JPH0620106B2 - リ−ドフレ−ムの製造方法 - Google Patents

リ−ドフレ−ムの製造方法

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JPH0620106B2
JPH0620106B2 JP60163758A JP16375885A JPH0620106B2 JP H0620106 B2 JPH0620106 B2 JP H0620106B2 JP 60163758 A JP60163758 A JP 60163758A JP 16375885 A JP16375885 A JP 16375885A JP H0620106 B2 JPH0620106 B2 JP H0620106B2
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祥治 小泉
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Shinko Electric Industries Co Ltd
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    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は特に多ピン化を図ることができるリードフレー
ムの製造方法に関する。
(従来の技術) 一般に、第5図に示すような半導体デバイス用のリード
フレーム50は42アロイ材等の打ち抜き形成する。この
平板の板厚は通常0.25mm程度である。
ところで、平板をパンチで打ち抜く場合、その打ち抜き
幅は板厚程度が限界である。したがって、上述したリー
ドフレームの場合においても打ち抜き幅は0.2 mm〜0.25
mmが限界であり、また、ワイヤボンディングの関係から
リード幅も0.25mm程度は必要である。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、近時半導体デバイスも集積化が進み多ピン化
及び小チップ化傾向にある。したがって、上述した従来
の単なる打ち抜き方法を用いた場合においては多ピン化
等に対処すべく、例えば第5図のリード部の幅を狭くし
ても打ち抜き時に当該リード部51にねじれ等が生じ、
ワイヤボンディングの接続不良を招いたり、また、リー
ド部間隙Sを狭くしてもパンチ折れが発生する弊害を招
く。
一方、ステージ部52近傍におけるリード部51のピッ
チは特に狭くなるため、リード部51の先端とステージ
部52の間隙を大きくすることも行われているが、ワイ
ヤボンデイングのワイヤが長くなりショート不良等の致
命的な不良を招いてしまう問題がある。
本発明はこのような従来の問題点を一掃したもので、リ
ード部の高密度化を図れるリードフレームの製造方法を
提供するにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明は例えば半導体デバイスに用いて好適なリードフ
レームの製造方法に係り、その特徴とするところは第1
図(a)に示すようにリードフレーム1Aのリード部2
Aの幅D1を板厚T(第3図)よりも小さく設定し、且
つ、リード部2Aとステージ部3を連続した形状でリー
ドフレーム1Aを打ち抜く第一プレス工程と、この打ち
抜かれたリードフレーム1Aのリード部2Aの少なくと
もボンディング部を含む部分を打ちねじれ等を矯正する
フラットニング工程と、このリードフレーム1Aを焼鈍
しするアニーリング工程と、第2図に示すように当該焼
鈍したリードフレームのステージ部3周縁からリード部
2Aを一定長さLだけ打ち抜く第二プレス工程と、これ
より得たリードフレーム1Bのリード部2Aの少なくと
もボンディング部を含む部分を、第2図及び第3図のよ
うに圧潰し、ワイヤボンディングに必要な幅D2まで広
げるコイニング工程からなる点にある。
また、本発明の第二の特徴とすることは、上記リードフ
レームの製造方法において、フラットニングとコイニン
グとを同一工程を行うようにした点にある。
(作用) 次に、本発明の作用について説明する。
先ず、第一プレス工程において、リードフレーム1Aを
打ち抜いた場合には、リード部2Aにねじれや変形を生
ずる。
特に、本発明のように、リード部2Aの幅D1を板厚T
よりも小さく設定している場合、打ち抜き後に、前記ね
じれ等が大きく発現し易い。
この点、本発明においては、リード部2Aとステージ部
3とを連続形状に形成するため、当該ねじれ等の発現は
最小限に押さえられる。また、発現したねじれ等は、フ
ラットニング工程で矯正され、ねじれ等を生じない状態
の正規の形状に戻される。一方、この状態では部分的に
応力集中があるためアニーリング工程で焼鈍し、応力を
リリーフする。そして、この後リード部2Aとステージ
部3の間を一定長さ打ち抜くとともにリード部2Aをコ
イニングしてワイヤボンデイングに必要な幅まで広げ
る。
以上は第一の特徴をなす製造方法に基づく作用である。
なお、第二の特徴をなす製造方法も基本的には当該第一
の特徴をなす作用と同じであるが工程順序を異ならせて
いる。
(実施例) 以下には本発明に係る好適な実施例を図面に基づき詳細
に説明する。
第1図、第2図及び第4図はリードフレームの部分的平
面図、第3図は第2図中I−I線断面図である。
先ず、基本的な製造方法(第1発明)について順を追っ
て説明する。
<第一プレス工程> 先ず、42アロイ材、銅合金材等の材質にて形成した厚さ
0.25mmの平板から第1 図(a)に示すリードフレーム1
Aをパンチにてパターン抜きする。この場合、リード部
2Aの幅D1 は0.1 mm、リード部2A,2A間の間隙D
3 は0.2 mmに設定する。また、リード部2Aとステージ
部3は相連続するように打ち抜く。なお、この場合第1
図(b)のようにリード部2Aがステージ部3の一部と
連続するように打ち抜いてもよい。
<フラットニング工程> 上記第一プレス工程で得たリードフレーム1Aはリード
部2Aの幅が0.1 mmのため、打ち抜き時のねじれや、変
形をリード部2Aに生ずる。
したがって、本工程において比較的浅いコイニング(圧
潰)であるフラットニングを施しねじれ等が生じない場
合の正規の形状に矯正する。
<アニーリング工程> フラットニングが施されたリードフレーム1Aは熱処
理、つまり焼鈍しを施す。これにより部分的に生じてい
る応力集中をリリーフし、位置ずれを防止する。
<第二プレス工程> 第2図にようにアニーリングしたリードフレーム1Aの
ステージ部3周縁からリード部2Aを一定長さLだけ打
ち抜く。この場合打ち抜くのはリード部2Aであり、ス
テージ部3はステージサポートバー4によって支持され
ている。なお、当該長さLはリード部2Aの幅及びピッ
チにより制約を受けないため最適の長さに設定できる。
<コイニング工程> 第2図及び第3図に示すようにステージ部を成形したリ
ードフレーム1Bはリード部に十分なコイニングを施
し、リード部2Aの幅D1 をワイヤボンデイングに必要
な幅D2まで圧潰して広げる。このリード部の幅D2 は
上記幅D1 に対し、略2倍程度となる。なお、このよう
なコイニングを施すエリアはリード部2Aの少なくとも
ワイヤボンデイングエリアを含むものとし、第一プレス
工程の打ち抜き時にねじれ等が生じる範囲、換言すれば
0.1 mm幅で打ち抜く範囲となる。
また、このようにリード部を板厚の約2分の1程度圧潰
するコイニングを施すことによってリード部間の間隙は
0.1 mm程度となるが何ら問題はない。
この結果従来のリード部の間隙が0.45〜0.5 mm程度であ
るのに対して0.3 〜0.35mmとリード部の間隙を30%以上
小さくすることができる。
次に、上述した製造方法を一部変更した製造方法(第二
発明)について説明する。
先ず、第一プレス工程は前記第一発明と同様に行う。
これより得た、リードフレーム1Aはそのリード部2A
をコイニングする。このコイニング工程は第一発明にお
けるコイニング工程と同様に行うがリード部2Aとステ
ージ部3は連続状態にあるため圧潰したリード部2Aの
内部がステージ部3にまで移動し、ステージ部3が湾曲
する等の無用な変形を生じてしまう。そこで第4図に示
す一点鎖線Hの位置におけるリード部2A上にV形のく
さびを打つことによりV形のノッチカットを形成し、圧
潰時における逃部を設けることによりステージ部3への
悪影響を防止した。なお、このようなくさび打つ位置は
少なくともステージ部3周縁の外方近傍におけるリード
部2A上であって、前記一定長さLだけ打ち抜きする部
分が望ましい。また、コイニングをリード部2Aの部分
的エリアに施すため当該エリアを区画する、たとえば第
4図中一点鎖線Kの位置にもくさびを打つことが望まし
い。
このようにしてコイニングを施したリードフレームは第
一発明におけるアニーリング工程、第二プレス工程を得
て最終的なリードフレームを得る。
以上、実施例を説明したが、本発明はこのような実施例
に限定されるものではない。例えば例示した寸法は任意
であり、また、各リード部やステージ部の形状等は任意
である。その他細部の構成、手法等において本発明の精
神を逸脱しない範囲で任意に変更実施できる。
(発明の効果) このように、本発明に係るリードフレームの製造方法
は、リード部の幅を板厚よりも小さい寸法で打ち抜き、
コイニング工程でワイヤボンデイングエリアを含むリー
ド部の幅を圧潰して広げるようにしたため、従来の単に
パンチによりリードフレームを打ち抜く手法に比べ、各
リード部の間隔を30%以上小さくすることができるから
同一の大きさでは大幅な多ピン化を図ることができる。
従って最近要請されている64ピン化、84ピン化等の多ピ
ン化、高密度化にも十分応えることができる。
また、これよりリード部先端をステージ部に対し大幅に
前進させ、間隙を十分に小さくすることができるから、
ワイヤボンデイングにおける信頼性も一段と向上させる
ことができる。このことは同一ピン数において小チップ
化に対応した最適なリードフレームの提供を可能にす
る。
さらにフラットニング(コイニング)工程後にアニーリ
ングを施すためリード部のねじれが防止できるとともに
リード部の位置精度を高めることができる。
また、パンチ折れ等の弊害も防止できるから、プレス作
業能率が向上するとともに金型の長寿命化も図ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第4図は本発明に係るリードフレー
ムの製造方法を説明するためのリードフレームの部分的
平面図、第3図は第2図中I−I線断面図、第5図はリ
ードフレームの平面図。 尚図面中1A,1B……リードフレーム、2A,2B…
…リード部、3……ステージ部、D1 D2 ……リード部
の幅、T……板厚、L……一定長さ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次の各工程からなるリードフレームの製造
    方法。 (a)リード部の幅を板厚よりも小さく設定し、且つリ
    ード部とステージ部を連続した形状でリードフレームを
    打ち抜く第一プレス工程、 (b)前記(a)で得たリードフレームのリード部の少
    なくともボンディング部を含む部分を打ちねじれ等を矯
    正するフラットニング工程、 (c)前記(b)で得たリードフレームを焼鈍するアニ
    ーリング工程、 (d)前記(c)で得たリードフレームのステージ部周
    縁からリード部を一定長さ打ち抜く第二プレス工程、 (e)前記(d)で得たリードフレームのリード部の少
    なくともボンディング部を含む部分を圧潰し、ワイヤボ
    ンディングに必要な幅まで広げるコイニング工程。
  2. 【請求項2】次の各工程からなるリードフレームの製造
    方法。 (f)リード部の幅を板厚よりも小さく設定し、且つリ
    ード部とステージ部を連続した形状でリードフレームを
    打ち抜く第一プレス工程、 (g)前記(f)で得たリードフレームのリード部の少
    なくともボンディング部を含む部分を打ちねじれ等を矯
    正するフラットニングと、前記ボンディング部を含む部
    分を圧潰し、ワイヤボンディングに必要な幅まで広げる
    コイニングとを施すコイニング工程、 (h)前記(g)で得たリードフレームを焼鈍するアニ
    ーリング工程、 (i)前記(h)で得たリードフレームのステージ部周
    縁からリード部を一定長さ打ち抜く第二プレス工程。
  3. 【請求項3】前記コイニング工程において、少なくとも
    ステージ部周縁の外方近傍におけるリード部にノッチカ
    ットを形成した後、圧潰することを特徴とする特許請求
    項第2項記載のリードフレームの製造方法。
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