JPH06224325A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH06224325A JPH06224325A JP1068493A JP1068493A JPH06224325A JP H06224325 A JPH06224325 A JP H06224325A JP 1068493 A JP1068493 A JP 1068493A JP 1068493 A JP1068493 A JP 1068493A JP H06224325 A JPH06224325 A JP H06224325A
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- Japan
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- conductor circuit
- wiring board
- printed wiring
- sealing resin
- sealing
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 封止樹脂による半導体素子の封止の信頼性を
高く得る。 【構成】 プリント配線板1の表面に金属で導体回路2
を形成し、プリント配線板2に半導体素子3を実装する
と共に半導体素子3を導体回路2と電気的に接続し、プ
リント配線板1の表面に封止樹脂4を成形することによ
って半導体素子3を封止して半導体装置を形成する。こ
の半導体装置において、封止樹脂4による封止箇所の導
体回路2の表面を金属表面として露出させる。封止樹脂
4は導体回路2の金属表面に密着されることになり、プ
リント配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させるこ
とができる。
高く得る。 【構成】 プリント配線板1の表面に金属で導体回路2
を形成し、プリント配線板2に半導体素子3を実装する
と共に半導体素子3を導体回路2と電気的に接続し、プ
リント配線板1の表面に封止樹脂4を成形することによ
って半導体素子3を封止して半導体装置を形成する。こ
の半導体装置において、封止樹脂4による封止箇所の導
体回路2の表面を金属表面として露出させる。封止樹脂
4は導体回路2の金属表面に密着されることになり、プ
リント配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させるこ
とができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子を封止した
半導体装置に関するものである。
半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図7は半導体装置の一例を示すものであ
り、プリント配線板1の表面に銅箔のエッチング加工等
で導体回路2を形成すると共に、導体回路2の端部のボ
ンディング部2a及び素子実装部2bを除いてプリント
配線板1の表面にソルダーレジスト8を塗布することに
よって導体回路2をマスキングし、この状態で金メッキ
をおこなって導体回路2のボンディング部2a及び素子
実装部2bの表面に金メッキ層9をメッキし、そして素
子実装部2bの上に半導体素子3を搭載すると共に半導
体素子3の電極と金メッキ層9で被覆したボンディング
部2aとの間に金線等のワイヤーボンディング10を施
し、さらにプリント配線板1の表面に封止樹脂4を成形
して半導体素子3を封止することによって作成してあ
る。
り、プリント配線板1の表面に銅箔のエッチング加工等
で導体回路2を形成すると共に、導体回路2の端部のボ
ンディング部2a及び素子実装部2bを除いてプリント
配線板1の表面にソルダーレジスト8を塗布することに
よって導体回路2をマスキングし、この状態で金メッキ
をおこなって導体回路2のボンディング部2a及び素子
実装部2bの表面に金メッキ層9をメッキし、そして素
子実装部2bの上に半導体素子3を搭載すると共に半導
体素子3の電極と金メッキ層9で被覆したボンディング
部2aとの間に金線等のワイヤーボンディング10を施
し、さらにプリント配線板1の表面に封止樹脂4を成形
して半導体素子3を封止することによって作成してあ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、封止樹脂4と
ソルダーレジスト8との密着性や、ソルダーレジスト8
と金属の導体回路2との密着性は、封止樹脂4と金属の
導体回路2との密着性よりも一般的に低いために、図7
の従来例では封止樹脂4とソルダーレジスト8との界面
や、ソルダーレジスト8と導体回路2との界面で剥離が
発生し易く、プリント配線板1と封止樹脂4との密着性
を確保することができなくなって、封止の信頼性が低下
するおそれがあるという問題があった。
ソルダーレジスト8との密着性や、ソルダーレジスト8
と金属の導体回路2との密着性は、封止樹脂4と金属の
導体回路2との密着性よりも一般的に低いために、図7
の従来例では封止樹脂4とソルダーレジスト8との界面
や、ソルダーレジスト8と導体回路2との界面で剥離が
発生し易く、プリント配線板1と封止樹脂4との密着性
を確保することができなくなって、封止の信頼性が低下
するおそれがあるという問題があった。
【0004】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、封止の信頼性を高く得ることができる半導体装置
を提供することを目的とするものである。
あり、封止の信頼性を高く得ることができる半導体装置
を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、プリント配線
板1の表面に金属で導体回路2を形成し、プリント配線
板2に半導体素子3を実装すると共に半導体素子3を導
体回路2と電気的に接続し、プリント配線板1の表面に
封止樹脂4を成形することによって半導体素子3を封止
して形成される半導体装置において、封止樹脂4による
封止箇所の導体回路2の表面を金属表面として露出させ
て成ることを特徴とするものである。
板1の表面に金属で導体回路2を形成し、プリント配線
板2に半導体素子3を実装すると共に半導体素子3を導
体回路2と電気的に接続し、プリント配線板1の表面に
封止樹脂4を成形することによって半導体素子3を封止
して形成される半導体装置において、封止樹脂4による
封止箇所の導体回路2の表面を金属表面として露出させ
て成ることを特徴とするものである。
【0006】
【作用】封止樹脂4による封止箇所の導体回路2の表面
を金属表面として露出させてあるので、封止樹脂4は導
体回路2の金属表面に密着されることになり、プリント
配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させることがで
きる。
を金属表面として露出させてあるので、封止樹脂4は導
体回路2の金属表面に密着されることになり、プリント
配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させることがで
きる。
【0007】
【実施例】以下本発明を実施例によって詳述する。ガラ
ス布基材エポキシ樹脂積層板などを基板とするプリント
配線板1の表面には銅箔のエッチング加工等によって導
体回路2が形成してある。この導体回路2はプリント配
線板1の中央に配置される素子実装部2bを中心として
放射状に設けられるものであり、各回路の素子実装部2
bに近接する端部はボンディング部2aとして形成して
ある。そして導体回路2の端部のボンディング部2a及
び素子実装部2bを除いてプリント配線板1の表面にソ
ルダーレジストを塗布することによって導体回路2の金
メッキを施さない部分をマスキングし、この状態でプリ
ント配線板1を金メッキ浴に浸漬して導体回路2に通電
することによって金メッキをおこない、導体回路2のボ
ンディング部2a及び素子実装部2bの表面に金メッキ
層9をメッキし、この後にプリント配線板1の表面から
ソルダーレジストを剥離したり溶解したりして除去す
る。この後に、素子実装部2bの上にICチップ等の半
導体素子3を搭載すると共に半導体素子3の電極と金メ
ッキ層9で被覆したボンディング部2aとの間に金線等
のワイヤーボンディング10を施して、半導体素子3と
導体回路2とを電気的に接続する。さらにプリント配線
板1の表面にエポキシ樹脂やシリコン樹脂などの封止樹
脂4を成形して、半導体素子3を封止樹脂4で封止する
ことによって、図1に示すような半導体装置を作成する
ことができるものである。
ス布基材エポキシ樹脂積層板などを基板とするプリント
配線板1の表面には銅箔のエッチング加工等によって導
体回路2が形成してある。この導体回路2はプリント配
線板1の中央に配置される素子実装部2bを中心として
放射状に設けられるものであり、各回路の素子実装部2
bに近接する端部はボンディング部2aとして形成して
ある。そして導体回路2の端部のボンディング部2a及
び素子実装部2bを除いてプリント配線板1の表面にソ
ルダーレジストを塗布することによって導体回路2の金
メッキを施さない部分をマスキングし、この状態でプリ
ント配線板1を金メッキ浴に浸漬して導体回路2に通電
することによって金メッキをおこない、導体回路2のボ
ンディング部2a及び素子実装部2bの表面に金メッキ
層9をメッキし、この後にプリント配線板1の表面から
ソルダーレジストを剥離したり溶解したりして除去す
る。この後に、素子実装部2bの上にICチップ等の半
導体素子3を搭載すると共に半導体素子3の電極と金メ
ッキ層9で被覆したボンディング部2aとの間に金線等
のワイヤーボンディング10を施して、半導体素子3と
導体回路2とを電気的に接続する。さらにプリント配線
板1の表面にエポキシ樹脂やシリコン樹脂などの封止樹
脂4を成形して、半導体素子3を封止樹脂4で封止する
ことによって、図1に示すような半導体装置を作成する
ことができるものである。
【0008】このように作成される半導体装置にあっ
て、封止樹脂4による封止の前にソルダーレジストを除
去して導体回路2は銅表面あるいは金メッキ表面として
金属表面を露出させるようにしているために、封止樹脂
4は導体回路2の表面に直接密着されることになり、封
止樹脂4と金属の導体回路2とは密着強度が高く、従っ
てプリント配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させ
ることができるものである。このようにしてプリント配
線板1の小型化、配線や半導体素子3の実装の高密度化
への対応に対して何らの制約も受けることなくプリント
配線板1と封止樹脂4の密着性を向上させて、封止の信
頼性を高く得ることができるものである。尚、導体回路
2の露出表面は、ブラシ研磨やショットブラスト等の機
械的粗面化処理や、黒化処理(銅の酸化処理)や加熱処
理による酸化膜形成等の化学的粗面化処理を施して、導
体回路2の露出表面を粗面化することによって、導体回
路2と封止樹脂4との密着性をさらに高めるようにする
のが好ましい。
て、封止樹脂4による封止の前にソルダーレジストを除
去して導体回路2は銅表面あるいは金メッキ表面として
金属表面を露出させるようにしているために、封止樹脂
4は導体回路2の表面に直接密着されることになり、封
止樹脂4と金属の導体回路2とは密着強度が高く、従っ
てプリント配線板1と封止樹脂4との密着性を向上させ
ることができるものである。このようにしてプリント配
線板1の小型化、配線や半導体素子3の実装の高密度化
への対応に対して何らの制約も受けることなくプリント
配線板1と封止樹脂4の密着性を向上させて、封止の信
頼性を高く得ることができるものである。尚、導体回路
2の露出表面は、ブラシ研磨やショットブラスト等の機
械的粗面化処理や、黒化処理(銅の酸化処理)や加熱処
理による酸化膜形成等の化学的粗面化処理を施して、導
体回路2の露出表面を粗面化することによって、導体回
路2と封止樹脂4との密着性をさらに高めるようにする
のが好ましい。
【0009】図2の実施例は、リードフレームのリード
12を外部接続用端子としてプリント配線板1の導体回
路2に接続して取り付け、半導体素子3とともにプリン
ト配線板1の全体を封止樹脂4によって封止することに
よって、QFP(クオーテッドフラットパッケージ)型
半導体装置として作成するようにしたものである。図3
の実施例では、プリント配線板1にスルーホール13を
設けると共にスルーホール13の内周に導体回路2と導
通されるスルーホールメッキ14を設け、端子ピン15
を外部接続用端子としてこのスルーホール13に差し込
んでプリント配線板1の下面から突出するように取り付
けることによって、PGA(ピングリッドアレイ)型半
導体装置として作成するようにしてある。この実施例で
はプリント配線板1に凹部16を設けてこの凹部16内
において半導体素子3を実装するようにしてある。
12を外部接続用端子としてプリント配線板1の導体回
路2に接続して取り付け、半導体素子3とともにプリン
ト配線板1の全体を封止樹脂4によって封止することに
よって、QFP(クオーテッドフラットパッケージ)型
半導体装置として作成するようにしたものである。図3
の実施例では、プリント配線板1にスルーホール13を
設けると共にスルーホール13の内周に導体回路2と導
通されるスルーホールメッキ14を設け、端子ピン15
を外部接続用端子としてこのスルーホール13に差し込
んでプリント配線板1の下面から突出するように取り付
けることによって、PGA(ピングリッドアレイ)型半
導体装置として作成するようにしてある。この実施例で
はプリント配線板1に凹部16を設けてこの凹部16内
において半導体素子3を実装するようにしてある。
【0010】図4の実施例では、プリント配線板1に設
けた導体回路2の端部をプリント配線板1の外側縁にお
いて延長してリードレス端子17を形成し、LCC(リ
ードレスチップキャリア)型半導体装置として作成する
ようにしてある。この実施例ではプリント配線板1の複
数箇所に半導体素子3を実装して各半導体素子3を封止
樹脂4で封止するようにしてある。
けた導体回路2の端部をプリント配線板1の外側縁にお
いて延長してリードレス端子17を形成し、LCC(リ
ードレスチップキャリア)型半導体装置として作成する
ようにしてある。この実施例ではプリント配線板1の複
数箇所に半導体素子3を実装して各半導体素子3を封止
樹脂4で封止するようにしてある。
【0011】図5の実施例は、プリント配線板1の一方
の端部に外部接続端子18を取り付け、縦型に半導体装
置を作成するようにしてある。図6の実施例では、プリ
ント配線板1の上下両面に導体回路2を設け、プリント
配線板1にスルーホール13を設けると共にスルーホー
ル13の内周にスルーホールメッキ14を施して必要に
応じて各導体回路2を接続し、そしてプリント配線板1
の上下両面にそれぞれ半導体素子3を実装するようにし
てある。またこの実施例ではリード12を内側に曲げて
Jベントとして形成してある。
の端部に外部接続端子18を取り付け、縦型に半導体装
置を作成するようにしてある。図6の実施例では、プリ
ント配線板1の上下両面に導体回路2を設け、プリント
配線板1にスルーホール13を設けると共にスルーホー
ル13の内周にスルーホールメッキ14を施して必要に
応じて各導体回路2を接続し、そしてプリント配線板1
の上下両面にそれぞれ半導体素子3を実装するようにし
てある。またこの実施例ではリード12を内側に曲げて
Jベントとして形成してある。
【0012】
【発明の効果】上記のように本発明は、封止樹脂による
封止箇所の導体回路の表面を金属表面として露出させて
あるので、封止樹脂は導体回路の金属表面に密着される
ことになり、封止樹脂と導体回路の金属表面との高い密
着強度によってプリント配線板と封止樹脂との密着性を
向上させることができ、封止の信頼性を高く得ることが
できるものである。
封止箇所の導体回路の表面を金属表面として露出させて
あるので、封止樹脂は導体回路の金属表面に密着される
ことになり、封止樹脂と導体回路の金属表面との高い密
着強度によってプリント配線板と封止樹脂との密着性を
向上させることができ、封止の信頼性を高く得ることが
できるものである。
【図1】本発明の一実施例の断面図である。
【図2】本発明の他の実施例の断面図である。
【図3】本発明のさらに他の実施例の断面図である。
【図4】本発明のさらに他の実施例の断面図である。
【図5】本発明のさらに他の実施例の断面図である。
【図6】本発明のさらに他の実施例の断面図である。
【図7】従来例の断面図である。
1 プリント配線板 2 導体回路 3 半導体素子 4 封止樹脂
Claims (1)
- 【請求項1】 プリント配線板の表面に金属で導体回路
を形成し、プリント配線板に半導体素子を実装すると共
に半導体素子を導体回路と電気的に接続し、プリント配
線板の表面に封止樹脂を成形することによって半導体素
子を封止して形成される半導体装置において、封止樹脂
による封止箇所の導体回路の表面を金属表面として露出
させて成ることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1068493A JPH06224325A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1068493A JPH06224325A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06224325A true JPH06224325A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=11757097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1068493A Pending JPH06224325A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06224325A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007318098A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-12-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置および回路装置の製造方法 |
US10615093B2 (en) | 2017-04-21 | 2020-04-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62172744A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 電子回路実装構造 |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP1068493A patent/JPH06224325A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62172744A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 電子回路実装構造 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007318098A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-12-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置および回路装置の製造方法 |
JP4503039B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2010-07-14 | 三洋電機株式会社 | 回路装置 |
US8656581B2 (en) | 2006-04-27 | 2014-02-25 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating a circuit apparatus |
US10615093B2 (en) | 2017-04-21 | 2020-04-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981110 |