JPH062058A - 結晶粒成長抑制無酸素銅 - Google Patents

結晶粒成長抑制無酸素銅

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JPH062058A
JPH062058A JP18982892A JP18982892A JPH062058A JP H062058 A JPH062058 A JP H062058A JP 18982892 A JP18982892 A JP 18982892A JP 18982892 A JP18982892 A JP 18982892A JP H062058 A JPH062058 A JP H062058A
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JP
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free copper
crystal grain
grain growth
oxygen free
less
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JP18982892A
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English (en)
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Hisao Hiramoto
久雄 平本
Kenji Sada
賢治 佐田
Mitsuyoshi Yano
充義 矢野
Junichi Takagi
潤一 高木
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子機器、電子管等に使用される無酸素銅の
加熱処理に対する結晶粒の成長を抑制し、加工性を向上
させた。 【構成】 Sを0.0006〜0.0015wt%含
み、残部が通常の不純物とCuとからなる結晶粒成長抑
制無酸素銅。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子機器、電子管等に使
用される無酸素銅に関し、特に加熱処理に対して、結晶
粒の成長を抑制し、加工性を改善した無酸素銅に係るも
のである。
【0002】
【従来の技術】無酸素銅は、電気伝導度、展延性に優れ
ていることから電子機器、電子管等およびその他の電気
材料として、板、条、線、棒、管などが広く使用されて
いる。例えば現在電子管用として使用されているもの
に、JISH3510の電子管用無酸素銅の板、条・継
目無管、棒及び線がある。この合金成分は、合金番号C
1011として、wt%でCu:99.98%以上、P
b:0.001%以下、Zn:0.0001%以下、B
i:0.001%以下、Cd:0.0001%以下、H
g:0.0001%以下、O:0.001以下、P:
0.0003%以下、S:0.0018%以下、Se:
0.001%以下、Te:0.001%以下とされてい
る。しかしこれらの成分は、上限および下限が規定され
ているもので、実際の成分はメーカーによって異なり、
例えばSは0.0001〜0.0008wt%の範囲が
多い。ところで前記の電子機器、電子管等の製品の製造
工程においては、熱処理が入る場合がある。この時、前
記の従来の無酸素銅では、再結晶温度以上の熱処理後、
結晶粒の大きさがバラツキ易く、このため展延性に影響
を与え、所定の加工精度が出ない、あるいは外観上問題
がある等の不具合がしばしば経験されている。また電子
機器、電子管等の製造工程においても、例えばろう付け
処理等の熱処理あるいは曲げ加工が入る場合がある。こ
の際にも結晶粒の大きさがばらつくと、製品間で、機械
的性質等のバラツキあるいは外観上問題がある等の不具
合が生じていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の問題に
ついて検討の結果なされたもので、再結晶温度以上に加
熱処理されても、結晶粒度が粗大化することなく、した
がって加工性が良好な無酸素銅を開発したものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明はSを0.000
6〜0.0015wt%含み、残部が通常の不燃物とC
uとからなる結晶粒成長抑制無酸素銅である。すなわち
本発明は、前記した無酸素銅中の各種不純物の結晶粒成
長に及ぼす影響について検討した結果、Sの含有量が結
晶粒成長に大きく寄与し、この含有量を上記の範囲に選
択すれば、他の不純物は通常の量含有しても、再結晶温
度以上の熱処理において、一定の大きさの結晶粒に調整
できることを見出したものである。
【0005】
【作用】しかして本発明においてSの量を0.0006
〜0.0015wt%としたのは、0.0006wt%
未満では、結晶粒成長の抑制効果が少なく、したがって
加工性の向上が望めない。また0.0015wt%より
多いと、結晶粒が混粒となり、製造工程における熱間加
工の際、動的再結晶が抑制されて、中間温度脆性による
脆化割れの可能性が高くなるからである。本発明の無酸
素銅の製造方法は、通常の無酸素銅の製造方法で製造で
きる。例えばP、Si、Mg、Ca、などの脱酸剤を用
いる脱酸法。水素気中で溶解し、ついで水素を炭酸ガス
あるいは窒素で逐出する還元ガス法。高周波誘導電気炉
で真空溶解する真空溶解法などがあるが、これらのいず
れの方法も適用できる。便宜的には、上記の製造方法に
より作製された無酸素銅にSを添加することで容易に製
造できる。なお本発明におけるS以外の成分としては、
前記したJISH3510の合金番号C1011に示さ
れている、Cu:99.98wt%以上、Pb:0.0
01wt%以下、Zn:0.0001wt%以下、B
i:0.001wt%以下、Cd:0.0001wt%
以下、Hg:0.0001wt%以下、0:0.001
wt%以下、P:0.0003%wt%以下、Se:
0.001wt%以下、Te:0.001wt%以下で
あることが望ましく、上記の成分範囲より大きく外れる
と無酸素銅としての特性が損なわれる。
【0006】
【実施例】以下に本発明の一実施例について説明する。 実施例1 前記したJIS3510の合金番号C1011の無酸素
銅を用い常法により表1に示す成分の鋳魂を作製した。
これを熱間圧延,冷間圧延して、厚さ1mmの板を作製
した。この試料を800℃で30分間熱処理して、結晶
粒の大きさを測定した。この結果を表1に併記した。
【0007】
【表1】
【0008】表1から明らかなように、本発明に係るN
o.1〜No.3は、他の成分は通常の無酸素銅と同程
度であるが、Sが0.0006〜0.0015wt%の
範囲にあるものは、いずれも結晶粒度が60〜70μm
と小さい。一方、比較例のNo.4はSが少ないため結
晶粒度が大きい。また比較例のNo.5はSが多いた
め、結晶粒度の細かいものと大きいものとの混粒となっ
た。
【0009】実施例2 実施例1と同じ試料を用いて、曲げ角度180°の密着
曲げ試験を行った。曲げ部の外観観察結果では、比較例
No.4のSの少ないものに肌荒れが見られ、結晶粒粗
大化により加工面に大きな凹凸が生じたことを示した。
また比較例No.5のSの多いものは、局部的に大きな
凹凸が見られ、混粒の影響がでていると判断された。一
方、本発明に係る試料については、このような凹凸は観
察されず、曲げ面も平滑であった。このことは強加工に
対し、結晶粒の小さい方が優れた加工性を有することを
示すものである。
【0010】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
再結晶温度以上に加熱処理されても、結晶粒度が粗大化
することなく、加工性が良好な無酸素銅が得られるもの
で、工業上顕著な効果を奏するものである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月19日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高木 潤一 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Sを0.0006〜0.0015wt%
    含み、残部が通常の不純物とCuとからなる結晶粒成長
    抑制無酸素銅。
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