JP3159240B2 - ビーム形状測定装置及びビーム形状測定方法 - Google Patents

ビーム形状測定装置及びビーム形状測定方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管面上の
電子ビームの形状を測定するビーム形状測定装置及びビ
ーム形状測定方法に関し、特に、電流密度分布を輝度の
3次元プロファイルにより測定するビーム形状測定装置
及びビーム形状測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ブラウン管面上のビーム形状測定
装置では、いわゆるラスタースキャン方式で撮像された
データを用いてビーム形状の測定が行われていた。ま
た、電子ビームはシャドウマスクにより一部遮られるの
で、遮られた部分については直線補間やガウス分布等に
より近似計算してビーム形状を測定していた。
【0003】しかし、シャドウマスクに遮られた部分を
周りのデータから近似計算したデータは実測値ではない
ので真のビーム形状を求めることができなかった。
【0004】そこで、シャドウマスクにより遮られた部
分も測定するビーム形状測定装置が、例えば、特開平4
ー181631号公報に提案されている。このビーム形
状測定装置は、被測定ブラウン管のスクリーン面に、単
色のビームスポットを、直流水平電源及び直流垂直電源
からなる直流偏向電源により映出させる手段と、スクリ
ーン面の縦及び横方向に一定のピッチでビームスポット
を移動させる手段と、ビームスポットを撮像し、輝度を
測定し、メモリに記憶させ、ビーム形状を出力する手段
とを有する。
【0005】このビーム形状測定装置によれば、直流水
平電源を所定のステップ数だけ増加させて水平方向を規
定回数測定し、次に、直流垂直電源を所定のステップ数
だけ増加させて規定回数測定する。例えば、水平方向5
0回、垂直方向50回の測定をすることにより2500
点の輝度データが得られる。得られた輝度データはメモ
リに記憶される。そして、得られた測定データを水平、
垂直の両方向で合成することにより3次元のデータ曲線
が得られる。そして、1つのカソード、例えば赤の測定
が終了すると次に緑及び青の測定を行う。これによっ
て、ブラウン管のスクリーンに真のビームスポットを映
出することができ、ビーム形状を正確に測定できる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】特開平4ー18163
1号公報に提案されているビーム形状測定装置では、シ
ャドウマスクにより遮られた部分も測定するので、ビー
ム形状を正確に測定できる。
【0007】しかし、ビームのステップ移動には時間が
かかり、また画像が安定するまでの待ち時間もかかるの
で、多大な測定時間を要するという問題があった。
【0008】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、ビーム形状を正確かつ高速に測定することが
できるビーム形状測定装置及びビーム形状測定方法を提
供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のビーム形状測定
装置は、シャドウマスクを蛍光体上に設置したブラウン
管面上のビームを撮像する撮像手段と、その撮像手段に
よって得られた画像データから第1プロファイルデータ
を作成する第1プロファイル作成手段と、第1プロファ
イルデータのうちシャドウマスクにより遮られた部分を
シャドウマスクのスリット部分に位置するようにビーム
偏向して、撮像手段によって得られた画像データから第
2プロファイルデータを作成する第2プロファイル作成
手段と、第2プロファイルデータを偏向分補正するデー
タシフト部と、そのデータシフト部でシフトされたデー
タと、第1プロファイルデータとを合成するデータ合成
部と、を有することを特徴とするものである。
【0010】本発明は又、垂直方向のラインに沿ってス
リットが形成されたシャドウマスクを蛍光体上に設置し
たブラウン管面上のビームを撮像する撮像手段と、ビー
ムを水平方向に偏向させて、撮像手段によって得られた
画像データから第1プロファイルデータを作成する第1
プロファイル作成手段と、第1プロファイルデータのう
ちシャドウマスクにより遮られた部分をシャドウマスク
のスリット部分に位置するようにビームを垂直方向に偏
向した後、ビームを水平方向に偏向させて撮像手段によ
って得られた画像データから第2プロファイルデータを
作成する第2プロファイル作成手段と、第2プロファイ
ルデータを偏向分補正するデータシフト部と、そのデー
タシフト部でシフトされたデータと、第1プロファイル
データとを合成するデータ合成部と、を有することを特
徴とする。
【0011】本発明は又、垂直方向のラインに沿ってス
リットが形成されたシャドウマスクを蛍光体上に設置し
たブラウン管面上のビームを撮像するCCDカメラと、
そのCCDカメラによって撮像された映像信号を画像デ
ータとして記憶する画像メモリと、その画像メモリに記
憶されている画像データからプロファイルデータを作成
するプロファイル作成部と、水平と垂直の2次元のデー
タ番号を付けた記憶領域を持ち、そこに前記プロファイ
ルデータを記憶し、次のプロファイルデータのために水
平方向データ番号を1番増やしておくことにより順次2
次元の第1プロファイルデータを記憶する第1プロファ
イルデータメモリと、水平方向のデータを取得し終わる
まで水平方向に1ライン分水平偏向電流を出力する水平
偏向電流制御部と、前記CCDカメラへ撮像命令信号を
出力する撮像制御部と、前記第1プロファイルデータメ
モリにデータを取得し終わった時点で、ブラウン管のシ
ャドウマスクにより遮られた部分をシャドウマスクのス
リット部分へ移動させるために、その分の垂直偏向電流
を出力する垂直偏向電流制御部と、水平と垂直の2次元
のデータ番号を付けた記憶領域を持ち、そこに前記プロ
ファイルデータを記憶し、前記垂直偏向電流により移動
したビームの垂直方向位置において、前記水平偏向電流
制御部により水平方向に1ラインづつ移動させながら2
次元の第2プロファイルデータを記憶する第2プロファ
イルデータメモリと、その第2プロファイルデータメモ
リにデータを取得し終わった時点で、メモり内の第2プ
ロファイルデータを前記垂直偏向電流により移動させた
分だけ戻すデータシフト部とそのデータシフト部でシフ
トされたデータと前記第1プロファイルデータメモリ内
の第1プロファイルデータとを合成するデータ合成部
と、を有することを特徴とするものである。
【0012】上述した本発明のビーム形状測定装置は、
ビームの電流密度分布を輝度の3次元プロファイルデー
タにより測定するものである。
【0013】本発明のビーム形状測定方法は、(1)シ
ャドウマスクを蛍光体上に設置したブラウン管面上のビ
ームを撮像する工程と、(2)撮像して得られた画像デ
ータから第1プロファイルデータを作成する工程と、
(3)第1プロファイルデータのうちシャドウマスクに
より遮られた部分をシャドウマスクのスリット部分に位
置するようにビーム偏向した後、撮像して得られた画像
データから第2プロファイルデータを作成する工程と、
(4)第2プロファイルデータを偏向分だけデータシフ
トする工程と、(5)シフトされたデータと、第1プロ
ファイルデータとを合成する工程と、を有することを特
徴とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形
態の構成を示すブロック図である。
【0015】図1中、1は垂直方向のラインに沿ってス
リットが形成されたシャドウマスクを蛍光体上に設置し
たブラウン管である。2はブラウン管1面上のビームを
撮像するCCDカメラである。CCDカメラ2はブラウ
ン管1に向き合って固定されており、先端のレンズ部2
aを介してブラウン管1面上のビームスポットを拡大し
て撮像する。
【0016】3はCCDカメラ2によって撮像された映
像信号aを画像データbとして記憶する画像メモリであ
る。4は画像メモリ3に記憶されている画像データbか
らプロファイルデータcを作成するプロファイル作成部
である。5はプロファイルデータcのうち第1プロファ
イルデータjを記憶し、記憶した分の水平方向データ番
号dを1づつ増やしていく第1プロファイルデータメモ
リである。
【0017】6は第1プロファイルデータメモリ5に登
録された水平方向データ番号dが水平方向データ取得終
了番号に達しない場合、水平方向に1ライン分の水平偏
向電流eを出力する水平偏向電流制御部である。7は水
平偏向電流eの出力が終了した後CCDカメラ2へ撮像
命令信号gを出力する撮像制御部である。8は第1プロ
ファイルデータメモリ5に登録された水平方向データ番
号dが水平方向データ取得終了番号に達した場合、ブラ
ウン管1のシャドウマスクにより遮られた部分をシャド
ウマスクのスリット部分へビーム偏向して移動できるだ
けの垂直偏向電流fを出力する垂直偏向電流制御部であ
る。
【0018】9は垂直偏向電流fにより偏向されたビー
ムの垂直方向位置で水平方向に1ラインづつ移動させて
得られた第2プロファイルデータhを記憶し、記憶した
分の水平方向データ番号dを1づつ増やしていく第2プ
ロファイルデータメモリである。
【0019】10は第2プロファイルデータメモリ9に
登録された水平方向データ番号dが水平方向データ取得
終了番号に達した場合、メモリ内のデータをその垂直偏
向電流fにより移動させた分だけ戻すデータシフト部で
ある。
【0020】11はデータシフト部10でシフトしたデ
ータiと第1プロファイルデータメモリ5内のデータj
を合成するデータ合成部である。
【0021】図2は、シャドウマスクに対するビームス
ポットの位置によって、輝度プロファイルがどのように
変化するかを説明するための説明図である。図2中、2
0はビームスポット、21はシャドウマスクのスリット
である。スリット21は、垂直方向のラインに沿って形
成される。
【0022】図2(A)はビーム20を水平方向にピッ
チ送りしてちょうどビーム20の中心がライン上に一致
した位置i=xの時に得られる輝度プロファイルPf1
(x)を示す図である。
【0023】一方、図2(B)はさらにピッチ送りして
いき、i=x+dの位置のときに得られる輝度プロファ
イルPf1(x+d)を示している。
【0024】図2(C)、図2(D)はビームを垂直方
向にずらした後、水平方向にピッチ送りしていきビーム
がi=x、i=x−dの位置のときに得られるプロファ
イルPf2(x)、Pf2(x−d)を示している。
【0025】図3は本発明のビーム形状測定装置の動作
を示すフローチャートである。
【0026】まず、ブラウン管1の管面にCCDカメラ
2をセットし(S1)、撮像制御部7から撮像命令信号
gがCCDカメラ2に入力されると(S2)、CCDカ
メラ2はブラウン管1面上のビームを撮像する(S
3)。撮像された映像信号aは画像データbとして画像
メモリ3に記憶され(S4)、プロファイル作成部4で
ラインマスク内の輝度データからプロファイルデータc
を作成する(S5)。
【0027】次いで、作成されたプロファイルデータc
が第1プロファイルデータjの場合には、第1プロファ
イルデータメモリ5で第1プロファイルデータjを記憶
し(S6)、記憶した分の水平方向データ番号dを1づ
つ増やしていく。
【0028】次いで、第1プロファイルデータメモリ5
に登録された水平方向データ番号dが水平方向データ取
得終了番号に達しない場合、水平偏向電流制御部6によ
って水平方向に1ライン分水平偏向電流eを出力する
(S7)。
【0029】次いで、第1プロファイルデータメモリ5
に登録された水平方向データ番号dが水平方向データ取
得終了番号に達した場合、ブラウン管1のシャドウマス
クにより遮られた部分をシャドウマスクのスリット部分
へビーム偏向して移動できるだけの垂直偏向電流fを垂
直偏向電流制御部8によって出力する(S8)。
【0030】次いで、垂直偏向電流fにより偏向された
ビームの垂直方向位置で水平方向に1ラインづつ移動さ
せ、それを撮像して得られた第2プロファイルデータを
第2プロファイルデータメモリ9で記憶し、記憶した分
の水平方向データ番号dを1づつ増やしていく(S
9)。
【0031】次いで、第2プロファイルデータメモリ9
に登録された水平方向データ番号dが水平方向データ取
得終了番号に達しない場合、水平偏向電流制御部6によ
って水平方向に1ライン分水平偏向電流eを出力する
(S10)。
【0032】次いで、第2プロファイルデータメモリ9
に登録された水平方向データ番号dが水平方向データ取
得終了番号に達した場合、データシフト部10によっ
て、第2プロファイルデータメモリ9内のデータhを垂
直偏向電流fにより移動させた分だけ戻してデータシフ
トする(S11)。
【0033】最後に、データ合成部11によって、デー
タシフト部10でシフトしたデータiと第1プロファイ
ルデータメモリ5内のデータjを合成する(S12)。
【0034】図4は本発明のビーム形状測定装置により
得られる3次元プロファイルを示す模式図である。
【0035】ビームをピッチ送りしていく毎にラインマ
スク上の輝度プロファイルが時系列データPf1(x)
(図2(A)参照)としてプロファイルデータメモリ1
に記憶される。その時系列データをまとめシャドウマス
クで遮られた部分のデータが欠落した形での3次元プロ
ファイルSf1(x)(y)が得られる(図4(A)参
照)。
【0036】プロファイルデータメモリ1に記憶された
3次元プロファイルSf1(x)(y)の中でシャドウ
マスクにより遮られた部分を、シャドウマスクのスリッ
ト部分すなわち蛍光体の部分に移動できるだけの垂直偏
向電流fを垂直偏向電流制御部8から出力した後、水平
方向にビームをピッチ送りしていき、ラインマスク上の
輝度プロファイルPf2(x)(図2(B)参照)を得
て、それをまとめて3次元プロファイルSf2(x)
(y)を得る(図4(B)参照)。
【0037】Sf2(x)(y)はSf1(x)(y)
に比べ垂直方向にビームをずらした分だけ中心がずれて
いるので、データシフト部10で中心をあわせ、シフト
されたデータi(SSf2(x)(y))を得る(図4
(C)参照)。
【0038】最後に、データ合成部10で3次元プロフ
ァイルSf1(x)(y)とSSf2(x)(y)を合
成して測定結果Sf3(x)(y)を得る(図4(D)
参照)。
【0039】本発明によれば、CCDカメラ2によって
得られた画像データbから第1プロファイルデータjを
作成し、その第1プロファイルデータjのうちシャドウ
マスクにより遮られた部分をシャドウマスクのスリット
部分に位置するようにビーム偏向して、CCDカメラ2
によって得られた画像データから第2プロファイルデー
タhを作成した後、データシフト部10でシフトされた
データiを作成するが、第1プロファイルデータとシフ
トされた第2プロファイルデータは、お互いが欠落した
データ部分を補つ形のデータとなっているので、これら
をデータ合成することにより各プロファイルをマージし
て正確なビーム形状の測定結果を出力することができ
る。従って、ビーム形状測定の信頼性を向上させること
ができる。
【0040】また、第1プロファイルデータと第2プロ
ファイルデータの2つのデータ分のビーム移動だけで測
定できるので、従来の装置に比べ、測定時間を短縮で
き、ビーム形状測定の高速化を図ることができる。
【0041】本発明は、上記実施の形態に限定されるこ
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲内において、種々の変更が可能である。例えば、シャ
ドウマスクのスロットは、ライン状のものに限らず、円
形に形成されたものでもよい。
【0042】
【発明の効果】本発明によれば次のような優れた効果を
奏する。 (1)撮像手段によって得られた画像データから第1プ
ロファイルデータを作成し、その第1プロファイルデー
タのうちシャドウマスクにより遮られた部分をシャドウ
マスクのスリット部分に位置するようにビーム偏向し
て、撮像手段によって得られた画像データから第2プロ
ファイルデータを作成した後、データシフト部でシフト
されたデータを作成するが、第1プロファイルデータと
シフトされた第2プロファイルデータは、お互いが欠落
したデータ部分を補つ形のデータとなっているので、こ
れらをデータ合成することにより各プロファイルをマー
ジして正確なビーム形状の測定結果を出力することがで
きる。従って、ビーム形状測定の信頼性を向上させるこ
とができる。 (2)第1プロファイルデータと第2プロファイルデー
タの2つのデータ分のビーム移動だけで測定できるの
で、従来の装置に比べ、測定時間を短縮でき、ビーム形
状測定の高速化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のビーム形状測定装置の構成を示すブロ
ック図である。
【図2】シャドウマスクに対するビームスポットの位置
によって、輝度プロファイルがどのように変化するかを
説明するための説明図である。
【図3】本発明のビーム形状測定装置の動作を説明する
ためのフローチャートである。
【図4】本発明のビーム形状測定装置により得られる3
次元プロファイルを示す模式図であり、(A)は第1プ
ロファイルデータの模式図、(B)は第2プロファイル
データの模式図、(C)はシフト後のプロファイルデー
タの模式図、(D)は合成後のプロファイルデータの模
式図である。
【符号の説明】
1:ブラウン管、 2:CCDカメラ、 3:画像メモリ、 4:プロファイル作成部、 5:第1プロファイルデータメモリ、 6:水平偏向電流制御部、 7:撮像制御部 8:垂直偏向電流制御部、 9:第2プロファイルデータメモリ、 10:データシフト部、 11:データ合成部、 a:映像信号、 b:画像データ、 c:プロファイルデータ、 d:水平方向データ番号、 e:水平偏向電流、 f:垂直偏向電流、 g:撮像命令信号、 h:第2プロファイルデータ、 i:シフト第2プロファイルデータ、 j:第1プロファイルデータ、

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シャドウマスクを蛍光体上に設置したブラ
    ウン管面上のビームを撮像する撮像手段と、 その撮像手段によって得られた画像データから第1プロ
    ファイルデータを作成する第1プロファイル作成手段
    と、 前記第1プロファイルデータのうちシャドウマスクによ
    り遮られた部分をシャドウマスクのスリット部分に位置
    するようにビーム偏向して、前記撮像手段によって得ら
    れた画像データから第2プロファイルデータを作成する
    第2プロファイル作成手段と、 前記第2プロファイルデータを偏向分補正するデータシ
    フト部と、 そのデータシフト部でシフトされたデータと、前記第1
    プロファイルデータとを合成するデータ合成部と、 を有することを特徴とするビーム形状測定装置。
  2. 【請求項2】垂直方向のラインに沿ってスリットが形成
    されたシャドウマスクを蛍光体上に設置したブラウン管
    面上のビームを撮像する撮像手段と、 ビームを水平方向に偏向させて、前記撮像手段によって
    得られた画像データから第1プロファイルデータを作成
    する第1プロファイル作成手段と、 前記第1プロファイルデータのうちシャドウマスクによ
    り遮られた部分を前記シャドウマスクのスリット部分に
    位置するようにビームを垂直方向に偏向した後、ビーム
    を水平方向に偏向させて前記撮像手段によって得られた
    画像データから第2プロファイルデータを作成する第2
    プロファイル作成手段と、 前記第2プロファイルデータを偏向分補正するデータシ
    フト部と、 そのデータシフト部でシフトされたデータと、前記第1
    プロファイルデータとを合成するデータ合成部と、 を有することを特徴とするビーム形状測定装置。
  3. 【請求項3】垂直方向のラインに沿ってスリットが形成
    されたシャドウマスクを蛍光体上に設置したブラウン管
    面上のビームを撮像するCCDカメラと、 そのCCDカメラによって撮像された映像信号を画像デ
    ータとして記憶する画像メモリと、 その画像メモリに記憶されている画像データからプロフ
    ァイルデータを作成するプロファイル作成部と、 水平と垂直の2次元のデータ番号を付けた記憶領域を持
    ち、そこに前記プロファイルデータを記憶し、次のプロ
    ファイルデータのために水平方向データ番号を1番増や
    しておくことにより順次2次元の第1プロファイルデー
    タを記憶する第1プロファイルデータメモリと、 水平方向のデータを取得し終わるまで水平方向に1ライ
    ン分水平偏向電流を出力する水平偏向電流制御部と、 前記CCDカメラへ撮像命令信号を出力する撮像制御部
    と、 前記第1プロファイルデータメモリにデータを取得し終
    わった時点で、ブラウン管のシャドウマスクにより遮ら
    れた部分をシャドウマスクのスリット部分へ移動させる
    ために、その分の垂直偏向電流を出力する垂直偏向電流
    制御部と、 水平と垂直の2次元のデータ番号を付けた記憶領域を持
    ち、そこに前記プロファイルデータを記憶し、前記垂直
    偏向電流により移動したビームの垂直方向位置におい
    て、前記水平偏向電流制御部により水平方向に1ライン
    づつ移動させながら2次元の第2プロファイルデータを
    記憶する第2プロファイルデータメモリと、 その第2プロファイルデータメモリにデータを取得し終
    わった時点で、メモり内の第2プロファイルデータを前
    記垂直偏向電流により移動させた分だけ戻すデータシフ
    ト部とそのデータシフト部でシフトされたデータと前記
    第1プロファイルデータメモリ内の第1プロファイルデ
    ータとを合成するデータ合成部と、 を有することを特徴とするビーム形状測定装置
  4. 【請求項4】ビームの電流密度分布を輝度の3次元プロ
    ファイルデータにより測定することを特徴とする請求項
    1乃至3のいずれか1つの項に記載のビーム形状測定装
    置。
  5. 【請求項5】(1)シャドウマスクを蛍光体上に設置し
    たブラウン管面上のビームを撮像する工程と、(2)撮
    像して得られた画像データから第1プロファイルデータ
    を作成する工程と、(3)前記第1プロファイルデータ
    のうちシャドウマスクにより遮られた部分を前記シャド
    ウマスクのスリット部分に位置するようにビーム偏向し
    た後、撮像して得られた画像データから第2プロファイ
    ルデータを作成する工程と、(4)前記第2プロファイ
    ルデータを偏向分だけデータシフトする工程と、(5)
    シフトされたデータと、前記第1プロファイルデータと
    を合成する工程と、 を有することを特徴とするビーム形状測定方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6610581B1 (en) 1999-06-01 2003-08-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of forming isolation film in semiconductor device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6610581B1 (en) 1999-06-01 2003-08-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of forming isolation film in semiconductor device

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