JPH06230086A - Lsiのテスト回路 - Google Patents

Lsiのテスト回路

Info

Publication number
JPH06230086A
JPH06230086A JP4252608A JP25260892A JPH06230086A JP H06230086 A JPH06230086 A JP H06230086A JP 4252608 A JP4252608 A JP 4252608A JP 25260892 A JP25260892 A JP 25260892A JP H06230086 A JPH06230086 A JP H06230086A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lsi
lsis
test
wafer
test circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4252608A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Goto
順一 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP4252608A priority Critical patent/JPH06230086A/ja
Priority to US08/124,071 priority patent/US5446395A/en
Publication of JPH06230086A publication Critical patent/JPH06230086A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/3185Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning
    • G01R31/318505Test of Modular systems, e.g. Wafers, MCM's
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2884Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/3185Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning
    • G01R31/318505Test of Modular systems, e.g. Wafers, MCM's
    • G01R31/318511Wafer Test

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェハ状態での高速かつ複数のLSIの同時
テストを可能とするLSIのテスト回路を提供する。 【構成】 同一ウェハ1上にLSI21、22とそのダ
イ領域の外側にこの二つのLSIをテストするテスト回
路3を搭載し、LSI21、22との間に配線を施す。
同一ウェハ上において、複数のLSIをテストするテス
ト回路を搭載することにより、ウェハ状態でのLSIの
テスト時間を減少することができる。またLSIと同じ
テバイス・プロセス技術によりテスト回路を作るため、
LSIテスタが追従できないような高速なLSIのテス
トも可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウェハ状態でのLSIの
テストを簡易化するテスト回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のLSIでは、図4に示すように、
ウェハ上において、各LSIは、それを個々のLSIに
切断する際の切断領域である100μm前後の幅を持つ
ダイシングラインによって互いに絶縁された状態でレイ
アウトされていた(これに関しては、例えば、西澤潤一
監修、超LSI総合事典、(株)サイエンスフォーラム
のp.439〜440に記載されている)。この場合の
ウェハ状態でのLSIのテストは、LSIテスタにより
1個1個行うという方法を取っていた(これに関して
は、例えば、上記の超LSI総合事典のp.175に記
載されている)。なお、ウェハから切断されて個々のL
SIになる領域を以下ダイ領域と呼ぶ。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のLSIでは、ウ
ェハ上の各LSIは電気的に絶縁された状態であるた
め、LSIのテストも1個1個逐次行うことを基本とし
ている。量産時には専用のテスタによる複数のLSIの
同時テストも可能であるが、テストにかかる時間・コス
トを低減する要求はなお高いものがある。
【0004】またLSIテスタの動作速度を上回るよう
な高速なLSIが作られる可能性も出てきた。特にウェ
ハ状態でのテストにおいては、LSIとテスタとの電気
的接続は、LSIの入出力用パッドとテスタヘッドの探
針との接触によって実現されているため、接触抵抗が大
きい等の理由から、高速でのテストは一層困難である。
この点に関しては、LSI自体にテスト機能回路を搭載
するビルト・イン・セルフ・テスト(以下BIST(B
uilt−in Self Test)。これに関して
は、例えば、渡辺誠著、超LSI設計、(株)企画セン
ターのp.211に記載されている)によりある程度解
決が可能であるが、BIST回路はLSI毎に搭載され
ているため、電源を供給したりテスト結果を得るために
は、LSIテスタによる1個1個のテストが基本となり
前述と同様の問題が生じることになる。特開昭62−1
71136号公報には、テスト回路とLSIとを分離し
て同一ウェハ上にレイアウトし、試験後テスト回路とL
SIを分離することで試験用入力端子を最終製品のLS
Iに設けておく必要をなくした発明が記載されている。
また特開昭62−217625号公報には、テスト専用
の電源線を設けウェハ上の各回路ブロックに独立して電
源を供給してテストする発明が記載されている。また特
開昭62−283641号公報にはウェハのスクライブ
ラインに複数のLSI領域に同時に電源電圧を供給する
ための電源線を配置して、ウェハ段階での複数のLSI
の同時テストを可能にする発明が記載されている。
【0005】しかしいずれの発明でも一つのLSIには
一つのテスト回路が設けてあり、ウェハの利用効率が悪
いという問題があった。
【0006】本発明はウェハ状態で複数のLSIを同時
に高速にテストでき,しかもウェハの利用効率も高いL
SIのテスト回路を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は同一ウェハ上
に、LSIとこのLSIを複数個同時にテストするテス
ト回路を搭載し、テスト回路の搭載位置が、LSIがウ
ェハから切断されて個々のLSIとなる領域の外側であ
り、複数のLSIとそれをテストする一個のテスト回路
とを接続する配線を施すことを特徴とする。
【0008】
【作用】同一ウェハ上に、LSIとそのダイ領域の外側
に該LSIをテストするテスト回路を搭載し、このテス
ト回路からLSIへ入力信号パタンと電源を供給するた
めの配線と、LSIの出力をテスト回路へ戻すための配
線を施す。この配線を、1個のテスト回路と複数のLS
Iとの間で行うことにより、複数のLSIの同時テスト
がウェハ状態で可能となる。しかもテスト回路のデバイ
スおよびプロセステクノロジは、LSIのそれと同じた
め、LSIと同じ動作速度で動作させることができ、高
速なテストも可能である。
【0009】
【実施例】次に図面を用いて本発明の実施例について詳
細に説明する。
【0010】図1は、本発明の一実施例である。同図
で、1はウェハ、21および22はLSIのダイ領域、
3はテスト回路、4a〜4dは配線である。破線部5を
繰り返し単位として、ウェハ1上にLSIとテスト回路
を実現する。本実施例では、2個のLSIが1個のテス
ト回路を共有する場合を説明する。LSI21と22は
機能的には同一のものであるが、後述するようにテスト
回路3を共有するために配線パタンが異なる。すなわち
配線のレイアウトがことなるため、21、22という異
なる番号を付けた。
【0011】また図2は、図1の一実施例の破線部5を
詳細に記した図であり、1個のテスト回路とそれを共有
する2個のLSI間の配線を説明するための図である。
【0012】まず電源電位と接地電位は、それぞれ電源
電位用パッド440、接地電位用パッド450に、LS
Iテスタのテストヘッドの探針を接触させ、これらを介
してLSIテスタから供給される。電源電位、接地電位
は、それぞれ電源電位用配線44、接地電位用配線45
を介して、テスト回路3とLSI21および22に供給
される。
【0013】次にクロック信号の供給について説明す
る。従来のLSIテストでは、LSIテスタがクロック
信号を発生してLSIに供給しているが、本実施例では
LSIテスタが追従できないような高速なLSIを想定
し、テスト回路3の中にクロック信号発生回路(以下C
G(Clock Generatorの略)とする)8
を搭載する。CG8の回路としては、インバータを用い
たリングオシレータが最も簡単であるが、高精度のクロ
ック信号が要求される場合には、フェイズ・ロックド・
ループ(以下PLL(Phase−Locked Lo
opの略)とする)等を用いたクロック信号発生回路が
必要となる。CG8が発生するクロック信号は、クロッ
ク信号用配線46を介して、LSI21および22のそ
れぞれのクロック信号入力パッド81、82に供給され
る。
【0014】LSI21および22の入力信号は、テス
ト回路3のパタン発生器(以下PG(Pattern
Generatorの略)とする)60により発生す
る。PG60の回路としては、BIST等で広く用いら
れているリニア・フィードバック・シフト・レジスタ
(以下LFSR(Linear Feedback S
hift Registerの略)とする)を用いた擬
似乱数発生器がある(これに関しては、例えば、前出の
超LSI総合事典のp.844に記載されている)。P
G60は、LSI21および22のそれぞれの入力信号
の個数分(同図の場合14個)の擬似乱数を発生する。
発生された擬似乱数は入力信号用配線群41を介して、
入力信号パッド群211および221の所定のパッドに
供給される。
【0015】LSI21および22の出力信号は、それ
ぞれの出力信号パッド群212および222から出力さ
れ、出力信号用配線群42および43を介して、パタン
圧縮器/比較器(以下PC/CMP(Pattern
Compressor/Comparatorの略)と
する)61および62に供給される。PC/CMP61
および62は、それぞれLSI21および22の出力信
号の時系列を圧縮し、その結果をシミュレーション等で
得られている期待値と比較して、一致・不一致を示す信
号を、それぞれのテスト結果出力用パッド71および7
2に出力する。被テストLSIの出力結果を圧縮して、
期待値と比較するという方法はBIST等で広く用いら
れている方法であり、前述のLFSRがパタン圧縮器と
しても機能し、これが用いられる。テスト結果出力用パ
ッド71および72の信号を、LSIテスタのテストヘ
ッドの探針を介してLSIテスタで読み取ることで、L
SI21および22のテスト結果の良否が判決できる。
【0016】LSI21および22は、それぞれテスト
回路3の上方、下方にレイアウトされる。一般的には、
LSI21、22とテスト回路3は上下非対称であるか
ら、配線群41〜46も非対称になり、結果としてLS
I21と22の配線レイアウトは異なったものとなる。
現在LSI製造の露光装置として広く採用されているス
テッパ露光装置では、あるパタンを単位として、ウェハ
上にそのパタンを2次元的に繰り返し露光する。この繰
り返しの単位の中に、目的のLSIとそれをテストする
テスト回路、さらにはこれらを接続する配線を含まなけ
ればならない。従って本実施例の場合、図1の破線部5
すなわち図2が繰り返しの単位となる。
【0017】以上のように、LSI21および22に同
時に等しい入力信号を与え、それぞれの出力信号の時系
列を圧縮した結果を、期待値と照合することで、LSI
21および22の良否の判断が同時に実行できる。従来
のウェハ状態でのテストがLSIのチップ1個1個で行
っていた場合に比較して、1/2のテスト回数で済む。
しかもテスト回路の数が半分で済むためその分ウェハ全
体に占めるテスト回路の面積が減少し、ウェハの利用効
率が向上する。
【0018】テスト回数をさらに減らし、ウェハの利用
効率をさらに上げるためには、テスト回路を共有するL
SIの個数を増やすことが必要である。図3に、4個の
LSIで1個のテスト回路を共有する場合のレイアウト
を示す。同図は図2と同様に露光の繰り返し単位となっ
ている。201〜204はLSI、300はテスト回
路、401〜408はLSIとテスト回路間の配線であ
る。
【0019】また電子ビーム直接描画法による露光を用
いると、必ずしも繰り返し単位は必要ではなくなり、1
枚のウェハ上の全LSIが1個のテスト回路を共有する
ような配線をレイアウトすることも可能となり、並列テ
ストの効率およびウェハの利用効率が著しく向上でき
る。
【0020】
【発明の効果】以上のように本発明は、複数のLSIを
一つのテスト回路で同時にテストするので、ウェハ状態
での高速かつ複数のLSIの同時テストが可能になり、
しかもウェハの利用効率が向上するという効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す平面図である。
【図2】図1の繰り返し単位の詳細を示す平面図であ
る。
【図3】本発明の第2の実施例を示す図である。
【図4】従来の技術を説明するための平面図である。
【符号の説明】
1 ウェハ 21、22 LSI 3 テスト回路 4a、4b、4c、4d 配線 5 繰り返し単位 41、42、43、44、45、46 配線 8 クロック信号発生回路 60 パタン発生器 61、62 パタン圧縮器/比較器 20 LSI 100 ダイシングライン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 同一ウェハ上に、LSIとこのLSIを
    複数個同時にテストするテスト回路を搭載し、テスト回
    路の搭載位置が、LSIがウェハから切断されて個々の
    LSIとなる領域の外側であり、複数のLSIとそれを
    テストする一個のテスト回路とを接続する配線を施すこ
    とを特徴とするLSIのテスト回路。
JP4252608A 1992-09-22 1992-09-22 Lsiのテスト回路 Pending JPH06230086A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4252608A JPH06230086A (ja) 1992-09-22 1992-09-22 Lsiのテスト回路
US08/124,071 US5446395A (en) 1992-09-22 1993-09-21 Test circuit for large scale integrated circuits on a wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4252608A JPH06230086A (ja) 1992-09-22 1992-09-22 Lsiのテスト回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06230086A true JPH06230086A (ja) 1994-08-19

Family

ID=17239740

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4252608A Pending JPH06230086A (ja) 1992-09-22 1992-09-22 Lsiのテスト回路

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5446395A (ja)
JP (1) JPH06230086A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862147A (en) * 1996-04-22 1999-01-19 Nec Corporation Semiconductor device on semiconductor wafer having simple wirings for test and capable of being tested in a short time
JP2005175379A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Chunghwa Picture Tubes Ltd トランジスタ
JP2022100240A (ja) * 2020-12-23 2022-07-05 財團法人工業技術研究院 マイクロ集積回路の大規模テスト

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5829128A (en) * 1993-11-16 1998-11-03 Formfactor, Inc. Method of mounting resilient contact structures to semiconductor devices
US5476211A (en) 1993-11-16 1995-12-19 Form Factor, Inc. Method of manufacturing electrical contacts, using a sacrificial member
US5648661A (en) * 1992-07-02 1997-07-15 Lsi Logic Corporation Integrated circuit wafer comprising unsingulated dies, and decoder arrangement for individually testing the dies
JPH07167920A (ja) * 1993-10-18 1995-07-04 Fujitsu Ltd Lsi
US20020053734A1 (en) 1993-11-16 2002-05-09 Formfactor, Inc. Probe card assembly and kit, and methods of making same
FI102805B1 (fi) * 1993-11-26 1999-02-15 Nokia Mobile Phones Ltd Matkapuhelimen rakenneratkaisu
US5619462A (en) * 1995-07-31 1997-04-08 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Fault detection for entire wafer stress test
DE19528733C1 (de) * 1995-08-04 1997-01-02 Siemens Ag Integrierte Schaltung
US5831992A (en) * 1995-08-17 1998-11-03 Northern Telecom Limited Methods and apparatus for fault diagnosis in self-testable systems
GB2307783B (en) * 1995-09-30 2000-04-05 Motorola Ltd Enhanced security semiconductor device, semiconductor circuit arrangement, and method of production thereof
US6046600A (en) * 1995-10-31 2000-04-04 Texas Instruments Incorporated Process of testing integrated circuit dies on a wafer
US5969538A (en) 1996-10-31 1999-10-19 Texas Instruments Incorporated Semiconductor wafer with interconnect between dies for testing and a process of testing
US5811983A (en) * 1996-09-03 1998-09-22 Integrated Device Technology, Inc. Test ring oscillator
US5929650A (en) * 1997-02-04 1999-07-27 Motorola, Inc. Method and apparatus for performing operative testing on an integrated circuit
JP2944578B2 (ja) * 1997-06-13 1999-09-06 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 Romテスト回路
US6260163B1 (en) 1997-12-12 2001-07-10 International Business Machines Corporation Testing high I/O integrated circuits on a low I/O tester
US6405335B1 (en) 1998-02-25 2002-06-11 Texas Instruments Incorporated Position independent testing of circuits
JP3484365B2 (ja) * 1999-01-19 2004-01-06 シャープ株式会社 半導体装置用パッケージ、この半導体装置用パッケージのテスト時に使用するプローブカード、および、このプローブカードを用いたパッケージのテスト方法
US6380729B1 (en) * 1999-02-16 2002-04-30 Alien Technology Corporation Testing integrated circuit dice
US6507808B1 (en) 1999-06-23 2003-01-14 International Business Machines Corporation Hardware logic verification data transfer checking apparatus and method therefor
US6728915B2 (en) 2000-01-10 2004-04-27 Texas Instruments Incorporated IC with shared scan cells selectively connected in scan path
US6769080B2 (en) 2000-03-09 2004-07-27 Texas Instruments Incorporated Scan circuit low power adapter with counter
CA2308820A1 (en) 2000-05-15 2001-11-15 The Governors Of The University Of Alberta Wireless radio frequency technique design and method for testing of integrated circuits and wafers
US6844751B2 (en) * 2000-09-30 2005-01-18 Texas Instruments Incorporated Multi-state test structures and methods
JP3719654B2 (ja) * 2001-05-10 2005-11-24 松下電器産業株式会社 Lsiテスト方法
JP2002340989A (ja) * 2001-05-15 2002-11-27 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 測定方法、検査方法及び検査装置
TW490783B (en) * 2001-05-22 2002-06-11 Hi Max Optoelectronics Corp Testing device and method built in the wafer scribe line
US6693557B2 (en) 2001-09-27 2004-02-17 Wavetronix Llc Vehicular traffic sensor
EP1466365A2 (en) * 2001-09-28 2004-10-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing an integrated circuit, integrated circuit obtained in accordance with said method, wafer provided with an integrated circuit obtained in accordance with the method, and system comprising an integrated circuit obtained by means of the method
JP2003209147A (ja) * 2002-01-11 2003-07-25 Nec Microsystems Ltd チップ製造方法およびシステム
JP2004108872A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体パッケージ内部の結線テスト方法
JP4462903B2 (ja) * 2003-11-18 2010-05-12 パナソニック株式会社 半導体ウェハ
JP2006038599A (ja) * 2004-07-26 2006-02-09 Nec Electronics Corp 接触抵抗測定方法,接触抵抗測定装置,及び半導体ウェハー
US7319340B2 (en) * 2005-08-01 2008-01-15 Micron Technology, Inc. Integrated circuit load board and method having on-board test circuit
US7765424B2 (en) * 2005-08-19 2010-07-27 Micron Technology, Inc. System and method for injecting phase jitter into integrated circuit test signals
US8665113B2 (en) 2005-10-31 2014-03-04 Wavetronix Llc Detecting roadway targets across beams including filtering computed positions
US7355387B2 (en) * 2005-12-08 2008-04-08 Micron Technology, Inc. System and method for testing integrated circuit timing margins
US7405585B2 (en) * 2006-02-14 2008-07-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Versatile semiconductor test structure array
JP2007226711A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Hitachi Ltd 集積回路装置、集積回路装置の診断方法、および診断回路
US7750660B2 (en) * 2006-03-30 2010-07-06 Qualcomm Incorporated Integrated circuit with improved test capability via reduced pin count
US8436636B2 (en) * 2006-10-10 2013-05-07 Apple Inc. Methods and apparatuses for testing circuit boards
US8362793B2 (en) * 2006-11-07 2013-01-29 Apple Inc. Circuit boards including removable test point portions and configurable testing platforms
CN201374867Y (zh) * 2006-11-07 2009-12-30 苹果公司 包括可去除测试点部分的电路板
WO2008152557A1 (en) * 2007-06-12 2008-12-18 Nxp B.V. Semiconductor device test method
ITMI20111418A1 (it) 2011-07-28 2013-01-29 St Microelectronics Srl Architettura di testing di circuiti integrati su un wafer
US9412271B2 (en) 2013-01-30 2016-08-09 Wavetronix Llc Traffic flow through an intersection by reducing platoon interference
US9947712B2 (en) * 2016-01-27 2018-04-17 Varex Imaging Corporation Matrix type integrated circuit with fault isolation capability
GB2559407B (en) 2017-02-06 2020-06-03 Advanced Risc Mach Ltd Testing integrated circuits

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5861639A (ja) * 1981-10-08 1983-04-12 Toshiba Corp 半導体装置
JPS6331131A (ja) * 1986-07-25 1988-02-09 Toshiba Corp 半導体ウエハ
JPH0282547A (ja) * 1988-09-19 1990-03-23 Nec Corp 半導体ウェハー

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3526485A1 (de) * 1985-07-24 1987-02-05 Heinz Krug Schaltungsanordnung zum pruefen integrierter schaltungseinheiten
JPS62171136A (ja) * 1986-01-23 1987-07-28 Nec Corp 集積回路の製造方法
JPH0697672B2 (ja) * 1986-03-18 1994-11-30 ロ−ム株式会社 半導体装置の製造歩留まり予測方法
JPS62283641A (ja) * 1986-06-02 1987-12-09 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
US4956602A (en) * 1989-02-14 1990-09-11 Amber Engineering, Inc. Wafer scale testing of redundant integrated circuit dies
EP0494782B1 (en) * 1991-01-11 1997-04-23 Texas Instruments Incorporated Wafer burn-in and test system and method of making the same
US5315241A (en) * 1991-09-18 1994-05-24 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Method for testing integrated circuits

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5861639A (ja) * 1981-10-08 1983-04-12 Toshiba Corp 半導体装置
JPS6331131A (ja) * 1986-07-25 1988-02-09 Toshiba Corp 半導体ウエハ
JPH0282547A (ja) * 1988-09-19 1990-03-23 Nec Corp 半導体ウェハー

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862147A (en) * 1996-04-22 1999-01-19 Nec Corporation Semiconductor device on semiconductor wafer having simple wirings for test and capable of being tested in a short time
JP2005175379A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Chunghwa Picture Tubes Ltd トランジスタ
JP2022100240A (ja) * 2020-12-23 2022-07-05 財團法人工業技術研究院 マイクロ集積回路の大規模テスト

Also Published As

Publication number Publication date
US5446395A (en) 1995-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06230086A (ja) Lsiのテスト回路
EP0273821B1 (en) Semiconductor integrated circuit with a test function
US5701666A (en) Method for manufacturing a stimulus wafer for use in a wafer-to-wafer testing system to test integrated circuits located on a product wafer
JP3685498B2 (ja) プログラム可能高密度電子工学試験装置
US7412639B2 (en) System and method for testing circuitry on a wafer
JP2000352576A (ja) 回路障害を分離する方法
WO2010075815A1 (zh) 集成电路并行测试方法、装置和系统
KR960026524A (ko) 프로브 시험용 전원 패드를 가지는 반도체 칩 및 반도체 웨이퍼
JPH0691140B2 (ja) 半導体集積回路
JP2002176140A (ja) 半導体集積回路ウェハ
JP2976190B2 (ja) マルチチップ・モジュール開発基板及びマルチチップ・モジュール基板開発方法
Fkih et al. 3D DFT challenges and solutions
KR100313185B1 (ko) 집적 회로 소자의 전기적 액세스 및 상호 접속 방법과 그 장치
KR20000011209A (ko) 멀티테스트회로를구비하는반도체웨이퍼및멀티테스트공정을포함하는반도체장치의제조방법
JPH09127188A (ja) 集積回路を作る方法およびウェハ上のダイを検査するためのシステム
Cleverley Product quality level monitoring and control for logic chips and modules
JP2005024410A (ja) 半導体集積回路装置
Wang et al. Testing of interposer-based 2.5 D integrated circuits
Zorian et al. Designing self-testable multi-chip modules
JP2000124278A (ja) 半導体装置及び半導体装置の試験方法
JP3763258B2 (ja) プローブカード及びそれを用いたチップ領域ソート方法
Wang et al. Testing of Interposer-Based 2.5 D Integrated Circuits: Challenges and Solutions
JP2001291749A (ja) プローブカード及びそれを用いたチップ領域ソート方法
JPS62194635A (ja) ウエ−ハスケ−ル集積回路
US20070132472A1 (en) Semiconductor integrated circuit and method for testing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19970415