また、３層コート層１３の表面抵抗値は３
×１０3 Ω／□以下にすることにより、ＣＲＴ単体でＭ
ＰＲ−IIおよびＴＣＯ規格を満足させることができる。
【００７１】また、図１２は可視光域での表面反射スペ
クトルを示したグラフである。縦軸は反射率を、横軸は
波長を表している。図から明らかなように、未処理のフ
ェース・プレート部３を有するＣＲＴの特性曲線ａが表
面反射率４％強であるのに対し、本実施例の３層コート
層１３を施したＣＲＴの特性曲線ｄは、最低反射率が６
２０ｎｍで１．５％となり、十分な低反射効果が得られ
た。
【００７２】以上の如き実施例では、第１層目の高屈折
率導電層および第２層目の平滑な低屈折率透明層を塗布
した後、直ちに予熱し第３層目の凹凸のある低屈折率透
明層を塗布していたが、第１層目の高屈折率導電層およ
び第２層目の平滑な低屈折率透明層を塗布した後に焼成
し、２層低反射コート付ＣＲＴを得ても良い。以下にこ
の方法について説明する。
【００７３】実施例８．図１３は実施例８の製造プロセ
スを示した製造プロセスフローチャートである。図に示
すように、まず、ＣＲＴ完成管をＣＲＴ完成管のフェー
ス・プレート部の温度を予熱炉で４０〜５０℃に昇温す
る（ステップＳ３１）。そして、スピンブース内へ搬送
され、ＣＲＴのフェース・プレート上に第１層目の高屈
折率導電層をスピンコートする（ステップＳ３２）。そ
して、高屈折率平滑導電層を乾燥した後、同一スピンブ
ース内にて第２層目の低屈折率平滑透明層をスピンコー
トする（ステップＳ３４）。
【００７４】第２層目の塗布が完了した後、ＣＲＴをス
ピンブースから搬出し、１５０〜２００℃で焼成して
（ステップＳ３５）、２層低反射コート付きＣＲＴを形
成する。この時得られた２層コート層の膜強度はＪＩＳ
Ｋ ５４００に基づく鉛筆硬度で７Ｈ、プラスチック
消しゴム（ＬＩＯＮ ５０−３０）による磨耗テストで
３０回と３層コート層に比べ若干弱くなるが、実使用上
は全く問題ない。また、２層コート層の光学特性は実施
例１、実施例２および実施例３とほとんど同様であっ
た。
【００７５】この２層コート層上に第３層目の凹凸のあ
る低屈折率凹凸透明層を形成する場合は（ステップＳ３
６）、予熱炉で２層低反射コート付きＣＲＴのフェース
・プレート部の温度を７０〜８０℃に昇温し、または焼
成した後に４０〜５０℃に降温する。そして、スプレー
ブース内にて第３層目の低屈折率凹凸透明層をスプレー
コートし（ステップＳ３７）、炉内で１５０〜２００℃
にて焼成硬化して（ステップＳ２７）、３層低反射コー
ト付きＣＲＴを形成する。この３層コート層の光学特性
および膜強度は実施例１、実施例２および実施例３と全
く同様であった。
【００７６】
【発明の効果】この発明に係る陰極線管は、フェース・
プレートの外表面に高屈折率導電層と、平滑な低屈折率
透明層と、凹凸のある低屈折率透明層よりなる３層コー
ト層を設けたので、反射像の輪郭をはっきりさせる事な
く、外光反射を低減することができる効果を奏する。
【００７７】また、高屈折率導電層の光学膜厚を可視光
の波長の１／４に、また平滑な透明屈折率透明層と凹凸
のある低屈折率透明層の２層の光学膜厚を可視光の波長
の１／４に形成し、さらに凹凸のある低屈折率透明層の
フェース・プレートガラスに対する６０゜光沢度を７５
〜８５％に調整したので、防眩効果と低反射効果のバラ
ンスを最適化することができる効果を奏する。
【００７８】また、高屈折率導電層と平滑な低屈折率透
明層をそれぞれスピンコート法で形成し、凹凸のある低
屈折率透明層をスプレーコート法で形成するようにした
ので、低コストで膜品位の良い３層コート層を備えた陰
極線管を製造できる効果を奏する。
【００７９】また、高屈折率導電層、平滑な低屈折率透
明層および凹凸のある低屈折率透明層を連続して塗布し
た後、例えば１５０〜２００℃で焼成硬化するので、実
用上十分な膜強度をもつ３層コート層を備えた陰極線管
を製造できる効果を奏する。
【００８０】また、高屈折率導電層と平滑な低屈折率透
明層を連続して塗布した後、例えば１５０〜２００℃で
焼成硬化するので、実用上十分な膜強度をもつ２層コー
ト層を備えた陰極線管を製造できる効果を奏する。
【００８１】また、高屈折率導電層と平滑な低屈折率透
明層を同一の装置内の同一のスピン機で形成するので、
低コストで膜性能および膜品位の良い２層コート層また
は３層コート層を備えた陰極線管を製造できる効果を奏
する。
【００８２】また、高屈折率導電層の乾燥工程をスピン
させながら行うようにしたので、シミ不良を低減するこ
とができ、さらに低コストで膜性能および膜品位の良い
２層コート層または３層コート層を備えた陰極線管を製
造できる効果を奏する。
【００８３】また、装置内にエアブローまたはヒーター
等の乾燥手段を設け、高屈折率導電層を形成した後、前
記乾燥手段にて乾燥し、同一装置内にて平滑な低屈折率
透明層を形成するので、第１層目の乾燥を安定化するこ
とができ、さらに低コストで膜性能および膜品位の良い
２層コート層または３層コート層を備えた陰極線管を製
造できる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１による陰極線管の構造を示す
模式的側面図である。
【図２】図１の３層コート層の部分を拡大して示した断
面図である。
【図３】実施例１の３層コート層を形成する工程を示し
た製造プロセスフローチャートである。
【図４】実施例１に使用するスピンブースの模式的平面
図である。
【図５】実施例１の可視光域での表面反射スペクトルを
示したグラフである。
【図６】実施例１の３層コート層の可視光域での光線透
過率を示したグラフである。
【図７】実施例１の表面電位減衰特性を示すグラフであ
る。
【図８】実施例３に使用するスピンブースの模式的平面
図である。
【図９】実施例３の乾燥ポジションの構造を示した模式
的側面図である。
【図１０】実施例６の３層コート層の可視光域での光線
透過率を示したグラフである。
【図１１】実施例６の可視光域での表面反射スペクトル
を示したグラフである。
【図１２】実施例７の可視光域での表面反射スペクトル
を示したグラフである。
【図１３】実施例８の３層コート層を形成する工程を示
した製造プロセスフローチャートである。
【図１４】従来の帯電防止処理型ＣＲＴの模式的側面図
である。
【図１５】従来の２層低反射コート付陰極線管のコート
層を形成する工程を示す製造プロセスフローチャートで
ある。
【符号の説明】 １ 陰極線管（ＣＲＴ） １３ ３層コート層 １４ 高屈折率平滑導電層 １５ 低屈折率平滑透明層 １６ 低屈折率凹凸透明層 １７ スピンブース １８ スピン台 １９ コーティング液ディスペンサー ２０ ＣＲＴ移載ロボット ２１ シャッター ２２ コンベアー ２３ 第１のスピン台 ２４ 第２のスピン台 ２５ 乾燥ポジション ２６ ＣＲＴ架台 ２７ エアブロー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年１月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】ここで、第１層目を形成する液には、住友
セメント（株）製スミセファイン：ＡＲＳ−Ｍ−１，Ａ
ＲＳ−Ｍ−２，ＡＲＳ−Ｍ−３又はＡＲＳ−Ｍ−４を、
第２層目を形成する液には住友セメント（株）製スミセ
ファイン：ＡＲＧ−Ｍ−１を、第３層目を形成する液に
はコルコート（株）製：コルコートＲを用いた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４９】また、フェース・プレート部３側から第２
層目の低屈折率平滑透明層１５と第３層目の低屈折率凹
凸透明層１６は、ほかに混合物のない純粋なシリカ膜で
あるので、１５０〜２００℃で焼成することによって第
１層目のオーバーコート的な役割も果たし、ＪＩＳ Ｋ
５４００に基づく鉛筆硬度は９Ｈ以上、プラスチック
消しゴム（ＬＩＯＮ製 ５０−３０）による５０回以上
の磨耗テストでも傷が入らず、非常に膜強度の優れた３
層コート層１３を得ることができた。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】フェース・プレートの外表面に形成された
    高屈折率導電層と、この高屈折率導電層の外表面に形成
    された平滑な低屈折率透明層と、さらにこの平滑な低屈
    折率透明層の外表面に形成された凹凸のある低屈折率透
    明層とよりなる３層コート層を備えた陰極線管。
  2. 【請求項２】高屈折率導電層の光学膜厚がフェース・プ
    レートへの入射光の所定の波長の１／４であり、前記平
    滑な低屈折率透明層と前記凹凸がある低屈折率透明層と
    の２層の和の光学膜厚が前記波長の１／４であり、前記
    凹凸がある低屈折率透明層の前記フェース・プレートに
    対する光沢度が７５〜８５％である請求項１記載の陰極
    線管。
  3. 【請求項３】外表面にコート層が形成されたフェース・
    プレートを備える陰極線管の製造方法において、 スピンコート法によりフェース・プレートの外表面に高
    屈折率導電層を形成する工程と、スピンコート法により
    前記高屈折率導電層の外表面に平滑な低屈折率透明層を
    形成する工程と、スプレーコート法により前記平滑な低
    屈折率透明層の外表面に凹凸がある低屈折率透明層を形
    成する工程とを有することを特徴とする陰極線管の製造
    方法。
  4. 【請求項４】前記高屈折率導電層、平滑な低屈折率透明
    層および凹凸がある低屈折率透明層を形成した後に、焼
    成硬化する工程を有する請求項３記載の陰極線管の製造
    方法。
  5. 【請求項５】１５０〜２００℃で焼成硬化する請求項４
    記載の陰極線管の製造方法。
  6. 【請求項６】外表面にコート層が形成されたフェース・
    プレートを備える陰極線管の製造方法において、 スピンコート法によりフェース・プレートの外表面に高
    屈折率導電層を形成する工程と、スピンコート法により
    前記高屈折率導電層の外表面に平滑な低屈折率透明層を
    形成する工程と、該工程の後、焼成硬化する工程とを有
    することを特徴とする陰極線管の製造方法。
  7. 【請求項７】１５０〜２００℃で焼成硬化する請求項６
    記載の陰極線管の製造方法。
  8. 【請求項８】高屈折率導電層および平滑な低屈折率透明
    層を、同一装置内にて同一のスピン機を用いて形成する
    ことを特徴とする請求項４または６記載の陰極線管の製
    造方法。
  9. 【請求項９】高屈折率導電層を形成した後、該高屈折率
    導電層をスピンさせながら乾燥する工程を有する請求項
    ８記載の陰極線管の製造方法。
  10. 【請求項１０】装置内に乾燥手段が設けてあり、前記高
    屈折率導電層を前記装置内にて第１のスピン機を用いて
    形成する工程と、前記乾燥手段を用いて前記高屈折率導
    電層を乾燥する工程と、前記平滑な低屈折率透明層を前
    記装置内にて第２のスピン機を用いて形成する工程とを
    有する請求項４または６記載の陰極線管の製造方法。
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