JPH06179744A - ポリカーボネートの製造法 - Google Patents

ポリカーボネートの製造法

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JPH06179744A
JPH06179744A JP5167658A JP16765893A JPH06179744A JP H06179744 A JPH06179744 A JP H06179744A JP 5167658 A JP5167658 A JP 5167658A JP 16765893 A JP16765893 A JP 16765893A JP H06179744 A JPH06179744 A JP H06179744A
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龍也 菅野
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶融エステル交換法ポリカーボネートの合成
における着色のない高分子量体を得るための原料不純物
と触媒探索。 【構成】 上記の目的を達成するために見出された触媒
系は、塩基性窒素化合物、あるいは塩基性窒素化合物と
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の組み合わせであ
り、また原料不純物の少ないことにより生成するポリカ
ーボネートの着色が少ないポリカーボネートである。 【効果】 上記の触媒と特定の不純物の少ない原料を用
いることにより、色相のよい、機械的物性の良好な高分
子量ポリカーボネートが得られた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、 (a)塩基性窒素化合物
又は (b)塩基性窒素化合物及びアルカリ金属化合物又は
アルカリ土類金属化合物から選択された触媒の存在下
で、不純物の少ない炭酸ジエステルと2価フェノールと
を溶融重縮合させて得られる着色の少ない高分子量ポリ
カーボネートの製法に関するものである。
【0002】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】着色の少
ない高分子量ポリカーボネートは、幅広い用途、特に射
出成形用又は窓ガラスの代わりのガラスシートとしての
用途を有する汎用エンジニアリングサーモプラスチック
スであるが、従来知られている製造法には種々の問題点
があった。
【0003】界面重縮合法は、一般的にポリカーボネー
トの製造に効果的であるが、有毒なホスゲンを使用する
ことや塩素イオンが生成するポリカーボネートに残存す
ることなどの欠点を有する。
【0004】これらの欠点を除くために、有毒なホスゲ
ンの代わりにホスゲンのダイマーである液体のトリクロ
ロメチルクロロホルメートを用いて特殊な2価フェノー
ルと界面重縮合反応でポリカーボネートを製造すること
が特開昭63−182336号公報に開示されている。
【0005】しかしながら、特殊な2価フェノールとし
て、9,9 −ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン
類についての記載があるのみである。また、有毒なホス
ゲンの代わりにトリホスゲンを用いて2,2 −ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンからポリカーボネートを
得ることが Angew.Chem.(アンゲバンテ・ヘミー)99.9
22(1987)に記載されているが、ホスゲンが発生する反応
機構も提唱されている。
【0006】また、特開平4−100824号公報には、キサ
ントン含有量10ppm 以下であるジアリールカーボネート
を用いることが提案されているが、比較的淡色なポリカ
ーボネートは得られるが、ホスゲン法のポリカーボネー
トに比べて、やや黄味を帯びているという問題点があっ
た。
【0007】さらに、特開昭60−51719 号公報には、テ
トラアルキルアンモニウムヒドロキシドとホウ素化合物
との組み合わせからなる触媒を用いてポリカーボネート
を製造する方法が提案されており、この触媒を用いれば
比較的淡色なポリカーボネートが得られるが、この触媒
は重合活性が低いという問題点があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記のよ
うな問題点を解決するため鋭意検討したところ、カーボ
ネート結合を生成する化合物として特定の不純物の含有
量の少ない炭酸ジエステルと2価フェノールを (a)塩基
性窒素化合物又は (b)塩基性窒素化合物及びアルカリ金
属化合物又はアルカリ土類金属化合物から選択された化
合物の存在下、溶融重縮合させることにより、毒性のホ
スゲンを用いず着色の少ない高分子量ポリカーボネート
が得られる事実を見出すに至った。
【0009】即ち、本発明は、2価フェノール化合物と
炭酸ジエステルとを溶融重縮合して、ポリカーボネート
を製造するに際して、上記モノマーの内、炭酸ジエステ
ルとして (A)サリチル酸フェニル、o−フェノキシ安息
香酸及びo−フェノキシ安息香酸フェニル、 (B)錫イオ
ン又は (C)メチルフェニルカーボネートを実質上含有し
ない炭酸ジエステルを用いることを特徴とするポリカー
ボネート及びポリカーボネート共重合体の製造法に関す
る。
【0010】更に、本発明は、2価フェノール化合物と
炭酸ジエステルとを溶融重縮合して、ポリカーボネート
を製造するに際して、上記モノマーの内、炭酸ジエステ
ル中に含まれる合計の水分 0.3wt%以下、加水分解可能
な塩素含有量3ppm 以下、ナトリウムイオン含有量1pp
m 以下、鉄イオン含有量1ppm 以下、銅イオン含有量1
ppm 以下、リンイオン含有量 20ppm以下、サリチル酸フ
ェニル、o−フェノキシ安息香酸及びo−フェノキシ安
息香酸フェニルの含有量の合計が 50ppm以下、錫イオン
含有量5ppm 以下、メチルフェニルカーボネート含有量
50ppm 以下の範囲にある炭酸ジエステルと2価フェノー
ル化合物を用いることを特徴とするポリカーボネート及
びポリカーボネート共重合体の製造法に関する。
【0011】特に用いる触媒については限定しないが、
好ましくは (a)塩基性窒素化合物から選択された触媒又
は (b)塩基性窒素化合物から選択された触媒及びアルカ
リ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物から選択され
た触媒を用いることが推奨される。
【0012】本発明に使用しうる塩基性窒素化合物の代
表例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
(Me4NOH) 、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド(E
t4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド(Bu4NO
H)、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド(C6H
5-CH2(Me)3NOH)等のアルキル、アリール、アルキルアリ
ール基などを有するアンモニウムヒドロオキシド類、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルベンジル
アミン、トリフェニルアミン等の三級アミン類、R2NH
(式中R はメチル、エチル等のアルキル、フェニル、ト
ルイル等のアリール基などである)で示される二級アミ
ン類、RNH2(式中R は上記と同じである)で示される一
級アミン類、あるいはアンモニア、テトラメチルアンモ
ニウムボロハイドライド(Me4NBH4 )、テトラブチルア
ンモニウムボロハイドライド(Bu4NBH4)、テトラブチル
アンモニウムテトラフェニルボレート(Bu4NBPh4)、テ
トラメチルアンモニウムテトラフェニルボレート(Me4N
BPh4)などの塩基性塩などが用いられる。
【0013】さらに、4−(4−メチル−1−ピペリジ
ニル)ピリジン、N,N −ジメチル−4−アミノピリジ
ン、4−ジエチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリ
ジン、4−アミノピリジン、2−アミノピリジン、2−
ヒドロキシピリジン、2−メトキシピリジン、4−メト
キシピリジン、4−ヒドロキシピリジン、2−ジメチル
アミノイミダゾール、2−メトキシイミダゾール、2−
メルカプトイミダゾール、アミノキノリン、ベンズイミ
ダゾール、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、4
−メチルイミダゾール、ジアザビシクロオクタン(DABC
O)、1,8 −ジアザ−ビシクロ〔5,4,0〕−7−ウン
デセン(DBU)、4−(4−メチルピロリジニル)ピリジ
ン等が挙げられる。
【0014】また、アルカリ金属化合物の代表例として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸リチウム、
ホウ酸カリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素カリウム、フェニル化ホウ素
ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、
安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水
素二カリウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノール
Aの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二リチウム塩、フ
ェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等が
挙げられるが、好ましくはホウ酸リチウム、ホウ酸カリ
ウム、酢酸カリウムが用いられる。
【0015】また、アルカリ土類金属化合物の代表例と
しては、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸バリウム、
酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸
カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグ
ネシウム、ステアリン酸ストロンチウム等が挙げられ
る。
【0016】また、炭酸ジエステルの代表例としては、
ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビ
ス(クロロフェニル)カーボネート、m−クレジルカー
ボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(ジフェニ
ル)カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカ
ーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシル
カーボネート等が用いられる。これらのうち特にジフェ
ニルカーボネートが好ましい。
【0017】また、上記のような炭酸ジエステルは、50
モル%以下の量のジカルボン酸エステルを含有してもよ
い。すなわち、テレフタル酸ジフェニル又はイソフタル
酸ジフェニルを含有してもよい。この様な場合には、ポ
リエステルカーボネートが得られる。
【0018】また、2価フェノールの代表例としては、
以下の一般式(I)〜(IV)の何れかで表される化合物
が挙げられる。
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】(式中、R1, R2, R3, R4, R5は水素又は炭
素数1〜8の直鎖または枝分かれを含むアルキル基、ま
たはフェニル基であり、X はハロゲン原子でn =0〜
4,m=1〜4) 式(I)に分類されるビスフェノールとして、2,2 −ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2 −ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2 −ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、2,
2 −ビス−(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4,4'
−ジヒドロキシ−2,2,2 −トリフェニルエタン、2,2 −
ビス−(3,5 −ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン等が挙げられる。
【0024】式(II)に分類されるビスフェノールとし
て、2,2 −ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、2,2 −ビス−(4−ヒドロキシ−3−イ
ソプロピルフェニル)プロパン、2,2 −ビス−(4−ヒ
ドロキシ−3−sec.ブチルフェニル)プロパン、2,2 −
ビス−(3,5 −ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン、2,2 −ビス−(4−ヒドロキシ−3−ターシャ
リーブチルフェニル)プロパン等が挙げられる。
【0025】式(III)に分類されるビスフェノールとし
て、1,1'−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−p−ジ
イソプロピルベンゼン、1,1'−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられ
る。
【0026】式(IV)に分類されるビスフェノールとし
て、1,1 −ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサンが挙げられる。さらに、式(I)〜(IV)の中か
ら選択された2種又は3種以上の2価フェノールを組み
合わせた共重合ポリカーボネートを製造することも可能
である。
【0027】本発明の方法は、 (a)塩基性窒素化合物か
ら選択された触媒又は (b)塩基性窒素化合物から選択さ
れた触媒及びアルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属
化合物から選択された触媒を用いてビスフェノールAの
ような2価フェノールを炭酸ジエステルと溶融重縮合反
応させることによって実施される。
【0028】この反応が進む温度は、 100℃以上〜約30
0 ℃までの範囲である。好ましくは130〜280 ℃の範囲
である。反応温度が 130℃未満であると反応速度が遅く
なり、 300℃を超えると副反応が起こりやすくなる。
【0029】触媒として用いる塩基性窒素化合物は、反
応系中に存在する2価フェノールに対して10-6〜10-1
ルを必要とするが、好ましくは10-4〜10-2モルである。
10-6モル未満であると触媒作用が少なくポリカーボネー
トの重合速度が遅くなり、10-1モル以上であると触媒と
して生成するポリカーボネート中に残存する率が高くな
るので、ポリカーボネートの物性低下を招く。
【0030】さらに、併用触媒として用いるアルカリ金
属化合物又はアルカリ土類金属化合物は反応系中に存在
する2価フェノールに対して10-7〜10-2モルを必要とす
るが、好ましくは10-5〜10-3モルである。10-7モル未満
であると触媒作用が少なくポリカーボネートの重合度が
所望の重合度に達せず、10-2モル以上であると触媒とし
て生成するポリカーボネートに残存する率が高くなるの
でポリカーボネートの物性低下を招く。
【0031】炭酸ジエステルの必要量は、反応系中に存
在する2価フェノールと当モル必要である。一般に高分
子量ポリカーボネートが生成するためにはカーボネート
化合物1モルと2価フェノール1モルが反応しなければ
ならない。ビスフェニルカーボネートを用いた場合、フ
ェノール2モルが前記反応によって生じる。これら2モ
ルのフェノールは反応系外に留去される。しかしなが
ら、ポリカーボネートの物性、特に、末端の水酸基をで
きるだけ少なくして色相に及ぼす悪影響を除くため、用
いられる炭酸ジエステルは、2価フェノール1モルに対
して1.01〜1.5 倍モル、好ましくは1.015 〜1.20倍モル
の量で用いられる。
【0032】原料の炭酸ジエステルに含まれる加水分解
可能な塩素含有量3ppm 以下、ナトリウムイオン含有量
1ppm 以下、鉄イオン含有量1ppm 以下、銅イオン含有
量1ppm 以下、リンイオン含有量 20ppm以下、サリチル
酸フェニル、o−フェノキシ安息香酸及びo−フェノキ
シ安息香酸フェニルの含有量の合計が 50ppm以下、錫イ
オン含有量5ppm 以下及びメチルフェニルカーボネート
含有量50ppm 以下であることが必要である。これらの範
囲を越えると生成するポリマーの着色が大きくなり、物
性特に耐熱安定性が劣るようになる。
【0033】尚、ここで加水分解可能な塩素とは、塩酸
などの酸あるいは塩化ナトリウム、塩化カリウムなどの
塩として存在する塩素あるいはフェニルクロロホーメイ
トのような有機性の加水分解可能な塩素を意味する。
【0034】炭酸ジエステル中の不純物を除去する方法
としては、(1) 熱水又は弱塩基性水溶液で洗浄する、
(2) 尿素を加えて加熱溶融処理する、または(3) アルカ
リ金属又はアルカリ土類金属の塩、例えばNa2CO3、NaHC
O3、KH2PO4、K2HPO4などを加えて減圧蒸留で処理するな
どの精製法によって除去することが可能である。
【0035】さらに、炭酸ジエステル中に含まれる水分
が 0.3wt%を越えると、反応中に炭酸ジエステルが加水
分解し、モルバランスが崩れ、ポリマーの重合度が上り
にくい。
【0036】また、末端水酸基が30モル%を越えると、
生成するポリマーの着色が大きくなり、耐熱安定性が劣
るようになる。
【0037】
【実施例】以下に本発明を実施例について説明するが、
本発明は、これらの実施例によって限定されるものでは
ない。
【0038】実施例1 2,2 −ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル)、2−メチルイミダゾール0.164g(2×10
-2モル/ BPA1モル)及び酢酸ナトリウム0.00082g(1×
10-4モル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示される
ジフェニルカーボネート21.96g (0.1025モル) を加え窒
素下、180 ℃で1時間攪拌後、徐々に減圧しながら昇温
させ、最終的に 0.1Torr、270 ℃、1時間重縮合反応さ
せ、生成するフェノールを留去させて、無色透明なポリ
カーボネートを得た。粘度平均分子量(Mv)を測定する
とMv=27,600であった。また、ガラス転移温度は150 ℃
であった。更に、末端水酸基濃度は28モル%であった。
【0039】実施例2 実施例1と全く同様の条件下で2−メチルイミダゾール
の代わりに4−ジメチルアミノピリジン0.00122g(1×10
-4モル/ BPA1モル)を加え、さらに酢酸ナトリウムの
代わりに炭酸カリウム0.00098g(1×10-4モル/ BPA1モ
ル)を加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い
無色透明のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を
測定するとMv=27,000であった。また、ガラス転移温度
は 150℃であった。更に、末端水酸基濃度は25モル%で
あった。原料(ジフェニルカーボネート)に含まれる不
純物の濃度を表1に示す。
【0040】実施例3 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11.4g
(50モル%) 、2,2−(4−ヒドロキシ−3−ターシャ
リブチルフェニル)プロパン17.0g(50モル%) 、4−ジ
メチルアミノピリジン0.00122g(1×10-4モル/ビスフェ
ノール1モル)及び酢酸リチウム0.000066g(1×10-5
ル/ビスフェノール1モル)と不純物濃度が表1に示さ
れるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を窒
素下、2時間攪拌後、実施例1と同様の方法で重縮合反
応を行い無色透明のポリカーボネートを得た。このポリ
カーボネートの粘度平均分子量Mv=24,500、ガラス転移
温度は 128℃であった。また、末端水酸基濃度は23モル
%であった。
【0041】実施例4 実施例1と全く同じ条件で2−メチルイミダゾールの代
わりにテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.00091g
(1×10-4モル/ BPA1モル)を加え、さらに酢酸ナトリ
ウムの代わりに酢酸カリウム0.00098g(1×10-4モル/ B
PA1モル)を加え、窒素下、2 時間攪拌後、実施例1と
同様の方法で重縮合反応を行い無色透明のポリカーボネ
ートを得た。粘度平均分子量はMv=27,800であり、ガラ
ス転移温度は 151℃であった。また、末端水酸基濃度は
21モル%であった。原料(ジフェニルカーボネート)に
含まれる不純物の濃度を表1に示す。
【0042】実施例5 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル)、4−ジメチルアミノピリジン0.0024g
(2×10-4モル/BPA 1モル)と不純物濃度が表1に示さ
れるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を加
え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い無色透明
のポリカーボネートを得た。このポリカーボネートの粘
度平均分子量Mv=29,000、ガラス転移温度は 150℃であ
った。また、末端水酸基濃度は26モル%であった。
【0043】実施例6 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル)、4−ジメチルアミノピリジン0.00122g
(1×10-4モル/BPA 1モル)、ホウ酸リチウム8.58×10
-8g(1×10-6モル/BPA 1モル)と不純物濃度が表1に
示されるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル)
を加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い無色
透明のポリカーボネートを得た。このポリカーボネート
の粘度平均分子量Mv=31,000、ガラス転移温度は 155℃
であった。また、末端水酸基濃度は24モル%であった。
【0044】比較例1 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル)、N,N−ジメチルアミノピリジン0.0024g
(2×10-4モル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示
されるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を
加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い、淡赤
色のポリカーボネートを得た。このポリカーボネートの
粘度平均分子量はMv=26,500であり、ガラス転移温度は
148℃であった。また、末端水酸基濃度は40モル%であ
った。
【0045】比較例2 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル) 、N,N−ジメチルアミノピリジン0.0024g
(2×10-4モル/ BPA1モル)及び酢酸カリウム0.00098
g(1×10-4モル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示
されるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を
加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い、淡赤
色のポリカーボネートを得た。このポリカーボネートの
粘度平均分子量はMv=19,500であり、ガラス転移温度は
130℃であった。また、末端水酸基濃度は35モル%であ
った。
【0046】比較例3 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル) 、N,N-ジメチルアミノピリジン0.0024g(2×10-4
ル/ BPA1モル)及び酢酸カリウム0.00098g(1×10-4
ル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示されるジフェ
ニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を加え、実施例
1と同様の方法で重縮合反応を行い、黄色のポリカーボ
ネートを得た。このポリカーボネートの粘度平均分子量
はMv=24,500であり、ガラス転移温度は 145℃であっ
た。また、末端水酸基濃度は28モル%であった。
【0047】比較例4 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル) 、N,N−ジメチルアミノピリジン0.0024g
(2×10-4モル/ BPA1モル)及び酢酸カリウム0.00098
g(1×10-4モル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示
されるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を
加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い、淡赤
色のポリカーボネートを得た。このポリカーボネートの
粘度平均分子量はMv=26,000であり、ガラス転移温度は
145℃であった。また、末端水酸基濃度は25モル%であ
った。
【0048】比較例5 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA)2
2.8g(0.1モル)、N,N−ジメチルアミノピリジン0.0024g
(2×10-4モル/ BPA1モル)と不純物濃度が表1に示
されるジフェニルカーボネート21.96g(0.1025モル) を
加え、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行い、無色
透明のポリカーボネートを得た。このポリカーボネート
の粘度平均分子量はMv=15,800であり、ガラス転移温度
は 130℃であった。また、末端水酸基濃度は10モル%で
あった。
【0049】尚、粘度平均分子量の測定方法は、20℃に
おける塩化メチレン溶液の固有粘度〔η〕をウベローデ
粘度計を用いて測定し、次式を用いて粘度平均分子量
(Mv)を計算した。 〔η〕=1.11×10-4(Mv)0.82 末端水酸基濃度の測定方法は13C-NMR を用いて、測定モ
ード・ゲーテッド・デカップリングで測定し、114.80pp
m と129.50ppm の比から算出した。
【0050】不純物濃度は下記のように測定した。 〔サリチル酸フェニル、o−フェノキシ安息香酸、o−
フェノキシ安息香酸フェニル及びメチルフェニルカーボ
ネートの測定法〕ガスクロマトグラフ装置(島津製作所
GC-14A)を用いて測定した。
【0051】〔加水分解可能な塩素の測定法〕試料5g
をトルエンに溶解し、溶離液を加え、更に、超イオン水
15mlを加え、振とうし、上層のトルエン層を分離した。
更に、水層に混入しているトルエンを除くため、C-18 S
EP-PAKで処理し、イオンクロマトグラフィー(YOKOGAWA
SAX-1)で測定した。
【0052】〔ナトリウムイオン、鉄イオンの測定法〕
原子吸光法(セイコー電子 SAS-727) を用いて測定し
た。
【0053】〔銅イオン、リンイオンの測定法〕高周波
プラズマ発光分析装置 (ICP,島津製作所 ICPS-1000III)
を用いて測定した。
【0054】〔錫イオンの測定法〕原子吸光法 (島津製
作所 AA-670G型) 、グラファイトファーネストアナライ
ザー (島津製作所 GFA-4A 型) を用いて測定した。
【0055】〔水分の測定法〕微量水分測定装置 (三菱
化成 CA-05型) を用いて測定した。
【0056】
【表1】
【0057】表2に実施例、比較例で得られたポリカー
ボネートの着色度を示す。尚、色相(YI)は、50×50×2
mm(H-W-D)のプレスシートを用いて、色差計(NIPPON DE
NSHOKU製300A) で測定した。
【0058】
【表2】
【0059】
【発明の効果】特定の不純物の少ない原料と、 (a)塩基
性窒素化合物あるいは (b)塩基性窒素化合物及びアルカ
リ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物から選択さ
れた触媒を用いることにより毒性のホスゲンを用いずに
実質的に塩素イオンを含まない高分子量で無色透明なポ
リカーボネートを得ることができた。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステルとしてサリチ
    ル酸フェニル、o−フェノキシ安息香酸及びo−フェノ
    キシ安息香酸フェニルを実質上含有しない炭酸ジエステ
    ルを用いることを特徴とするポリカーボネートの製造
    法。
  2. 【請求項2】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステルとして錫イオ
    ンを実質上含有しない炭酸ジエステルを用いることを特
    徴とするポリカーボネートの製造法。
  3. 【請求項3】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステルとしてメチル
    フェニルカーボネートを実質上含有しない炭酸ジエステ
    ルを用いることを特徴とするポリカーボネートの製造
    法。
  4. 【請求項4】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステル中に含まれる
    合計の水分 0.3wt%以下、加水分解可能な塩素含有量3
    ppm 以下、ナトリウムイオン含有量1ppm 以下、鉄イオ
    ン含有量1ppm 以下、銅イオン含有量1ppm 以下、リン
    イオン含有量 20ppm以下、及び、サリチル酸フェニル、
    o−フェノキシ安息香酸及びo−フェノキシ安息香酸フ
    ェニルの含有量の合計が 50ppm以下の範囲にある炭酸ジ
    エステルと2価フェノール化合物を用いることを特徴と
    するポリカーボネートの製造法。
  5. 【請求項5】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステル中に含まれる
    合計の水分 0.3wt%以下、加水分解可能な塩素含有量3
    ppm 以下、ナトリウムイオン含有量1ppm 以下、鉄イオ
    ン含有量1ppm 以下、銅イオン含有量1ppm 以下、リン
    イオン含有量 20ppm以下及び錫イオン含有量5ppm 以下
    の範囲にある炭酸ジエステルと2価フェノール化合物を
    用いることを特徴とするポリカーボネートの製造法。
  6. 【請求項6】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステル中に含まれる
    合計の水分 0.3wt%以下、加水分解可能な塩素含有量3
    ppm 以下、ナトリウムイオン含有量1ppm 以下、鉄イオ
    ン含有量1ppm 以下、銅イオン含有量1ppm 以下、リン
    イオン含有量 20ppm以下及びメチルフェニルカーボネー
    ト含有量50ppm 以下の範囲にある炭酸ジエステルと2価
    フェノール化合物を用いることを特徴とするポリカーボ
    ネートの製造法。
  7. 【請求項7】 2価フェノール化合物と炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合して、ポリカーボネートを製造するに際
    して、上記モノマーの内、炭酸ジエステル中に含まれる
    合計の水分 0.3wt%以下、加水分解可能な塩素含有量3
    ppm 以下、ナトリウムイオン含有量1ppm 以下、鉄イオ
    ン含有量1ppm 以下、銅イオン含有量1ppm 以下、リン
    イオン含有量 20ppm以下、サリチル酸フェニル、o−フ
    ェノキシ安息香酸及びo−フェノキシ安息香酸フェニル
    の含有量の合計が 50ppm以下、錫イオン含有量5ppm 以
    下及びメチルフェニルカーボネート含有量50ppm 以下の
    範囲にある炭酸ジエステルと2価フェノール化合物を用
    いることを特徴とするポリカーボネートの製造法。
  8. 【請求項8】 (a)塩基性窒素化合物から選択された触
    媒又は (b)塩基性窒素化合物から選択された触媒及びア
    ルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物から選択
    された触媒の存在下で2価フェノールと炭酸ジエステル
    とを溶融重縮合させることを特徴とする請求項1〜7の
    何れか1項に記載のポリカーボネートの製造法。
  9. 【請求項9】 2価フェノール1モルに対して、塩基性
    窒素化合物を10-6〜10-1モル、アルカリ金属化合物又は
    アルカリ土類金属化合物を10-7〜10-2モルの量を用いる
    ことを特徴とする請求項8記載のポリカーボネートの製
    造法。
  10. 【請求項10】 2価フェノール1モルに対して、炭酸
    ジエステルを1.01〜1.5モル量を用いて、生成するポリ
    カーボネートの末端を炭酸エステルで封止することを特
    徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載のポリカーボ
    ネートの製造法。
  11. 【請求項11】 末端水酸基濃度が3〜30モル%である
    ことを特徴とする請求項1〜10の何れか1項に記載のポ
    リカーボネートの製造法。
  12. 【請求項12】 2価フェノールが以下の一般式(I)
    〜(IV)の何れかで表される化合物である請求項1〜11
    の何れか1項に記載のポリカーボネートの製造法。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 (式中、R1, R2, R3, R4, R5は水素又は炭素数1〜8の
    直鎖または枝分かれを含むアルキル基、またはフェニル
    基であり、X はハロゲン原子でn =0〜4,m=1〜
    4)
  13. 【請求項13】 請求項1〜12の何れか1項に記載のポ
    リカーボネート共重合体の製造法。
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