KR940016363A - 음극선관 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

반사 방지막, 대전 방지막 또는 누설전계(VLF대역) 차폐막을 구비한 음극선관 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 제 1 의 스핀 부스 및 제 2 의 스핀 부스가 독립적으로 마련되며, 제 1 층을 마련한 후 건조, 경화 및 강온 처리를 위한 노가 필요하여 장비 코스트와 처리 스텝이 증가된다는 문제점을 해소하기 위해 페이스 플레이트가 마련된 음극선관으로서, 페이스 플레이트의 외부표면상에 형성된 고 굴절율 도전층, 고 굴절율 도전층의 표면상에 형성된 평활한 저 굴절율 투명층 및 평활한 저 굴절율 투명층의 표면상에 형성된 올록볼록한 저 굴절율 투명층을 구비한다.
이러한 음극선관을 이용하는 것에 의해 경량화하고, 표시화상의 해상도나 콘트라스트의 저하를 최소한 억제하여 외광반사를 저감하고 실용상 충분한 막강도를 구비하며, 저렴하고 제조공정을 단축할 수 있다.

Description

음극선관 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 3 도는 본 발명의 실시예 1에 따른 CRT의 구조를 도시한 모시적 측면도, 제 4 도는 제 3 도의 3층 피복층의 부분 확대 단면도, 제 6 도는 제 1 실시예에 사용되는 스핀 부스를 도시한 모시적 평면도, 제10도는 제 3 실시예에 사용된 스핀 부스를 도시한 모시적 평면도.

Claims (16)

  1. 페이스 플레이트가 마련된 음극선관으로서, 상기 페이스 플레이트의 외부 표면상에 형성된 고 굴절율 도전층, 상기 고 굴절율 도전층의 표면상에 형성된 평활한 저 굴절율 투명층 및 상기 평활한 저 굴절율 투명층의 표면상에 형성된 올록볼록한 저 굴절율 투명층을 포함하는 음극선관.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층의 광학막 두께가 페이스 플레이트로의 입사광의 소정의 파장의 1/4이고, 상기 평활한 저 굴절율 투명층과 상기 올록볼록한 저 굴절율 투명층의 조합층의 광학막 두께가 상기 파장의 1/4이며, 페이스 플레이트에 대한 상기 올록볼록한 저 굴절율 투명층의 광척도가 75%~85%인 음극선관.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 소정의 파장은 550nm인 음극선관.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층은 카본 블랙을 포함하는 음극선관.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층은 산화 인듐을 포함하는 음극선관.
  6. 외부 표면상에 피복층이 형성된 페이스 플레이트가 마련된 음극선관의 제보방법으로서, 스핀 코팅에 의해 상기 페이스 플레이트의 표면상에 고 굴절율 도전층을 형성하는 스텝, 스핀 코팅에 의해 상기 고 굴절율 도전층의 표면상에 평활한 저 굴절율 투명층을 형성하는 스텝, 스프레이 코팅에 의해 상기 평활한 저 굴절율 투명층의 표면상에 올록볼록한 저 굴절율 투명층을 형성하는 스텝을 포함하는 음극선관의 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층, 평활한 저 굴절율 투명층 및 올록볼록한 저 굴절율 투명층이 형성된후 소결하여 경화하는 스텝을 또 포함하는 음극선관의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층, 평활한 저 굴절율 투명층 및 올록볼록한 저 굴절율 투명층은 150℃~200℃에서 소결 경화되는 음극선관의 제조방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층 및 평활한 저 굴절율 투명층은 동일 장치내의 동일 스피너를 사용하여 형성되는 음극선관의 제조방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층이 형성된 후, 상기 고 굴절율 도전층은 회전하는 동안 건조되는 음극선관의 제조방법.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층을 형성하는 스텝은 상기 장치내에 배치된 제 1 의 스피너와 건조 수단을 사용하여 상기 고 굴절율 도전층을 형성하여 건조하고, 상기 평활한 저 굴절율 투명층을 형성하는 스텝은 상기 장치내의 제 2 의 스피너를 사용하는 음극선관의 제조방법.
  12. 외부표면상에 피복층이 형성된 페이스 플에이트가 마련된 음극선관의 제조방법으로서, 스핀 코팅에의해 상기 페이스 플레이트의 외부 표면상에 평활한 고 굴절율 도전층을 형성하는 스텝, 스핀 코팅에 의해 상기 고 굴절율 도전층의 표면상에 평활한 저 굴절율 투명층을 형성하는 스텝, 평활한 저 굴절율 투명층이 형성된 후 소결에 의해 경화하는 스텝을 포함하는 음극선관의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층, 평활한 저 굴절율 투명층 및 올록볼록한 저 굴절율 투명층은 150℃~200℃에서 소결 경화되는 음극선관의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층 및 평활한 저 굴절율 투명층은 동일 장치내의 동일 스피너를 사용하여 형성되는 음극선관의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층이 형성된 후, 상기 고 굴절율 도전층은 회전하는 동안 건조되는 음극선관의 제조방법.
  16. 제12항에 있어서, 상기 고 굴절율 도전층을 형성하는 스텝은 상기 장치내에 배치된 제 1 의 스피너와 건조 수단을 사용하여 상기 고 굴절율 도전층을 형성하여 건조하고, 상기 평활한 저 굴절율 투명층을 형성하는 스텝은 상기 장치내의 제 2 의 스피너를 사용하는 음극선관의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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