JPH06169476A - カラ−受像管のコンバージェンス測定方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、高い正確度でカラ−受像管の水平
方向の電子ビ−ムの位置を決定することのできる測定方
法と測定装置を得ることを目的とする。 【構成】 シャドウマスク上に予め限定された電子分布
パタ−ンを生成し、輝度分布パタ−ンを電子電荷パタ−
ンに変換する画像コンバ−タ15を使用してスクリ−ン14
上の関連する輝度分布パタ−ンを記憶し、画像コンバ−
タ15の視野内の電荷パタ−ンの位置を特徴づける変数値
を得るため電荷パタ−ンを分析装置16で分析して電子ビ
−ムの位置を測定し、それにおいて生成された電子分布
パタ−ンが数ミリメ−トル程度の寸法を有し、縁部がマ
スクスロットの長手方向に対して斜めに延在する形状、
例えば１つの頂点で立つ方形とすることによって電子ビ
ームのわずかな変位による急激な変化をなくしたことを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、画像コンバ−タの視野
に関する多重ビ−ムカラ−受像管の電子ビ−ムの位置測
定方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】実際的にこのような方法および装置はコ
ンバージェンス誤差と垂直ラスタ−オフセットを定める
ために使用されている。コンバージェンス測定では少な
くとも２つの電子ビ−ムにより生成されるラスタ−ライ
ンの位置が測定される。位置の間の偏差はコンバージェ
ンス誤差を示す。垂直ラスタ−オフセットによって水平
ラスタ−ラインがカラ−受像管の水平中心線から垂直に
偏差する程度が決定される。

【０００３】コンバージェンスおよび垂直ラスタ−位置
を測定するための装置が数年来市販されており（ドイ
ツ、ブレ−メンのイノベ−ションテクニック社）、この
装置は図７、８の図面を参照して後述されている。この
装置で行われる処理は図９、１０を参照して説明され
る。

【０００４】図７による既知の装置はカラ−受像管11の
ネックに整列されている電子ビ−ム生成システム12を駆
動するパタ−ン発生器10' と偏向装置13を備えている。
管のスクリ−ン14で生成された画像は画像コンバ−タカ
メラ15により記録され、分析装置16' により分析され
る。パタ−ン発生器10' と、画像コンバ−タカメラ15
と、分析装置16' で時間にわたって発生するシ−ケンス
はシ−ケンス制御装置17'により制御される。分析装置1
6' はＲＡＭ18、分析論理ユニット19' 、ディスプレイ2
0を有する。

【０００５】画像コンバ−タカメラ15にはＣＣＤコンバ
−タ21が配置されており、その構造は図８で示されてい
る。シ−ケンス制御装置17の制御下でＣＣＤコンバ−タ
21の画像に蓄積されている電荷は読取られ、デジタル８
ビット値は電荷量に割当てられる。１つのＲＡＭセルが
各ＣＣＤ画素に対応する。ＲＡＭ18の疑似アドレスはＲ
ＡＭセルの配置がＣＣＤ画素の配置と対応するようにな
っている。このことからＲＡＭに蓄積されている情報パ
タ−ンが予めＣＣＤに蓄積されている電荷パタ−ンとス
クリ−ン14上で生成される輝度分布パタ−ンに直接対応
することが明白である。ＲＡＭはそれぞれ256 キロバイ
トに等しい１０¹⁸［ｓｉｃ；２¹⁸］セル容量を有する。

【０００６】パタ−ン発生器10' により生成されるパタ
−ンはカラ−受像管の３つのカラ−のそれぞれ１つの水
平線および１つの垂直線からなる通常の格子パタ−ンで
ある。図９は垂直線の発光スクリ−ン14における見え方
を示している。

【０００７】発光スクリ−ン14は蛍光ストライプＲ、
Ｇ、Ｂとその間に位置しているマトリクスストライプか
らなり、図９では狭い間隔のクロスハッチングにより示
されている。電子スポットが発光スクリ−ンと蛍光スト
ライプに衝突する点が存在し、発光は蛍光ストライプの
発光カラ−で生じる。赤光を放射するドメインは右上り
の破線ハッチング、緑光を放射するドメインは連続線の
ハッチング、青光を放射するドメインは右下りのハッチ
ングにより識別される。各発光スポットは200 μｍの幅
と700 μｍの高さを有する。水平方向で同一のカラ−に
属する発光スポットは810 μｍの間隔で分離され、垂直
にはこれらは互いに100 μｍの間隔で分離されている。
これらの値は発光スクリ−ン中心に適用される。蛍光ス
トライプおよびマトリクスストライプは外部端程広くな
る。マトリクスストライプが存在しないと同様のサイズ
比が適用される。この場合蛍光ストライプは被覆されて
いないストライプにより互いに分離されており、電子ス
ポットは蛍光ストライプ内に衝突する。

【０００８】図９の下半分は蛍光スポットの関数として
の垂直ラスタ−ラインにより生成される画像を示してい
る。ビ−ムはスクリ−ン14を走査し、各場合に特定の位
置またはより正確には水平同期パルス後の特定時間で正
確にパルスされ、再度ブロックされる。この強度は従っ
て増加し、その後減少する。最大輝度の約10％で開始す
る強度プロフィルは図９の下半分に示されている。図９
のいずれの場合でも詳細に考慮すると２つの赤色垂直ス
トライプ、２つの緑色垂直ストライプ、２つの青色垂直
ストライプが生成され、それぞれ異なった強度を有する
ことが明白である。スクリ−ンが例えば１ｍの距離から
観察されると、各カラ−ストライプは認知不可能であり
代りに単一の白色バ−が生じる。しかしこのことは３つ
のビ−ムの強度プロフィルが図９で示されているように
互いに同一であるならば正しい。一方赤色蛍光ストライ
プを励起する電子ビ−ム（以後赤色電子ビ−ムと言う）
は緑色蛍光ストライプを励起する電子ビ−ム（以後緑色
電子ビ−ムと言う）に関して左にオフセットされ、青色
蛍光ストライプを励起する電子ビ−ム（以後青色電子ビ
−ムと言う）が緑色電子ビ−ムに関して右にオフセット
されると互いに間隔を隔てている３つのカラ−ラスタ−
ストライプが現れ、近くで観察するとそれぞれ810 μｍ
の距離で互いに分離されている２つのストライプを含
む。図９の場合３つの電子ビ−ムは水平にコンバージェ
ンスし、前述の場合ではこれらはコンバージェンスしな
い。

【０００９】図７による装置は特定の電子ビ−ムにより
生成される発光スポットドメインの輝度中心点を決定す
ることにより電子ビ−ムの位置を決定する。以下の段階
を有する処理が行われている。

【００１０】シャドウマスク上に予め限定された電子分
布パタ−ンを生成し、前述の画像コンバ−タを使用して
スクリ−ン上の関連する輝度分布パタ−ンを記録し、画
像コンバ−タは輝度分布パタ−ンを電気電荷パタ−ンに
変換し、画像コンバ−タの視野内の電荷パタ−ンの位置
を種々に特徴づける値を得るために電荷パタ−ンを分析
する。

【００１１】この処理は図10のａ、ｂ、ｃにより図示さ
れている。図10のａはビ−ムが最大強度の少なくとも10
％の強度を有する範囲内の電子ビ−ムのラスタ−幅が同
一のカラ−の２つの近接する蛍光ストライプの間の距離
の２倍より少し小さい場合に関する。この文脈では示さ
れている垂直ラスタ−ストライプは緑色の蛍光ストライ
プがその幅のほぼ中心に位置するように位置され、一方
第２のストライプは丁度端部に位置される。これらのス
トライプは符号Ｇ４、Ｇ５で示される。関連する発光ス
ポットは太い垂直バ−として示されている。その時点で
発光を励起されない潜在的な発光スポットは薄い垂直バ
−により示されている。

【００１２】図10のｂは水平線に沿ってＣＣＤ画像コン
バ−タ21により測定され、垂直方向に予め限定された数
の画素にわたって全ての信号を合計するときの輝度分布
を示している。比較的高い輝度は蛍光ストライプＧ５の
領域で生じ、蛍光ストライプＧ４の領域の輝度は低い。
輝度分布の中心点は符号Ｓ１Ｖで示される。

【００１３】図10のｄは図10のａと非常に類似している
が、前述の電子ビ−ムが特に垂直中心線が図10のａの位
置ＭＶ１よりも位置ＭＶ２を占有するようにやや右に変
位されている点で異なっている。従って蛍光ストライプ
Ｇ４は前記強度領域に位置されず、代りに蛍光ストライ
プＧ６が認知可能な発光を生成するように励起される。
ＣＣＤ画像コンバ−タ21により測定される関連する輝度
の分布は図10のｃにより示されている。輝度プロフィル
の結果的な中心点は位置ＳＶ２である。

【００１４】中心点ＳＶ１、ＳＶ２との間の変位は中心
線ＭＶ１から中心線ＭＶ２への電子ビ−ムの中心の実際
の変位よりかなり大きい。小さい変位にかかわらず測定
した位置は突然、比較的激しく変化する。理由は電子ビ
−ムにより書込まれたラスタ−線の大部分が全く検出さ
れず、代りに蛍光ストライプの実際に衝突する小さい領
域が可視発光を生成するからである。図10のａによる場
合では中心蛍光ストライプの左への蛍光ストライプにも
衝突するが、右への僅かな変位があると左のストライプ
には衝突しなくなり、一方中心蛍光ストライプの右のス
トライプが突然衝突されると、このことは中心ストライ
プの発光領域に加えて存在するこれらの発光領域の1.6
ｍｍの変位を意味する。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】僅かな変位から生じる
垂直ラスタ−ストライプの明白なジャンプは図10のａ、
ｄを参照して示されているように同一のラスタ−ストラ
イプがＣＣＤコンバ−タ21で記録されないで肉眼で観察
されるとき非常に明白である。それは特にラスタ−スト
ライプが狭いときに顕著である。しかし輝度中心点の分
布に関しても同様にラスタ−ストライプが広いとき片面
の発光ストライプの消滅と他方の新しい発光ストライプ
の発生は多くの発光ストライプからの光の輝度を平均す
るときほとんど影響がないことは顕著ではない。しかし
この場合、変位は低感度でのみ検出されることができ
る。その結果数ミリメ−トルの幅のラスタ−ストライプ
が肉眼を使用しての調節と図７による装置を有するＣＣ
Ｄ画像コンバ−タを使用しての調節との両者を用いる。
これらのストライプは感度と前述の“ジャンプ”効果に
よる干渉との間での適切な妥協を表す。

【００１６】垂直方向では発光スポットは垂直方向で70
0 μｍの高さであるが、互いに100μｍしか分離されて
いないので電子ビ−ムが変位されているとき不適切な場
合に生じる誤差は臨界的ではない。発光および非発光ド
メインとの間の比率はそれ故７：１であり、一方水平方
向では２：８で、水平方向の測定の欠点に対する係数28
（測定および実際のビ−ム変位間の相関関係に関して）
の差を意味する。水平方向のこれらの好ましくない状況
のために既知の装置は十分な正確度で水平コンバージェ
ンスを測定することができない。

【００１７】従って存在する問題は高い正確度で水平方
向の電子ビ−ムの位置を付加的に決定することのできる
多重ビ−ムカラ−受像管の電子ビ−ムの位置を測定する
ための装置および方法を提供することである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明による方法は、既
知の方法の前述の段階を有し、生成される電子分布パタ
−ンが数ミリメ−トル程度の寸法を有するものであり、
少なくとも１つの縁部がマスクスロットの長手方向に対
して斜めに延在し、関連する輝度分布パタ−ンは完全に
視野に適合するように画像コンバ−タ上にイメ−ジされ
ることを特徴とする。

【００１９】本発明による装置は、図７を参照して説明
された装置の機能的グル−プを具備し、数ミリメ−トル
程度の寸法を有する電子分布パタ−ンを生成するように
パタ−ン発生器が設計され、少なくとも１つの縁部がマ
スクスロットの長手方向に対して斜めに延在し、視野に
完全に適合する方法で画像コンバ−タの輝度分布パタ−
ンをイメ−ジするように画像コンバ−タカメラが設計さ
れることを特徴とする。

【００２０】本発明による方法は、パタ−ンの形態によ
り測定における発光効果の影響が中心から輝度パタ−ン
の端部へ減少する場合に、ＣＣＤ画像コンバ−タにより
検出される輝度分布の中心点の突然の変化が除去される
ことに基づく。これは少なくとも１つの縁部がマスクス
ロットの長手方向に対して斜めに伸びるパタ−ンにより
確実に実現される。パタ−ンは頂点で立つ方形のパタ−
ン又は全ての縁部がマスクスロットに対して斜めに延在
する他のパタ−ンであることが好ましい。このようなパ
タ−ンがスクリ−ンにわたって水平に移動されるとき、
および新しい蛍光ストライプがパタ−ンに入るか、また
は前に存在していたものがパタ−ンから移動するときこ
れらの外部領域のパタ−ンの高さが非常に小さいので影
響はない。さらに、パタ−ン縁部の斜めの方向により縁
部ストライプの影響はパタ−ンから最終的に出るまでパ
タ−ン変位の増加と共に弱くなる。しかし通常のパタ−
ンではストライプはパタ−ン内にその全長にわたって存
在するかまたは全くパタ−ンに含まれないかのいずれか
である。

【００２１】本発明による方法および装置の非常に特殊
な１つの利点はカラ−受像管内の全ての電子ビ−ムのコ
ンバージェンス関係が水平および垂直の両者とも単一の
測定で検出されるようにこれらが設計できることであ
る。

【００２２】

【実施例】図１による本発明の装置は図７のように基本
的に組立てられるが、パタ−ン発生器、シ−ケンス制御
装置、分析論理ユニット、従って分析装置が異なった機
能を有する点で異なっており、この理由でこれらの機能
グル−プはそれぞれ10´、17´、19´、16´ではなく参
照番号10、17、19、16を有する。

【００２３】図２のａから明白なようにカラ−受像管11
は頂点に立つ方形のパタ−ンを生成するようにパタ−ン
発生器10により駆動される。このパタ−ンは数ミリメ−
トル例えば４ミリメ−トルの端部の長さを有し、これは
通常使用されるラスタ−ストライプの数ミリメ−トルの
ストライプの幅の選択を左右するものに対応する理由の
場合である。この大きさでは図８によりパタ−ンはＣＣ
Ｄ画像コンバ−タの視野Ａによく適合する。水平方向の
関連する輝度の分布は図２ｂで示されている。右への僅
かな変位が生じると発光ストライプＧ６で生成される発
光スポットはやや長くなり一方、ストライプＧ４で生成
されたスポットはやや短くなる。図２ｄで示されている
ように右への変位が継続するとストライプＧ４の発光ス
ポットは最終的に消滅するまで短くされる。従ってこの
ことは漸進的な消滅を表すが図１０を参照して説明され
ているように既知のパタ−ンが使用される場合の突然の
消滅は表さない。右側の新しい発光スポットが十分な長
さにわたって突然現われず代りに新しい蛍光ストライプ
に到達したとき最初に短い発光スポットが生じこれらは
右への変位が連続する程長くなる。それ故発光スポット
はＣＣＤ画像コンバ−タの視野の全長にわたって突然現
われることはできない。輝度のこれらの漸進的な変化は
それぞれ図２のａ，ｄによるパタ−ン位置に対応する図
２のｂ，ｃの輝度プロフィルからも明白である。

【００２４】図３ａ〜ｄは頂点で立つ方形パタ−ンが下
方向に変位されるときの状況を同様に示している。前述
したように発光スポットはこれらが最終的にカットオフ
になるまで次第に小さくなる。従ってｙ方向の変位にお
いても同様に、輝度分布の変化は主要なジャンプなしで
生じる。

【００２５】図４は輝度分布の中心点がパタ−ンの変位
を測定するために使用される必要がないことを示してい
る。図４によると、互いに垂直で方形パタ−ンの縁部に
平行に延在する２つの測定線ＭＬ１、ＭＬ２は代りにＣ
ＣＤ画像コンバ−タ21により検出される画像に重ねられ
ている。輝度分析が下部から上部の測定線ＭＬ１に沿っ
て移動され、測定線ＭＬ１に垂直に延在する線で生じる
全ての輝度値が合計されると、蛍光ストライプＧ４の発
光スポットの下端部は点ＵＬ１で観察される。前記信号
獲得プロセスに先行して輝度値は最終的に点ＯＲ１に到
達するまで検出され続け、線ＭＬ１に垂直に見ると発光
スポットに属する画素は最終的に知覚される。点ＵＬ１
およびＯＲ１はパタ−ンの左下部と右上部縁をそれぞれ
特徴づける。対応して、測定線ＭＬ２に沿って処理する
と２つの点ＵＲ１およびＯＬ１が検出され、パタ−ンの
右下部と左上部端をそれぞれ識別する。パタ−ンが図４
のｂで示されているように変位されると測定点ＵＬ２、
ＯＲ２はＵＲ２およびＯＬ２と同様に検出される。従っ
て測定線に沿った変位は限定され、ｘ方向に対して45°
であるためにこれらの変位はｘおよびｙ変位に簡単に変
換される。測定線の方向の処理と測定線に垂直な各線の
全ての画素値を合計することを含む前記分析は前記方向
の疑似アドレスを計算し、各疑似アドレスの下でＲＡＭ
セルを読取ることによりＲＡＭ18を使用して容易に行わ
れることができる。

【００２６】図４に示されている分析変化に関して、発
光スポットは次第にパタ−ンに入り次第にそこから出る
のでパタ−ンが変位されるとき測定点ＵＬ、ＵＲ、Ｏ
Ｒ、ＯＬの急速で突然の変化は存在しないことも注目す
べきことである。

【００２７】図２〜４はパタ−ンが連続的に変位される
ときに測定される特定の位置もある時に突然ではなく連
続的に変化することを示すのに用いられた。これは頂点
で立つ方形ではなく、マスクスロットに対して斜めに延
在する縁部を有する他のパタ−ンが使用されるときにも
同様であり、マスクスロットは発光スポットが次第にパ
タ−ンに入り次第にそこから出ることを保証する。実際
の応用で本質的なことは実際と観察された変位の間のこ
の連続的関係が非常に正確に位置測定を保証することで
ある。

【００２８】実際の応用ではｘ方向で関心があることは
それぞれの電子ビ−ムの位置測定ではなく、互いに関す
る複数の電子ビ−ムの位置決定である。これは図５に示
されている。カラ−受像管の３つの電子ビ−ムのそれぞ
れは頂点で立つ方形パタ−ンを生成する。緑色ビ−ムに
より描かれるパタ−ンは実線により囲まれ、関連する発
光スポットは実線バ−により特徴づけられ、赤色ビ−ム
により生成されるパタ−ンは破線により囲まれており、
関連する発光スポットは破線で示され、青色ビ−ムによ
り生成されるパタ−ンは点線で囲まれ、関連する発光ス
ポットは点のついたストライプで示されている。３つの
電子ビ−ムがコンバージェンスであるならば３つのパタ
−ンは基本的に対応する。しかしこの場合にはそうでは
ない。さらにそれぞれの場合緑色緑色ビ−ムに関して赤
色および青色ビ−ムのオフセットを測定することも重要
である。この目的で３つのパタ−ンの３つの位置は独立
してそれぞれ分析されるべきである。図５によるパタ−
ンの記憶前に決定によりＣＣＤセンサの使用でさえもこ
のことが実行され、ＣＣＤ画素はその色に属する。この
目的で３つの電子ビ−ムが準備段階において連続して動
作され各画素に対応する色が記憶されるか、或るいは全
ての電子ビ−ムが同時に動作され、図９による蛍光トリ
プレットのＨ型パタ−ンのいう結果となり、図９の構造
は画素を種々の色に割当てることを可能にする。両者の
方法は図７による商業的に入手可能なユニットから知ら
れている。

【００２９】垂直ラスタ−偏差の測定において、画像コ
ンバ−タの視野の水平中心線ＨＡからのｙ方向の偏差は
例えば緑色ビ−ム等の少なくとも１つのビ−ムで検出さ
れなけばならない。他のビ−ムの垂直変位に関しては緑
色ビ−ムまたは水平線ＨＡを基準にする。垂直方向のこ
の分析は例えば図３で示されている方法で行われる。

【００３０】従って本発明による装置で単一の記憶画像
で全てのコンバージェンスおよびｘ、ｙ方向のラスタ−
位置デ−タと全ての電子ビ−ムを正確に決定することが
可能である。前記パタ−ンの選択に加えて予め必要なこ
とはＣＣＤ画像コンバ−タの視野Ａが図５で示されてい
るような互いに関してオフセットされるパタ−ンの場合
に全てのパタ−ンは最大製造許容度で視野内に位置する
ように設定されなければならないことである。図８によ
るＣＣＤ画像コンバ−タ21が使用され、約４ｍｍの長さ
の辺部を有する方形パタ−ンが使用されると、これは
１：１の画像で可能である。小さい寸法のＣＣＤ画像コ
ンバ−タが使用されるとき、または例外的に大型のコン
バージェンスおよびラスタ−オフセットを有する管が試
験される必要があるならばカメラにより記憶されるパタ
−ンの画像はＣＣＤ画像コンバ−タでやや縮小されなけ
ればならない。

【００３１】図６によるフロ−図は前述の処理シ−ケン
スが図１による装置で互いに連続する状態を示してい
る。段階ｓ１では補正カラ−は前述の処理の１つを使用
して各ＣＣＤ画素とさらに関連するＲＡＭセルに割当て
られる。段階ｓ２では３つのカラ−に対する３つのパタ
−ンがディスプレイされ、例えば図５でディスプレイさ
れる画像ような画像を生じる。段階ｓ３ではカラ−赤色
Ｒは最初に試験される第１のカラ−Ｆとして設定され、
ｘ方向が座標ｋとして選択される。これらのデ−タでは
カラ−Ｒと座標ｘの中心点ＳＦｋが図２を参照して説明
されるように計算される。計算された値は蓄積される
（段階ｓ４）。段階ｓ５では座標が値ｘを有するかどう
かの決定がおこなわれる。有するならば段階ｓ６に到達
し、座標は値ｙに設定される。段階ｓ４は再度実施さ
れ、それは、図３を参照して示されているようにカラ−
Ｒと座標ｙの中心点ＳＦｋがＲＡＭデ−タから決定され
ることを意味する。計算された値は蓄積される。前述の
処理の代りにカラ−赤色のパタ−ンの中心点のｘ、ｙ座
標も図４を参照して説明される処理を用いて決定され
る。

【００３２】座標はｘではないことが段階ｓ５で明白で
あるならば段階ｓ７はカラ−がＲであるかどうかを質問
する。現在のこの例ではそうであるので、段階ｓ８に到
達し、座標ｋは値ｘに再セットされカラ−は値Ｇにセッ
トされる。中心点はＲパタ−ンで説明したようにＧパタ
−ンに対して決定される。段階ｓ７が再度到達するとき
カラ−はＲではなく、カラ−が緑色であるかどうかを質
問する段階ｓ９に導かれる。カラ−が緑色ならば段階ｓ
10に到達し座標ｋは値ｘに設定され、カラ−Ｇ［ｓｉ
ｃ］がカラ−として選択される。再度中心点が前述の方
法で決定される。段階ｓ９に再び到達するときカラ−が
緑色ではなく、段階ｓ11に導かれ、緑色パタ−ンの中心
点に関して赤色および青色パタ−ンの中心点との間の中
心点の差が計算される。輝度分布の中心点間の差は実際
のパタ−ンの中心点間の差と正確に一致しないから、段
階12では輝度分布パタ−ンの中心点の座標間の差は実際
のパタ−ンの座標間の差に変換される。

【００３３】スロット方向に斜めに延在する緑部を有す
る画像セグメントの使用、特に１つの頂点で立つ方形形
態の画像セグメントの使用はドイツ特許明細書DE-A-32
06 913によって別の内容で知られている。しかしここに
説明されているプロセスは形態のパタ−ンを生成するこ
とを含み、代りに垂直または水平ラスタ−線はパタ−ン
を有するマスクにより通過を許容される。垂直線が含ま
れ、水平コンバージェンス誤差が存在するならばラスタ
−線は同時にマスクに入りそこから出るのではなく、こ
れらの動作は連続して生じる。前述の形態のマスクの使
用は増加された振幅の信号に導かれ、そこから振幅の時
間にわたってオフセットが推定される。この値は非常に
正確にコンバージェンスオフセットを指示する。しかし
前述の装置の前述の形態のマスクの使用に導かれる実行
は、時間に関するプロフィルが試験されないので本発明
の場合には使用不可能であり、代りに特定パタ−ンの分
析された単一画像が記憶され、分析される。

【図面の簡単な説明】

【図１】管の電子ビ−ムのコンバージェンスおよびラス
タ−位置を測定するためのカラ−受像管および装置の概
略図。

【図２】ＣＣＤ画像コンバ−タでイメ−ジされるとき頂
点に立つ方形発光スポットパタ−ンおよび画像コンバ−
タの水平線に沿った輝度分布の概略図。

【図３】パタ−ンをやや右に変位した図２のａに対応す
る図と、その位置と比較してパタ−ンがやや下方向に変
位されている図と、それらの輝度分布図。

【図４】コンバージェンスコンバ−タの視野内の２つの
位置のパタ−ンの図。

【図５】各パタ−ンが３つの異なった電子ビ−ムの１つ
に属する画像コンバ−タの視野の30［ｓｉｃ］の部分的
にオ−バ−ラップしたパタ−ン図。

【図６】図１による装置により行われる処理のフロ−
図。

【図７】図１に対応した既知の装置の概略図。

【図８】図７による装置のＣＣＤ画像コンバ−タおよび
関連したＲＡＭの概略図。

【図９】スクリ−ンの蛍光ストライプおよび発光スポッ
トおよび関連する輝度測定曲線図。

【図１０】通常のパタ−ンを使用した図２に対応する
図。

フロントページの続き (72)発明者 ツェリィオ・ゼルンホルスト ドイツ連邦共和国、3100 ツェレ、テレフ ンケンシュトラーセ ３ (72)発明者 ギュンター・ベッセルス ドイツ連邦共和国、2805 シュトウーア ４、ネヒタースベルガー・シュトラーセ ７

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 管のスクリ−ンの輝度分布パタ−ンを生
   成する電子ビ−ムと、異なったカラ−の蛍光ストライプ
   を有するスクリ−ンと、シャドウマスクと、蛍光ストラ
   イプの正面に存在し、蛍光ストライプ方面に延長するス
   ロットとを具備し、 シャドウマスク上に予め限定された電子分布パタ−ンを
   生成し、 輝度分布パタ−ンを電子電荷パタ−ンに変換する画像コ
   ンバ−タを使用してスクリ−ン上の関連する輝度分布パ
   タ−ンを記憶し、 画像コンバ−タの視野内の電荷パタ−ンの位置を特徴づ
   ける変数値を得るため電荷パタ−ンを分析する段階を有
   する画像コンバ−タの視野に関して多重ビ−ムカラ−受
   像管の電子ビ−ムの位置を測定する方法において、 生成された電子分布パタ−ンが数ミリメ−トル程度の寸
   法を有し、少なくとも１つの縁部がマスクスロットの長
   手方向に対して斜めに延在し、関連する輝度分布パタ−
   ンは視野に完全に適合するように画像コンバ−タ上にイ
   メ−ジされることを特徴とするカラ−受像管の電子ビ−
   ム位置の測定方法。
2. 【請求項２】 電子分布パタ−ンの全ての縁部がマスク
   スロットの長手方向に対して斜めに延在することを特徴
   とする請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 画像コンバ−タ内の電荷パタ−ンの位置
   を特徴づける変数が予め限定された方向の電荷中心点で
   あることを特徴とする請求項１乃至２のいずれか１項記
   載の方法。
4. 【請求項４】 画像コンバ−タ内の電荷パタ−ンの位置
   を特徴づける変数が予め限定された方向に垂直に延在す
   る電荷パタ−ンの縁部の位置であり、基本的に全ての個
   々の電荷は縁部の側面の一方の領域のしきい値より下に
   位置され、基本的に全ての個々の電荷は縁部の他方の側
   面の領域のしきい値より上に位置されていることを特徴
   とする請求項１乃至２のいずれか１項記載の方法。
5. 【請求項５】 前記パタ−ンを利用して少なくとも２つ
   の電子ビ−ムの相互に関する位置を測定するための方法
   において、 画像コンバ−タの輝度分布パタ−ンをイメ−ジするスケ
   −ルは、全ての輝度分布パタ−ンがイメ−ジされるよう
   に選択され、 光を放射する蛍光体のカラ−が画像コンバ−タの各画素
   に対して決定され、 電子分布パタ−ンが測定される全ての電子ビ−ムに対し
   て同時に生成され、対応する輝度分布パタ−ンの画像が
   画像コンバ−タにより記憶され、 互いに垂直方向の２つの電子ビ−ムのそれぞれの場合に
   種々の電子ビ−ムに対する画素の割当てを使用して記憶
   された画像の前記分析が行われることを特徴とする請求
   項１乃至４のいずれか１項記載の方法。
6. 【請求項６】 管のスクリ−ンの輝度分布パタ−ンを生
   成する前記電子ビ−ムと、異なったカラ−の蛍光ストラ
   イプを有するスクリ−ンと、シャドウマスクと、蛍光ス
   トライプの正面に存在し、蛍光ストライプ方向に延長す
   るスロットとを具備し、 シャドウマスク上に予め限定された電子分布パタ−ンを
   生成するパタ−ン発生器と、 スクリ−ン上の関連する輝度分布パタ−ンを記録するた
   めの画像コンバ−タカメラと、 カメラにより記録された輝度分布パタ−ンを電気電荷パ
   タ−ンに変換するための画像コンバ−タと、 画像コンバ−タ内の視野内の電荷パタ−ンの位置を特徴
   づける変数の値を得るため電荷パタ−ンを分析する分析
   装置と、 パタ−ン発生器と画像コンバ−タと分析装置の時間にわ
   たってシ−ケンスを制御するシ−ケンス制御装置とを具
   備する画像コンバ−タの視野に関する多重ビ−ムカラ−
   受像管の電子ビ−ムの位置を測定する装置において、 パタ−ン発生器は数ミリメ−トル程度の寸法を有する電
   子分布パタ−ンを発生し、その少なくとも１つの縁部は
   マスクスロットの長手方向に対して斜めに延在し、 画像コンバ−タカメラは視野に完全に適合するように画
   像コンバ−タ上に輝度分布パタ−ンをイメ−ジすること
   を特徴とするカラ−受像管の電子ビ−ム位置の測定装
   置。