JPH062058A - 結晶粒成長抑制無酸素銅 - Google Patents
結晶粒成長抑制無酸素銅Info
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- JPH062058A JPH062058A JP18982892A JP18982892A JPH062058A JP H062058 A JPH062058 A JP H062058A JP 18982892 A JP18982892 A JP 18982892A JP 18982892 A JP18982892 A JP 18982892A JP H062058 A JPH062058 A JP H062058A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子機器、電子管等に使用される無酸素銅の
加熱処理に対する結晶粒の成長を抑制し、加工性を向上
させた。 【構成】 Sを0.0006〜0.0015wt%含
み、残部が通常の不純物とCuとからなる結晶粒成長抑
制無酸素銅。
加熱処理に対する結晶粒の成長を抑制し、加工性を向上
させた。 【構成】 Sを0.0006〜0.0015wt%含
み、残部が通常の不純物とCuとからなる結晶粒成長抑
制無酸素銅。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子機器、電子管等に使
用される無酸素銅に関し、特に加熱処理に対して、結晶
粒の成長を抑制し、加工性を改善した無酸素銅に係るも
のである。
用される無酸素銅に関し、特に加熱処理に対して、結晶
粒の成長を抑制し、加工性を改善した無酸素銅に係るも
のである。
【0002】
【従来の技術】無酸素銅は、電気伝導度、展延性に優れ
ていることから電子機器、電子管等およびその他の電気
材料として、板、条、線、棒、管などが広く使用されて
いる。例えば現在電子管用として使用されているもの
に、JISH3510の電子管用無酸素銅の板、条・継
目無管、棒及び線がある。この合金成分は、合金番号C
1011として、wt%でCu:99.98%以上、P
b:0.001%以下、Zn:0.0001%以下、B
i:0.001%以下、Cd:0.0001%以下、H
g:0.0001%以下、O:0.001以下、P:
0.0003%以下、S:0.0018%以下、Se:
0.001%以下、Te:0.001%以下とされてい
る。しかしこれらの成分は、上限および下限が規定され
ているもので、実際の成分はメーカーによって異なり、
例えばSは0.0001〜0.0008wt%の範囲が
多い。ところで前記の電子機器、電子管等の製品の製造
工程においては、熱処理が入る場合がある。この時、前
記の従来の無酸素銅では、再結晶温度以上の熱処理後、
結晶粒の大きさがバラツキ易く、このため展延性に影響
を与え、所定の加工精度が出ない、あるいは外観上問題
がある等の不具合がしばしば経験されている。また電子
機器、電子管等の製造工程においても、例えばろう付け
処理等の熱処理あるいは曲げ加工が入る場合がある。こ
の際にも結晶粒の大きさがばらつくと、製品間で、機械
的性質等のバラツキあるいは外観上問題がある等の不具
合が生じていた。
ていることから電子機器、電子管等およびその他の電気
材料として、板、条、線、棒、管などが広く使用されて
いる。例えば現在電子管用として使用されているもの
に、JISH3510の電子管用無酸素銅の板、条・継
目無管、棒及び線がある。この合金成分は、合金番号C
1011として、wt%でCu:99.98%以上、P
b:0.001%以下、Zn:0.0001%以下、B
i:0.001%以下、Cd:0.0001%以下、H
g:0.0001%以下、O:0.001以下、P:
0.0003%以下、S:0.0018%以下、Se:
0.001%以下、Te:0.001%以下とされてい
る。しかしこれらの成分は、上限および下限が規定され
ているもので、実際の成分はメーカーによって異なり、
例えばSは0.0001〜0.0008wt%の範囲が
多い。ところで前記の電子機器、電子管等の製品の製造
工程においては、熱処理が入る場合がある。この時、前
記の従来の無酸素銅では、再結晶温度以上の熱処理後、
結晶粒の大きさがバラツキ易く、このため展延性に影響
を与え、所定の加工精度が出ない、あるいは外観上問題
がある等の不具合がしばしば経験されている。また電子
機器、電子管等の製造工程においても、例えばろう付け
処理等の熱処理あるいは曲げ加工が入る場合がある。こ
の際にも結晶粒の大きさがばらつくと、製品間で、機械
的性質等のバラツキあるいは外観上問題がある等の不具
合が生じていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の問題に
ついて検討の結果なされたもので、再結晶温度以上に加
熱処理されても、結晶粒度が粗大化することなく、した
がって加工性が良好な無酸素銅を開発したものである。
ついて検討の結果なされたもので、再結晶温度以上に加
熱処理されても、結晶粒度が粗大化することなく、した
がって加工性が良好な無酸素銅を開発したものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明はSを0.000
6〜0.0015wt%含み、残部が通常の不燃物とC
uとからなる結晶粒成長抑制無酸素銅である。すなわち
本発明は、前記した無酸素銅中の各種不純物の結晶粒成
長に及ぼす影響について検討した結果、Sの含有量が結
晶粒成長に大きく寄与し、この含有量を上記の範囲に選
択すれば、他の不純物は通常の量含有しても、再結晶温
度以上の熱処理において、一定の大きさの結晶粒に調整
できることを見出したものである。
6〜0.0015wt%含み、残部が通常の不燃物とC
uとからなる結晶粒成長抑制無酸素銅である。すなわち
本発明は、前記した無酸素銅中の各種不純物の結晶粒成
長に及ぼす影響について検討した結果、Sの含有量が結
晶粒成長に大きく寄与し、この含有量を上記の範囲に選
択すれば、他の不純物は通常の量含有しても、再結晶温
度以上の熱処理において、一定の大きさの結晶粒に調整
できることを見出したものである。
【0005】
【作用】しかして本発明においてSの量を0.0006
〜0.0015wt%としたのは、0.0006wt%
未満では、結晶粒成長の抑制効果が少なく、したがって
加工性の向上が望めない。また0.0015wt%より
多いと、結晶粒が混粒となり、製造工程における熱間加
工の際、動的再結晶が抑制されて、中間温度脆性による
脆化割れの可能性が高くなるからである。本発明の無酸
素銅の製造方法は、通常の無酸素銅の製造方法で製造で
きる。例えばP、Si、Mg、Ca、などの脱酸剤を用
いる脱酸法。水素気中で溶解し、ついで水素を炭酸ガス
あるいは窒素で逐出する還元ガス法。高周波誘導電気炉
で真空溶解する真空溶解法などがあるが、これらのいず
れの方法も適用できる。便宜的には、上記の製造方法に
より作製された無酸素銅にSを添加することで容易に製
造できる。なお本発明におけるS以外の成分としては、
前記したJISH3510の合金番号C1011に示さ
れている、Cu:99.98wt%以上、Pb:0.0
01wt%以下、Zn:0.0001wt%以下、B
i:0.001wt%以下、Cd:0.0001wt%
以下、Hg:0.0001wt%以下、0:0.001
wt%以下、P:0.0003%wt%以下、Se:
0.001wt%以下、Te:0.001wt%以下で
あることが望ましく、上記の成分範囲より大きく外れる
と無酸素銅としての特性が損なわれる。
〜0.0015wt%としたのは、0.0006wt%
未満では、結晶粒成長の抑制効果が少なく、したがって
加工性の向上が望めない。また0.0015wt%より
多いと、結晶粒が混粒となり、製造工程における熱間加
工の際、動的再結晶が抑制されて、中間温度脆性による
脆化割れの可能性が高くなるからである。本発明の無酸
素銅の製造方法は、通常の無酸素銅の製造方法で製造で
きる。例えばP、Si、Mg、Ca、などの脱酸剤を用
いる脱酸法。水素気中で溶解し、ついで水素を炭酸ガス
あるいは窒素で逐出する還元ガス法。高周波誘導電気炉
で真空溶解する真空溶解法などがあるが、これらのいず
れの方法も適用できる。便宜的には、上記の製造方法に
より作製された無酸素銅にSを添加することで容易に製
造できる。なお本発明におけるS以外の成分としては、
前記したJISH3510の合金番号C1011に示さ
れている、Cu:99.98wt%以上、Pb:0.0
01wt%以下、Zn:0.0001wt%以下、B
i:0.001wt%以下、Cd:0.0001wt%
以下、Hg:0.0001wt%以下、0:0.001
wt%以下、P:0.0003%wt%以下、Se:
0.001wt%以下、Te:0.001wt%以下で
あることが望ましく、上記の成分範囲より大きく外れる
と無酸素銅としての特性が損なわれる。
【0006】
【実施例】以下に本発明の一実施例について説明する。 実施例1 前記したJIS3510の合金番号C1011の無酸素
銅を用い常法により表1に示す成分の鋳魂を作製した。
これを熱間圧延,冷間圧延して、厚さ1mmの板を作製
した。この試料を800℃で30分間熱処理して、結晶
粒の大きさを測定した。この結果を表1に併記した。
銅を用い常法により表1に示す成分の鋳魂を作製した。
これを熱間圧延,冷間圧延して、厚さ1mmの板を作製
した。この試料を800℃で30分間熱処理して、結晶
粒の大きさを測定した。この結果を表1に併記した。
【0007】
【表1】
【0008】表1から明らかなように、本発明に係るN
o.1〜No.3は、他の成分は通常の無酸素銅と同程
度であるが、Sが0.0006〜0.0015wt%の
範囲にあるものは、いずれも結晶粒度が60〜70μm
と小さい。一方、比較例のNo.4はSが少ないため結
晶粒度が大きい。また比較例のNo.5はSが多いた
め、結晶粒度の細かいものと大きいものとの混粒となっ
た。
o.1〜No.3は、他の成分は通常の無酸素銅と同程
度であるが、Sが0.0006〜0.0015wt%の
範囲にあるものは、いずれも結晶粒度が60〜70μm
と小さい。一方、比較例のNo.4はSが少ないため結
晶粒度が大きい。また比較例のNo.5はSが多いた
め、結晶粒度の細かいものと大きいものとの混粒となっ
た。
【0009】実施例2 実施例1と同じ試料を用いて、曲げ角度180°の密着
曲げ試験を行った。曲げ部の外観観察結果では、比較例
No.4のSの少ないものに肌荒れが見られ、結晶粒粗
大化により加工面に大きな凹凸が生じたことを示した。
また比較例No.5のSの多いものは、局部的に大きな
凹凸が見られ、混粒の影響がでていると判断された。一
方、本発明に係る試料については、このような凹凸は観
察されず、曲げ面も平滑であった。このことは強加工に
対し、結晶粒の小さい方が優れた加工性を有することを
示すものである。
曲げ試験を行った。曲げ部の外観観察結果では、比較例
No.4のSの少ないものに肌荒れが見られ、結晶粒粗
大化により加工面に大きな凹凸が生じたことを示した。
また比較例No.5のSの多いものは、局部的に大きな
凹凸が見られ、混粒の影響がでていると判断された。一
方、本発明に係る試料については、このような凹凸は観
察されず、曲げ面も平滑であった。このことは強加工に
対し、結晶粒の小さい方が優れた加工性を有することを
示すものである。
【0010】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
再結晶温度以上に加熱処理されても、結晶粒度が粗大化
することなく、加工性が良好な無酸素銅が得られるもの
で、工業上顕著な効果を奏するものである。
再結晶温度以上に加熱処理されても、結晶粒度が粗大化
することなく、加工性が良好な無酸素銅が得られるもの
で、工業上顕著な効果を奏するものである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月19日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高木 潤一 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 Sを0.0006〜0.0015wt%
含み、残部が通常の不純物とCuとからなる結晶粒成長
抑制無酸素銅。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18982892A JPH062058A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 結晶粒成長抑制無酸素銅 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18982892A JPH062058A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 結晶粒成長抑制無酸素銅 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH062058A true JPH062058A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=16247893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18982892A Pending JPH062058A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 結晶粒成長抑制無酸素銅 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062058A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004087974A1 (en) * | 2003-04-03 | 2004-10-14 | Outokumpu Oyj | Machinable copper alloy |
WO2020122112A1 (ja) | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
WO2020162445A1 (ja) | 2019-02-04 | 2020-08-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅/セラミックス接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法、銅/セラミックス接合体、及び、絶縁回路基板 |
WO2020203071A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅材及び放熱部材 |
CN111886214A (zh) * | 2018-03-20 | 2020-11-03 | 阿鲁比斯斯托尔伯格股份有限公司 | 铜陶瓷衬底 |
WO2021060023A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
WO2021177460A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板、銅/セラミックス接合体、絶縁回路基板 |
JPWO2021177469A1 (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-10 | ||
WO2021177470A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
WO2021177461A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板、銅/セラミックス接合体、絶縁回路基板 |
-
1992
- 1992-06-23 JP JP18982892A patent/JPH062058A/ja active Pending
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004087974A1 (en) * | 2003-04-03 | 2004-10-14 | Outokumpu Oyj | Machinable copper alloy |
CN111886214A (zh) * | 2018-03-20 | 2020-11-03 | 阿鲁比斯斯托尔伯格股份有限公司 | 铜陶瓷衬底 |
WO2020122112A1 (ja) | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
KR20210102191A (ko) | 2018-12-13 | 2021-08-19 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순구리판 |
WO2020162445A1 (ja) | 2019-02-04 | 2020-08-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅/セラミックス接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法、銅/セラミックス接合体、及び、絶縁回路基板 |
CN113348046A (zh) * | 2019-02-04 | 2021-09-03 | 三菱综合材料株式会社 | 铜-陶瓷接合体的制造方法、绝缘电路基板的制造方法、铜-陶瓷接合体及绝缘电路基板 |
US11939270B2 (en) | 2019-02-04 | 2024-03-26 | Mitsubishi Materials Corporation | Production method for copper/ceramic joined body, production method for insulated circuit board, copper/ceramic joined body, and insulated circuit board |
CN113348046B (zh) * | 2019-02-04 | 2022-10-04 | 三菱综合材料株式会社 | 铜-陶瓷接合体的制造方法、绝缘电路基板的制造方法、铜-陶瓷接合体及绝缘电路基板 |
KR20210123305A (ko) | 2019-02-04 | 2021-10-13 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 구리/세라믹스 접합체의 제조 방법, 절연 회로 기판의 제조 방법, 구리/세라믹스 접합체, 및 절연 회로 기판 |
WO2020203071A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅材及び放熱部材 |
WO2021060023A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
KR20220068985A (ko) | 2019-09-27 | 2022-05-26 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순동판 |
WO2021177469A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
WO2021177461A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板、銅/セラミックス接合体、絶縁回路基板 |
WO2021177470A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板 |
JPWO2021177469A1 (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-10 | ||
CN115244197A (zh) * | 2020-03-06 | 2022-10-25 | 三菱综合材料株式会社 | 纯铜板 |
CN115279929A (zh) * | 2020-03-06 | 2022-11-01 | 三菱综合材料株式会社 | 纯铜板、铜-陶瓷接合体、绝缘电路基板 |
KR20220146483A (ko) | 2020-03-06 | 2022-11-01 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순구리판 |
KR20220146466A (ko) | 2020-03-06 | 2022-11-01 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순구리판, 구리/세라믹스 접합체, 절연 회로 기판 |
KR20220149682A (ko) | 2020-03-06 | 2022-11-08 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순구리판 |
KR20220149679A (ko) | 2020-03-06 | 2022-11-08 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 순동판, 구리/세라믹스 접합체, 절연 회로 기판 |
CN115244197B (zh) * | 2020-03-06 | 2023-10-17 | 三菱综合材料株式会社 | 纯铜板 |
WO2021177460A1 (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 純銅板、銅/セラミックス接合体、絶縁回路基板 |
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