JPS62144491A - パタ−ン発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、ブラウン管等の受像管の画質の評価。

調整等を行うためのテストパターンを発生するパターン
発生装置に関する。

〔発明の技術的背景〕

従来、パターン発生装置は、テストパターンとして例え
ば横バーパターン、縦バーパターン、ドツトパターン、
クロスドツトパターンなどがあり、これらテストパター
ンを発生するための方法には■方形波発生回路、計数回
路を組合わせたものや、■画像メモリにテストパターン
情報を書込んでテストパターンを発生するものがある。

第５図は■の方法を用いてドツトパターンを発生した場
合の表示例を示している。なお、第５図（ｂ）は同図（
ａ）に示す１ドツトＡを表示するための電子ビームの走
査状態を示している。つまり、実線部分がハイレベル（
白色）を示し、点線部分がローレベル（黒色）を示して
いる。

〔背狽技術の問題点〕

しかしながら上記方法ではいずれも受像管面の所望位置
にテストパターン、特にドツトパターンの各１ドツトを
表示させ、さらに１ドツトの各形状を所望形状とするこ
とはできない。つまり、■の方法では第５図（ｂ）に示
す各１ドツトの横および縦の長さは変更可能であるが、
形状は装置のロジックにより決定されてしまうので、変
更は不可能である。一方、■の方法では若干の形状変更
は可能であるが、各１ドツトを構成する画素数が少ない
ので、細部に厘っての形状変更は不可能である。以上の
ようにテストパターンの表示位置およびその形状を変更
できなければ、受像管に映し出される画像の画質を高精
度に評価し、かつ調整することはできない。

〔発明の目的〕

本発明は上記実情に基づいてなされたもので、その目的
とするところは、テストパターンを所望位置でかつ所望
形状として表示して受像管の評価および調整を高精度に
できるパターン発生装置を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は、テストパターンの受像管面において発生する
所望位置および所望形状のパターン情報を電子ビーム走
査位置と対応する水平位置および垂直位置で記憶回路に
設定し、一方、電子ビームの走査位置を電子ビーム位置
検出手段により水平位置および垂直位置で検出してこれ
ら水平位’ｆｌＲよび垂直位置と前記パターン情報にお
ける水平位Ｍおよび垂直位置の情報とを比較して電子ビ
ームがパターン情報により設定されたテストパターン発
生位置を通過しているときにパターン信号を出力して上
記目的を達成しようとするパターン発生装置である。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。

第１図はパターン発生装置の構成図である。同図におい
て１は基本発振回路であって、所定周期のクロック信号
ｃｋを出力するものである。同期信号発生回路２は、り
０ツク信号ｃｋを受けて分周しテレビ映像信号を作成す
るに必要な水平同期信号）−１０および垂直同期信号Ｖ
Ｄを発生するものである。

さて、３は電子ビーム位置検出手段であって、これは電
子ビームの走査位置を水平位置および垂直位置でそれぞ
れ検出する機能を持ったもので、具体的にはクロック信
号Ｏｋを計数して電子ビームの水平方向の走査位置を検
出し、その水平位置検出信号ＨＰを送出するビーム水平
位置検出回路４と、水平同期信号ＶＤを計数して電子ビ
ームの垂直方向走査位置を検出してその垂直位置検出信
号ＶＰを送出するビーム垂直位置検出回路５とから構成
されている。なお、これらビーム水平位置検出回路４Ｊ
３よびビーム垂直位置検出回路５は、水平、垂直の各走
査における帰線開始時に水平位置検出信号ＨＰ、垂直位
置検出信号■Ｐの各リセットパルスで初期化されるよう
になっている。

一方、６はテストパターン設定手段であって、これはテ
ストパターンの発生する受像管面における所望位置およ
びその形状のパターン情報を設定する機能をもったもの
であり、パターン情報設定回路７およびパターン情報記
憶回路８から構成されている。ところで、パターン情報
は次のように設定される。例えば、第２図に示す如く円
形のドツトＲを表示させる場合を例にとって説明すると
、同図においてＳｌ、Ｓｌ、・・・Ｓ７を電子ビームの
各走査線とすれば−、パターン情報は、これら走査線Ｓ
１、・・・Ｓ７におけるパターン発生位置、例えば水平
走査線Ｓ５であれば水平パターン発生開始位置ｆ１およ
び水平パターン発生終了位＠ｆ２、また垂直方向から見
て垂直パターン発生開始位置旧および垂直パターン発生
終了位置ｈ２どなる。

９はパターン発生手段であって、これは水平位置検出信
＠ＨＰおよび垂直位置検出信号ｖＰを受けて電子ビーム
の水平位＠および垂直位置とパタ−ン情報記憶回路８に
設定されたパターン情報における水平パターン発生開始
位蕎およびその終了音ン情報でのパターン発生位置を通
過しているときにパターン信号ＰＯを送出する機能をも
ったものである。具体的には、第１および第２水平パタ
ーン発生位置判定回路１０．１１、第１および第２垂直
パータン発生位置判定回路１２．１３を有している。第
１および第２水平パターン発生位置判定回路１０．１１
は、電子ビームが各走査線のパターン発生位置、つまり
第２図において走査線Ｓ５において水平パターン発生開
始位置「１から水平パターン発生終了位１＆ｆ２の間を
通過しているかを判定して通過しているとき・にそのパ
ターン信号をパターン出力回路１４に送出するものであ
る。また、第１および第２垂直パターン発生位置判定回
路１２．１３は、電子ビームが、垂直方向での走査線の
パターン発生位置つまり第２図において垂直方向でのパ
ターン発生開始位置つまり走査線ｓ２に相当する位置ｈ
１から垂直パターン発生終了位置つまり走査線Ｓ６に相
当する位置ｈ２の間を通過しているかを判定して通過し
ているときにそのパターン信号をパターン出力回路１４
に送出するものである。なお、第２水平パターン位置検
出回路１１の出力側には遅延回路１５が接続されている
が、この遅延回路１５により約１００ｎＳまでの遅延が
可能となって第１水平パターン位置判定回路１０でのパ
ターンよりもずらして表示できるものとなる。

パターン出力回路１４は、各パターン発生位置判定回路
１０．１１．１２．１３からのパターン信号を合成して
同期混合回路１６に送出するものである。この同期混合
回路１６は、水平同期信号ＨＤ、垂直同期信号ＶＤと合
成パターン信号とを混合してテレビ映像信号■０を作成
し出力する機能をもったものである。制御回路１７は水
平同期信号ＨＤおよび垂直同期信号ＶＤを受けて各回路
の動作を制御する機能をもったものである。

次に上記の如く構成された装置の動作について説明する
。ここで、テストパターンとして第３図（ａ）（ｂ）に
示すようなドツトＤ１、Ｄ２を表示させる場合について
説明する。なお、第３図（ｂ）は同図（ａ）に示す八一
部分の電子ビームの走査状態を示している。先ず、パタ
ーン情報設定回路７により第３図（ｂ）に示すテストパ
ターンのパターン情報がパターン情報記憶回路８に記憶
される。このパターン情報は、ドツトＤ１、Ｄ２別に記
憶され、ドツトＤ１では５１１本ある走査ｔｓｅｌ〜ｅ
ｎのうち走査線ｅ１〜ｅｋにおける各水平パータン発生
開始位置および水平パターン発生終了位置、例えば走査
１！１ｌｅｉ６では水平パターン発生開始位置ｆｌＯお
よび水平パターン発生終了位置ｒ１１と、垂直方向での
垂直−パターン発生開始位置ｅｔｌおよび垂直パターン
発生終了位置ｅｉｌｌが所定番地に記憶される。一方、
ドツトＤ２においてもドツトＤ１と同様に各走査線にお
ける水平パターン発生開始位置および水平パターン発生
終了位置と、垂直方向での垂直パターン発生開始位置お
よび垂直パターン発生終了位置が所定番地に記憶される
。

なお、次表は以上のようにして記憶されたバター次にパ
ターン情報をパターン情報記憶回路８に記憶すると、次
のようにして受像管（不図示）にテストパターンが映し
出される。すなわち、基本発振回路１からクロック信＠
Ｃｋが出力されると、同期信号発生回路２はこのクロッ
ク信号ｃｋを受けて水平同期信号ＨＤおよび垂直同期信
号ＶＤを作成して送出する。さて、ビーム水平位置検出
回路４はクロック信号ｃｋを計数することによって電子
ビームの水平方向から見た位置を検出する。一方、ビー
ム垂直位置検出回路５は水平同期信号ＨＤを計数するこ
とによって電子ビームの垂直方向から見た位置を検出す
る。そうしてビーム水平位置検出回路４から出力される
電子ビームの水平位置検出信号ＨＰは第１および第２水
平パターン発生位置判定回路１０，１１に送出され、ま
たビーム垂直位置検出回路５から出力される電子ビーム
の垂直位置検出信号■Ｐは第１および第２垂直パターン
発生位置判定回路１２．１３に送出される。ところで、
これら第１および第２水平パターン発生位置判定回路１
０．１１は、パターン情報記憶回路からパターン情報が
読み出されて各水平走査線ｅＯ〜ｅｎにおける水平パタ
ーン発生開始位置および水平パターン発生終了位置が設
定されて、これら位置と現在の電子ビームの位置とが比
較されている。なお、ドツトＤ１のパターン情報は第１
水平パターン発生位置判定回路１０に送られ、またドツ
トＤ２のパターン情報は第１水平パターン発生位置判定
回路１１に送られる。従って、ドツトＤ１でのパターン
表示作用を第４図を参照して説明すると、水平走査線ｅ
（ではパターン発生が無いために第１水平パターン発生
位置判定回路１０からはパターン信号は出力されない。

次に走査が進んで走査線ｅｉ６ではｆ１２においてパタ
ーン信号が出力され、さらに走査が進んで走査線ｅｉ６
では水平パターン発生開始位置ｆｌＯから水平パターン
発生終了位置ｆ１１までの間を通過するので、この間を
判定して第１水平パターン発生位置判定回路１０はパタ
ーン信号Ｐ１を送出する。

これと同時に、第１および第２垂直パターン発生位置判
定回路１２．１３はパターン情報記憶回路８のパターン
情報から垂直パターン発生開始位置および垂直パターン
発生終了位置とを読み出して現在の電子ビーム位置とを
比較する。これにより第１垂直パターン発生位置判定回
路１２は、ドツト０１において垂直パターン発生開始位
１ｆｅｉｌから垂直パターン発生終了位置ｅＮ１までの
間を通過していると判断すると、この間にパターン信号
Ｑ１を出力する。なお、第２水平パターン発生位置判定
回路１１および第２垂直パターン発生位置判定回路１３
でも同様の動作が行われて、そのパターン発生信号が送
出される。

かくして、各パターン発生位置判定回路１０゜１１．１
２．１３から出力されるパターン信号Ｐ１．Ｑ１はパタ
ーン出力回路１４に送られて合成され、その合成パター
ン信号が同期混合回路１６へ送出される。従って、この
同期混合回路１６からは第４図に示す実線部分を示すパ
ターン信号ＰＯが出力されて、ドツトＤ１、Ｄ２が受像
管に表示される。

また、第２水平パターン発生位置判定回路１２から出力
されるパターン信号は遅延回路１５を通過するので、例
えば１００ｎＳ遅延されてパターン出力回路１４に送出
される。これによりドツトＤ２は第３図（ｂ）に示す如
＜　ＩＱＯｎｓに相当する間隔Ｔだけ図面上右方向にず
れて表示される。

このように上記一実施例においては、テストパターンの
所望位置および所望形状のパターン情報をパターン情報
記憶回路８に設定し、一方、電子ビームの走査位置を電
子ビーム位置検出手段３により検出してその水平位置お
よび垂直位置とパターン情報における水平位置および垂
直位置の情報とを比較して電子ビームがパターン発生位
置を通過しているときにパターン信号を出力する構成と
したので、パターン情報を変更することによって所望位
置に所望形状のテストパターンを発生できる。つまり、
パータン信号の出力する範囲を、水平パターン発生開始
位置およびその終了位置と垂直パターン発生開始位置お
よびその終了位置とのパターン情報を変更して記憶させ
ることにより、例えば正方形、円形等の任意のテストパ
ターンを発生できる。これにより受像管の評価、調整等
を高精度で行うことができ、かつコンバーゼンスを高精
度に測定できる。また、例えば、けい光体ストライプと
黒色ストライプが交互に配置されて成るいわゆるブラッ
クストライプ形の受像管に対しては、けい光体の配列に
起因する電子ビーム照射中心位置検出時の誤差を相殺で
きるテストパターンを発生できる。

なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではなく
、その主旨を逸脱しない範囲で変形することができる。

例えば、各パターン発生位置判定位置１０．１１．１２
．１３はそれぞれ２組づつ設けたが、これに限らず複数
組設けても良い。

（発明の効果） 以上詳記したように本発明によれば、テストパターンを
所望位置でかつ所望形状として表示して受像管の評価お
よび調整を高精度にできるパターン発生装置を提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係わるパターン発止装置の一実施例を
示す構成図、第２図は本発明装置でのパターン情報を説
明するための図、第３図および第４図は本発明装置のパ
ターン発生作用を説明するための図、第５図は従来での
パターン発生の作用を説明するための図である。 １・・・基本発振回路、２・・・同期信号発生回路、３
・・・電子ビーム位置検出手段、６・・・テストパター
ン設定手段、９・・・パターン発生手段、１６・・・同
期混合回路。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第２図 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）受像管の評価、調整等を行うためのテストパター
   ンを発生するパターン発生装置において、電子ビームの
   走査位置を水平位置および垂直位置の両方向からそれぞ
   れ検出する電子ビーム位置検出手段と、前記テストパタ
   ーンの前記受像管面において発生する所望位置および所
   望形状のパターン情報を前記電子ビーム走査位置と対応
   する水平位置および垂直位置で記憶回路に設定するテス
   トパターン設定手段と、前記電子ビームの水平位置およ
   び垂直位置と前記パターン情報における水平位置および
   垂直位置の情報とを比較して前記電子ビームが前記パタ
   ーン情報により設定されたテストパターン発生位置を通
   過しているときにパターン信号を出力するパターン発生
   手段とを具備したことを特徴とするパターン発生装置。
2. （２）テストパターン設定手段は、電子ビームの各水平
   走査毎にパターン信号の開始位置および終了位置を設定
   し、かつ前記電子ビーム走査の垂直方向での前記パター
   ン信号の開始位置および終了位置を設定する特許請求の
   範囲第（１）項記載のパターン発生装置。