JPH06169476A - Method and apparatus for measurement of convergence of color picture tube - Google Patents

Method and apparatus for measurement of convergence of color picture tube

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JPH06169476A
JPH06169476A JP5145175A JP14517593A JPH06169476A JP H06169476 A JPH06169476 A JP H06169476A JP 5145175 A JP5145175 A JP 5145175A JP 14517593 A JP14517593 A JP 14517593A JP H06169476 A JPH06169476 A JP H06169476A
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pattern
image converter
electron
distribution pattern
screen
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JP5145175A
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Japanese (ja)
Inventor
Joachim Hassler
ヨアヒム・ハスラー
Zeljko Sernhorst
ツェリィオ・ゼルンホルスト
Guenter Wessels
ギュンター・ベッセルス
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Nokia Technology GmbH
Original Assignee
Nokia Technology GmbH
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Publication date
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N17/00Diagnosis, testing or measuring for television systems or their details
    • H04N17/04Diagnosis, testing or measuring for television systems or their details for receivers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/44Factory adjustment of completed discharge tubes or lamps to comply with desired tolerances

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Abstract

PURPOSE: To precisely determine the position of an electron beam in the horizontal direction by using a square electron distribution pattern standing on one apex. CONSTITUTION: A square electron pattern of each of three colors R, G, and B standing on one apex is generated by a pattern generator 10 and is inputted to a picture tube 11, and a luminance distribution pattern on a screen 14 is converted to an electric charge pattern through a picture converter 15 and is stored in a RAM 18. The variable position value of the electric charge pattern is analyzed from this data by an analysis logic unit 19 to measure the position of the electron beam. Thus, the edge part is extended at an angle to the lengthwise direction of a mask slot, and the quick change due to slight displacement of the electron beam can be eliminated, and the position of the electron beam in the horizontal direction is precisely measured and determined.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、画像コンバ−タの視野
に関する多重ビ−ムカラ−受像管の電子ビ−ムの位置測
定方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for measuring the position of an electron beam in a multi-beam color picture tube with respect to the visual field of an image converter.

【0002】[0002]

【従来の技術】実際的にこのような方法および装置はコ
ンバージェンス誤差と垂直ラスタ−オフセットを定める
ために使用されている。コンバージェンス測定では少な
くとも2つの電子ビ−ムにより生成されるラスタ−ライ
ンの位置が測定される。位置の間の偏差はコンバージェ
ンス誤差を示す。垂直ラスタ−オフセットによって水平
ラスタ−ラインがカラ−受像管の水平中心線から垂直に
偏差する程度が決定される。
In practice, such methods and apparatus are used to determine convergence error and vertical raster offset. Convergence measurements measure the position of raster lines produced by at least two electron beams. Deviation between positions indicates convergence error. The vertical raster offset determines the extent to which the horizontal raster line deviates vertically from the horizontal centerline of the color picture tube.

【0003】コンバージェンスおよび垂直ラスタ−位置
を測定するための装置が数年来市販されており(ドイ
ツ、ブレ−メンのイノベ−ションテクニック社)、この
装置は図7、8の図面を参照して後述されている。この
装置で行われる処理は図9、10を参照して説明され
る。
A device for measuring convergence and vertical raster position has been commercially available for several years (Innovation Technique GmbH, Bremen, Germany), and will be described below with reference to the drawings in FIGS. Has been done. The processing performed by this device will be described with reference to FIGS.

【0004】図7による既知の装置はカラ−受像管11の
ネックに整列されている電子ビ−ム生成システム12を駆
動するパタ−ン発生器10' と偏向装置13を備えている。
管のスクリ−ン14で生成された画像は画像コンバ−タカ
メラ15により記録され、分析装置16' により分析され
る。パタ−ン発生器10' と、画像コンバ−タカメラ15
と、分析装置16' で時間にわたって発生するシ−ケンス
はシ−ケンス制御装置17'により制御される。分析装置1
6' はRAM18、分析論理ユニット19' 、ディスプレイ2
0を有する。
The known device according to FIG. 7 comprises a pattern generator 10 'for driving an electron beam generating system 12 aligned with the neck of a color picture tube 11 and a deflecting device 13.
The image produced by the screen 14 of the tube is recorded by the image converter camera 15 and analyzed by the analyzer 16 '. Pattern generator 10 'and image converter camera 15
The sequence generated by the analyzer 16 'over time is controlled by the sequence controller 17'. Analyzer 1
6'is RAM 18, analysis logic unit 19 ', display 2
Has 0.

【0005】画像コンバ−タカメラ15にはCCDコンバ
−タ21が配置されており、その構造は図8で示されてい
る。シ−ケンス制御装置17の制御下でCCDコンバ−タ
21の画像に蓄積されている電荷は読取られ、デジタル8
ビット値は電荷量に割当てられる。1つのRAMセルが
各CCD画素に対応する。RAM18の疑似アドレスはR
AMセルの配置がCCD画素の配置と対応するようにな
っている。このことからRAMに蓄積されている情報パ
タ−ンが予めCCDに蓄積されている電荷パタ−ンとス
クリ−ン14上で生成される輝度分布パタ−ンに直接対応
することが明白である。RAMはそれぞれ256 キロバイ
トに等しい1018[sic;218]セル容量を有する。
A CCD converter 21 is arranged in the image converter camera 15, and the structure thereof is shown in FIG. A CCD converter under the control of the sequence control device 17.
The charges accumulated in the 21 images are read and digital 8
The bit value is assigned to the charge quantity. One RAM cell corresponds to each CCD pixel. The pseudo address of RAM18 is R
The arrangement of AM cells corresponds to the arrangement of CCD pixels. From this, it is clear that the information pattern stored in the RAM directly corresponds to the charge pattern previously stored in the CCD and the brightness distribution pattern generated on the screen 14. Each RAM has a capacity of 10 18 [sic; 2 18 ] cells equal to 256 kilobytes.

【0006】パタ−ン発生器10' により生成されるパタ
−ンはカラ−受像管の3つのカラ−のそれぞれ1つの水
平線および1つの垂直線からなる通常の格子パタ−ンで
ある。図9は垂直線の発光スクリ−ン14における見え方
を示している。
The pattern produced by the pattern generator 10 'is a conventional grid pattern consisting of one horizontal line and one vertical line for each of the three colors of the color picture tube. FIG. 9 shows the appearance of the vertical line emission screen 14.

【0007】発光スクリ−ン14は蛍光ストライプR、
G、Bとその間に位置しているマトリクスストライプか
らなり、図9では狭い間隔のクロスハッチングにより示
されている。電子スポットが発光スクリ−ンと蛍光スト
ライプに衝突する点が存在し、発光は蛍光ストライプの
発光カラ−で生じる。赤光を放射するドメインは右上り
の破線ハッチング、緑光を放射するドメインは連続線の
ハッチング、青光を放射するドメインは右下りのハッチ
ングにより識別される。各発光スポットは200 μmの幅
と700 μmの高さを有する。水平方向で同一のカラ−に
属する発光スポットは810 μmの間隔で分離され、垂直
にはこれらは互いに100 μmの間隔で分離されている。
これらの値は発光スクリ−ン中心に適用される。蛍光ス
トライプおよびマトリクスストライプは外部端程広くな
る。マトリクスストライプが存在しないと同様のサイズ
比が適用される。この場合蛍光ストライプは被覆されて
いないストライプにより互いに分離されており、電子ス
ポットは蛍光ストライプ内に衝突する。
The light emitting screen 14 is a fluorescent stripe R,
It is composed of G and B and matrix stripes located between them, and is shown by narrow cross hatching in FIG. There is a point where the electron spot collides with the emission screen and the fluorescent stripe, and light emission occurs in the emission color of the fluorescent stripe. Domains that emit red light are identified by a dashed line in the upper right, domains that emit green light are identified by continuous line hatching, and domains that emit blue light are identified by a downward right hatching. Each emission spot has a width of 200 μm and a height of 700 μm. Light emission spots belonging to the same color in the horizontal direction are separated by an interval of 810 μm, and vertically, they are separated by an interval of 100 μm.
These values apply to the center of the emission screen. The fluorescent stripes and the matrix stripe become wider toward the outer edge. Similar size ratios apply if matrix stripes are not present. In this case the fluorescent stripes are separated from each other by uncovered stripes and the electron spots impinge within the fluorescent stripes.

【0008】図9の下半分は蛍光スポットの関数として
の垂直ラスタ−ラインにより生成される画像を示してい
る。ビ−ムはスクリ−ン14を走査し、各場合に特定の位
置またはより正確には水平同期パルス後の特定時間で正
確にパルスされ、再度ブロックされる。この強度は従っ
て増加し、その後減少する。最大輝度の約10%で開始す
る強度プロフィルは図9の下半分に示されている。図9
のいずれの場合でも詳細に考慮すると2つの赤色垂直ス
トライプ、2つの緑色垂直ストライプ、2つの青色垂直
ストライプが生成され、それぞれ異なった強度を有する
ことが明白である。スクリ−ンが例えば1mの距離から
観察されると、各カラ−ストライプは認知不可能であり
代りに単一の白色バ−が生じる。しかしこのことは3つ
のビ−ムの強度プロフィルが図9で示されているように
互いに同一であるならば正しい。一方赤色蛍光ストライ
プを励起する電子ビ−ム(以後赤色電子ビ−ムと言う)
は緑色蛍光ストライプを励起する電子ビ−ム(以後緑色
電子ビ−ムと言う)に関して左にオフセットされ、青色
蛍光ストライプを励起する電子ビ−ム(以後青色電子ビ
−ムと言う)が緑色電子ビ−ムに関して右にオフセット
されると互いに間隔を隔てている3つのカラ−ラスタ−
ストライプが現れ、近くで観察するとそれぞれ810 μm
の距離で互いに分離されている2つのストライプを含
む。図9の場合3つの電子ビ−ムは水平にコンバージェ
ンスし、前述の場合ではこれらはコンバージェンスしな
い。
The lower half of FIG. 9 shows the image produced by a vertical raster line as a function of the fluorescent spot. The beam scans the screen 14 and in each case is exactly pulsed at a specific position or, more precisely, at a specific time after the horizontal sync pulse and is blocked again. This intensity therefore increases and then decreases. The intensity profile starting at about 10% of maximum brightness is shown in the lower half of FIG. Figure 9
In each case, it is clear that two red vertical stripes, two green vertical stripes, and two blue vertical stripes are generated, which have different intensities when considered in detail. When the screen is observed from a distance of eg 1 m, each color stripe is imperceptible and instead a single white bar is produced. However, this is true if the intensity profiles of the three beams are identical to each other, as shown in FIG. On the other hand, an electron beam that excites the red fluorescent stripe (hereinafter referred to as a red electron beam)
Is offset to the left with respect to the electron beam that excites the green fluorescent stripe (hereinafter referred to as green electron beam), and the electron beam that excites the blue fluorescent stripe (hereinafter referred to as blue electron beam) is the green electron. Three color rasters spaced apart from each other when offset to the right with respect to the beam
Stripes appear, and when observed in the vicinity, each is 810 μm.
Two stripes separated from each other by a distance of. In the case of FIG. 9, the three electron beams converge horizontally, but in the above case they do not converge.

【0009】図7による装置は特定の電子ビ−ムにより
生成される発光スポットドメインの輝度中心点を決定す
ることにより電子ビ−ムの位置を決定する。以下の段階
を有する処理が行われている。
The device according to FIG. 7 determines the position of the electron beam by determining the brightness center point of the emission spot domain produced by the particular electron beam. A process having the following steps is performed.

【0010】シャドウマスク上に予め限定された電子分
布パタ−ンを生成し、前述の画像コンバ−タを使用して
スクリ−ン上の関連する輝度分布パタ−ンを記録し、画
像コンバ−タは輝度分布パタ−ンを電気電荷パタ−ンに
変換し、画像コンバ−タの視野内の電荷パタ−ンの位置
を種々に特徴づける値を得るために電荷パタ−ンを分析
する。
A pre-defined electron distribution pattern is generated on the shadow mask and the relevant brightness distribution pattern on the screen is recorded using the image converter described above to obtain the image converter. Converts the intensity distribution pattern into an electrical charge pattern and analyzes the charge pattern to obtain values characterizing various positions of the charge pattern within the field of view of the image converter.

【0011】この処理は図10のa、b、cにより図示さ
れている。図10のaはビ−ムが最大強度の少なくとも10
%の強度を有する範囲内の電子ビ−ムのラスタ−幅が同
一のカラ−の2つの近接する蛍光ストライプの間の距離
の2倍より少し小さい場合に関する。この文脈では示さ
れている垂直ラスタ−ストライプは緑色の蛍光ストライ
プがその幅のほぼ中心に位置するように位置され、一方
第2のストライプは丁度端部に位置される。これらのス
トライプは符号G4、G5で示される。関連する発光ス
ポットは太い垂直バ−として示されている。その時点で
発光を励起されない潜在的な発光スポットは薄い垂直バ
−により示されている。
This process is illustrated by a, b and c in FIG. In FIG. 10a, the beam has a maximum strength of at least 10
%, If the raster width of the electron beam in the range with a% intensity is slightly less than twice the distance between two adjacent fluorescent stripes of the same color. The vertical raster stripe shown in this context is positioned such that the green fluorescent stripe is located approximately in the center of its width, while the second stripe is located just at the edge. These stripes are labeled G4, G5. The relevant emission spots are shown as thick vertical bars. Potential emission spots that are not excited to emit at that time are indicated by thin vertical bars.

【0012】図10のbは水平線に沿ってCCD画像コン
バ−タ21により測定され、垂直方向に予め限定された数
の画素にわたって全ての信号を合計するときの輝度分布
を示している。比較的高い輝度は蛍光ストライプG5の
領域で生じ、蛍光ストライプG4の領域の輝度は低い。
輝度分布の中心点は符号S1Vで示される。
FIG. 10b shows the luminance distribution as measured by the CCD image converter 21 along the horizontal line and summing all signals over a pre-defined number of pixels in the vertical direction. A relatively high brightness occurs in the area of the fluorescent stripe G5, and the brightness of the area of the fluorescent stripe G4 is low.
The center point of the luminance distribution is indicated by reference sign S1V.

【0013】図10のdは図10のaと非常に類似している
が、前述の電子ビ−ムが特に垂直中心線が図10のaの位
置MV1よりも位置MV2を占有するようにやや右に変
位されている点で異なっている。従って蛍光ストライプ
G4は前記強度領域に位置されず、代りに蛍光ストライ
プG6が認知可能な発光を生成するように励起される。
CCD画像コンバ−タ21により測定される関連する輝度
の分布は図10のcにより示されている。輝度プロフィル
の結果的な中心点は位置SV2である。
FIG. 10d is very similar to FIG. 10a, but slightly so that the electron beam described above occupies position MV2, especially the vertical centerline, rather than position MV1 of FIG. 10a. The difference is that it is displaced to the right. Therefore, the fluorescent stripe G4 is not located in the intensity region and instead the fluorescent stripe G6 is excited to produce a perceptible emission.
The associated intensity distribution measured by the CCD image converter 21 is shown by c in FIG. The resulting center point of the brightness profile is position SV2.

【0014】中心点SV1、SV2との間の変位は中心
線MV1から中心線MV2への電子ビ−ムの中心の実際
の変位よりかなり大きい。小さい変位にかかわらず測定
した位置は突然、比較的激しく変化する。理由は電子ビ
−ムにより書込まれたラスタ−線の大部分が全く検出さ
れず、代りに蛍光ストライプの実際に衝突する小さい領
域が可視発光を生成するからである。図10のaによる場
合では中心蛍光ストライプの左への蛍光ストライプにも
衝突するが、右への僅かな変位があると左のストライプ
には衝突しなくなり、一方中心蛍光ストライプの右のス
トライプが突然衝突されると、このことは中心ストライ
プの発光領域に加えて存在するこれらの発光領域の1.6
mmの変位を意味する。
The displacement between the center points SV1 and SV2 is considerably larger than the actual displacement of the center of the electron beam from the center line MV1 to the center line MV2. Despite the small displacement, the measured position suddenly changes relatively strongly. The reason is that most of the raster lines written by the electron beam are not detected at all, and instead the small, actually colliding areas of the fluorescent stripe produce visible emission. In the case of FIG. 10a, the central fluorescent stripe also collides with the fluorescent stripe to the left, but if there is a slight displacement to the right, it does not collide with the left stripe, while the right stripe of the central fluorescent stripe suddenly changes. When bombarded, this means that 1.6 of those emitting areas present in addition to those of the central stripe are present.
mm displacement.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】僅かな変位から生じる
垂直ラスタ−ストライプの明白なジャンプは図10のa、
dを参照して示されているように同一のラスタ−ストラ
イプがCCDコンバ−タ21で記録されないで肉眼で観察
されるとき非常に明白である。それは特にラスタ−スト
ライプが狭いときに顕著である。しかし輝度中心点の分
布に関しても同様にラスタ−ストライプが広いとき片面
の発光ストライプの消滅と他方の新しい発光ストライプ
の発生は多くの発光ストライプからの光の輝度を平均す
るときほとんど影響がないことは顕著ではない。しかし
この場合、変位は低感度でのみ検出されることができ
る。その結果数ミリメ−トルの幅のラスタ−ストライプ
が肉眼を使用しての調節と図7による装置を有するCC
D画像コンバ−タを使用しての調節との両者を用いる。
これらのストライプは感度と前述の“ジャンプ”効果に
よる干渉との間での適切な妥協を表す。
The apparent jump of the vertical raster-stripe resulting from a slight displacement is shown in FIG.
The same raster stripes, as shown with reference to d, are very apparent when viewed with the naked eye without being recorded by the CCD converter 21. It is especially noticeable when the raster stripe is narrow. However, regarding the distribution of the brightness center points as well, when the raster stripe is wide, the disappearance of one light emitting stripe and the occurrence of a new light emitting stripe on the other side have almost no effect when averaging the light intensities from many light emitting stripes. Not noticeable. However, in this case the displacement can only be detected with low sensitivity. As a result, a CC having a few millimeters wide raster stripe with alignment with the naked eye and the device according to FIG.
Both with the adjustment using the D image converter.
These stripes represent a good compromise between sensitivity and interference due to the "jump" effect mentioned above.

【0016】垂直方向では発光スポットは垂直方向で70
0 μmの高さであるが、互いに100μmしか分離されて
いないので電子ビ−ムが変位されているとき不適切な場
合に生じる誤差は臨界的ではない。発光および非発光ド
メインとの間の比率はそれ故7:1であり、一方水平方
向では2:8で、水平方向の測定の欠点に対する係数28
(測定および実際のビ−ム変位間の相関関係に関して)
の差を意味する。水平方向のこれらの好ましくない状況
のために既知の装置は十分な正確度で水平コンバージェ
ンスを測定することができない。
In the vertical direction, the light emission spot is 70 in the vertical direction.
Although as high as 0 μm, they are separated from each other by only 100 μm, so the error that occurs in an improper case when the electron beam is displaced is not critical. The ratio between the emissive and non-emissive domains is therefore 7: 1, whereas in the horizontal direction it is 2: 8, a factor of 28 for the drawback of horizontal measurement.
(Regarding the correlation between measured and actual beam displacement)
Means the difference between. Due to these unfavorable situations in the horizontal direction, the known device cannot measure the horizontal convergence with sufficient accuracy.

【0017】従って存在する問題は高い正確度で水平方
向の電子ビ−ムの位置を付加的に決定することのできる
多重ビ−ムカラ−受像管の電子ビ−ムの位置を測定する
ための装置および方法を提供することである。
Therefore, an existing problem is a device for measuring the position of an electron beam in a multi-beam color picture tube, which can additionally determine the position of the horizontal electron beam with high accuracy. And to provide a method.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明による方法は、既
知の方法の前述の段階を有し、生成される電子分布パタ
−ンが数ミリメ−トル程度の寸法を有するものであり、
少なくとも1つの縁部がマスクスロットの長手方向に対
して斜めに延在し、関連する輝度分布パタ−ンは完全に
視野に適合するように画像コンバ−タ上にイメ−ジされ
ることを特徴とする。
The method according to the invention comprises the above-mentioned steps of a known method, in which the electron distribution pattern produced has dimensions of the order of a few millimeters,
At least one edge extends obliquely with respect to the longitudinal direction of the mask slot and the associated intensity distribution pattern is imaged onto the image converter so as to perfectly match the field of view. And

【0019】本発明による装置は、図7を参照して説明
された装置の機能的グル−プを具備し、数ミリメ−トル
程度の寸法を有する電子分布パタ−ンを生成するように
パタ−ン発生器が設計され、少なくとも1つの縁部がマ
スクスロットの長手方向に対して斜めに延在し、視野に
完全に適合する方法で画像コンバ−タの輝度分布パタ−
ンをイメ−ジするように画像コンバ−タカメラが設計さ
れることを特徴とする。
The device according to the invention comprises the functional groups of the device described with reference to FIG. 7 and is patterned to produce an electron distribution pattern having dimensions on the order of a few millimeters. Is designed so that at least one edge extends obliquely to the longitudinal direction of the mask slot and the brightness distribution pattern of the image converter is matched in a manner that perfectly fits the field of view.
The image converter camera is designed to image the image.

【0020】本発明による方法は、パタ−ンの形態によ
り測定における発光効果の影響が中心から輝度パタ−ン
の端部へ減少する場合に、CCD画像コンバ−タにより
検出される輝度分布の中心点の突然の変化が除去される
ことに基づく。これは少なくとも1つの縁部がマスクス
ロットの長手方向に対して斜めに伸びるパタ−ンにより
確実に実現される。パタ−ンは頂点で立つ方形のパタ−
ン又は全ての縁部がマスクスロットに対して斜めに延在
する他のパタ−ンであることが好ましい。このようなパ
タ−ンがスクリ−ンにわたって水平に移動されるとき、
および新しい蛍光ストライプがパタ−ンに入るか、また
は前に存在していたものがパタ−ンから移動するときこ
れらの外部領域のパタ−ンの高さが非常に小さいので影
響はない。さらに、パタ−ン縁部の斜めの方向により縁
部ストライプの影響はパタ−ンから最終的に出るまでパ
タ−ン変位の増加と共に弱くなる。しかし通常のパタ−
ンではストライプはパタ−ン内にその全長にわたって存
在するかまたは全くパタ−ンに含まれないかのいずれか
である。
The method according to the present invention uses the center of the luminance distribution detected by the CCD image converter when the influence of the luminescence effect in the measurement decreases from the center to the edge of the luminance pattern due to the pattern morphology. Based on the elimination of sudden changes in points. This is ensured by a pattern in which at least one edge extends obliquely to the longitudinal direction of the mask slot. The pattern is a rectangular pattern that stands at the top.
Preferably, the edges or all edges are other patterns extending obliquely to the mask slot. When such a pattern is moved horizontally across the screen,
And as new fluorescent stripes enter the pattern, or as previously existing ones move out of the pattern, the height of the pattern in these outer regions is so small that there is no effect. In addition, due to the diagonal orientation of the pattern edges, the effect of the edge stripes weakens with increasing pattern displacement until it finally exits the pattern. However, normal patterns
In stripes, the stripes either exist within the pattern along their entire length or are not contained in the pattern at all.

【0021】本発明による方法および装置の非常に特殊
な1つの利点はカラ−受像管内の全ての電子ビ−ムのコ
ンバージェンス関係が水平および垂直の両者とも単一の
測定で検出されるようにこれらが設計できることであ
る。
One very special advantage of the method and the device according to the invention is that they ensure that the convergence relation of all electron beams in the color picture tube is detected both horizontally and vertically in a single measurement. Can be designed.

【0022】[0022]

【実施例】図1による本発明の装置は図7のように基本
的に組立てられるが、パタ−ン発生器、シ−ケンス制御
装置、分析論理ユニット、従って分析装置が異なった機
能を有する点で異なっており、この理由でこれらの機能
グル−プはそれぞれ10´、17´、19´、16´ではなく参
照番号10、17、19、16を有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT The device according to the invention according to FIG. 1 is basically constructed as in FIG. 7, but the pattern generator, the sequence control device, the analysis logic unit and thus the analysis device have different functions. For this reason, these functional groups have the reference numbers 10, 17, 19, 16 instead of 10 ', 17', 19 ', 16', respectively.

【0023】図2のaから明白なようにカラ−受像管11
は頂点に立つ方形のパタ−ンを生成するようにパタ−ン
発生器10により駆動される。このパタ−ンは数ミリメ−
トル例えば4ミリメ−トルの端部の長さを有し、これは
通常使用されるラスタ−ストライプの数ミリメ−トルの
ストライプの幅の選択を左右するものに対応する理由の
場合である。この大きさでは図8によりパタ−ンはCC
D画像コンバ−タの視野Aによく適合する。水平方向の
関連する輝度の分布は図2bで示されている。右への僅
かな変位が生じると発光ストライプG6で生成される発
光スポットはやや長くなり一方、ストライプG4で生成
されたスポットはやや短くなる。図2dで示されている
ように右への変位が継続するとストライプG4の発光ス
ポットは最終的に消滅するまで短くされる。従ってこの
ことは漸進的な消滅を表すが図10を参照して説明され
ているように既知のパタ−ンが使用される場合の突然の
消滅は表さない。右側の新しい発光スポットが十分な長
さにわたって突然現われず代りに新しい蛍光ストライプ
に到達したとき最初に短い発光スポットが生じこれらは
右への変位が連続する程長くなる。それ故発光スポット
はCCD画像コンバ−タの視野の全長にわたって突然現
われることはできない。輝度のこれらの漸進的な変化は
それぞれ図2のa,dによるパタ−ン位置に対応する図
2のb,cの輝度プロフィルからも明白である。
As is apparent from FIG. 2a, the color picture tube 11
Is driven by a pattern generator 10 to produce a rectangular pattern that stands on top. This pattern is a few millimeters
It has an edge length of, for example, 4 millimeters, which is the reason for corresponding to the choice of stripe width of several millimeters of commonly used raster stripes. In this size, the pattern is CC according to FIG.
It fits well in the field of view A of the D image converter. The associated luminance distribution in the horizontal direction is shown in FIG. 2b. When a slight displacement to the right occurs, the light emission spot generated in the light emission stripe G6 becomes slightly longer, while the spot generated in the stripe G4 becomes slightly shorter. As shown in FIG. 2d, when the displacement to the right continues, the emission spot of the stripe G4 is shortened until it finally disappears. This therefore represents a gradual disappearance but not abrupt disappearance when the known pattern is used as explained with reference to FIG. When the new emission spots on the right do not suddenly appear for a sufficient length and instead reach the new fluorescent stripes, first short emission spots occur, which are longer for successive displacements to the right. Therefore, the emission spot cannot suddenly appear over the entire length of the field of view of the CCD image converter. These gradual changes in brightness are also evident from the brightness profiles of FIGS. 2b and 2c, which correspond to the pattern positions according to FIGS.

【0024】図3a〜dは頂点で立つ方形パタ−ンが下
方向に変位されるときの状況を同様に示している。前述
したように発光スポットはこれらが最終的にカットオフ
になるまで次第に小さくなる。従ってy方向の変位にお
いても同様に、輝度分布の変化は主要なジャンプなしで
生じる。
3a-d likewise show the situation when the rectangular pattern standing at the apex is displaced downwards. As described above, the emission spots become smaller and smaller until they finally reach the cutoff. Therefore, also in the y-direction displacement, the change in the luminance distribution also occurs without a major jump.

【0025】図4は輝度分布の中心点がパタ−ンの変位
を測定するために使用される必要がないことを示してい
る。図4によると、互いに垂直で方形パタ−ンの縁部に
平行に延在する2つの測定線ML1、ML2は代りにC
CD画像コンバ−タ21により検出される画像に重ねられ
ている。輝度分析が下部から上部の測定線ML1に沿っ
て移動され、測定線ML1に垂直に延在する線で生じる
全ての輝度値が合計されると、蛍光ストライプG4の発
光スポットの下端部は点UL1で観察される。前記信号
獲得プロセスに先行して輝度値は最終的に点OR1に到
達するまで検出され続け、線ML1に垂直に見ると発光
スポットに属する画素は最終的に知覚される。点UL1
およびOR1はパタ−ンの左下部と右上部縁をそれぞれ
特徴づける。対応して、測定線ML2に沿って処理する
と2つの点UR1およびOL1が検出され、パタ−ンの
右下部と左上部端をそれぞれ識別する。パタ−ンが図4
のbで示されているように変位されると測定点UL2、
OR2はUR2およびOL2と同様に検出される。従っ
て測定線に沿った変位は限定され、x方向に対して45°
であるためにこれらの変位はxおよびy変位に簡単に変
換される。測定線の方向の処理と測定線に垂直な各線の
全ての画素値を合計することを含む前記分析は前記方向
の疑似アドレスを計算し、各疑似アドレスの下でRAM
セルを読取ることによりRAM18を使用して容易に行わ
れることができる。
FIG. 4 shows that the center point of the intensity distribution need not be used to measure the displacement of the pattern. According to FIG. 4, two measuring lines ML1 and ML2 which are perpendicular to each other and extend parallel to the edges of the rectangular pattern are instead C
It is superposed on the image detected by the CD image converter 21. When the luminance analysis is moved along the measuring line ML1 from the bottom to the sum of all the luminance values occurring in the line extending perpendicularly to the measuring line ML1, the lower end of the emission spot of the fluorescent stripe G4 is the point UL1. Observed in. Prior to the signal acquisition process, the brightness values continue to be detected until the point OR1 is finally reached, and when viewed perpendicular to the line ML1, the pixels belonging to the emission spot are finally perceived. Point UL1
And OR1 characterize the lower left and upper right edges of the pattern, respectively. Correspondingly, when processed along the measurement line ML2, two points UR1 and OL1 are detected, identifying the lower right and upper left ends of the pattern, respectively. The pattern is shown in Figure 4.
Measurement point UL2 when displaced as indicated by b in FIG.
OR2 is detected similarly to UR2 and OL2. Therefore, the displacement along the measurement line is limited and 45 ° to the x direction.
Since these displacements are simply converted to x and y displacements. The analysis, which involves processing the direction of the measurement line and summing all pixel values of each line perpendicular to the measurement line, calculates the pseudo address of the direction and RAM under each pseudo address.
It can be easily done using RAM 18 by reading the cells.

【0026】図4に示されている分析変化に関して、発
光スポットは次第にパタ−ンに入り次第にそこから出る
のでパタ−ンが変位されるとき測定点UL、UR、O
R、OLの急速で突然の変化は存在しないことも注目す
べきことである。
With respect to the analytical variation shown in FIG. 4, the emission spots gradually enter and exit the pattern, so that the measuring points UL, UR, O when the pattern is displaced.
It is also noteworthy that there are no rapid and sudden changes in R and OL.

【0027】図2〜4はパタ−ンが連続的に変位される
ときに測定される特定の位置もある時に突然ではなく連
続的に変化することを示すのに用いられた。これは頂点
で立つ方形ではなく、マスクスロットに対して斜めに延
在する縁部を有する他のパタ−ンが使用されるときにも
同様であり、マスクスロットは発光スポットが次第にパ
タ−ンに入り次第にそこから出ることを保証する。実際
の応用で本質的なことは実際と観察された変位の間のこ
の連続的関係が非常に正確に位置測定を保証することで
ある。
2-4 were used to show that the particular position measured when the pattern is continuously displaced also varies continuously rather than suddenly at some times. This is also the case when other patterns are used that have edges that extend obliquely to the mask slot rather than a square that stands at the apex, and the mask slot gradually changes the emission spot pattern. Guaranteed to leave as soon as you enter. What is essential in practical applications is that this continuous relationship between actual and observed displacement guarantees a very accurate position measurement.

【0028】実際の応用ではx方向で関心があることは
それぞれの電子ビ−ムの位置測定ではなく、互いに関す
る複数の電子ビ−ムの位置決定である。これは図5に示
されている。カラ−受像管の3つの電子ビ−ムのそれぞ
れは頂点で立つ方形パタ−ンを生成する。緑色ビ−ムに
より描かれるパタ−ンは実線により囲まれ、関連する発
光スポットは実線バ−により特徴づけられ、赤色ビ−ム
により生成されるパタ−ンは破線により囲まれており、
関連する発光スポットは破線で示され、青色ビ−ムによ
り生成されるパタ−ンは点線で囲まれ、関連する発光ス
ポットは点のついたストライプで示されている。3つの
電子ビ−ムがコンバージェンスであるならば3つのパタ
−ンは基本的に対応する。しかしこの場合にはそうでは
ない。さらにそれぞれの場合緑色緑色ビ−ムに関して赤
色および青色ビ−ムのオフセットを測定することも重要
である。この目的で3つのパタ−ンの3つの位置は独立
してそれぞれ分析されるべきである。図5によるパタ−
ンの記憶前に決定によりCCDセンサの使用でさえもこ
のことが実行され、CCD画素はその色に属する。この
目的で3つの電子ビ−ムが準備段階において連続して動
作され各画素に対応する色が記憶されるか、或るいは全
ての電子ビ−ムが同時に動作され、図9による蛍光トリ
プレットのH型パタ−ンのいう結果となり、図9の構造
は画素を種々の色に割当てることを可能にする。両者の
方法は図7による商業的に入手可能なユニットから知ら
れている。
In practical applications, it is not the location of each electron beam that is of interest in the x direction, but the location of multiple electron beams with respect to each other. This is shown in FIG. Each of the three electron beams of the color picture tube produces a rectangular pattern that stands at the apex. The pattern depicted by the green beam is surrounded by the solid line, the associated emission spot is characterized by the solid line bar, and the pattern produced by the red beam is surrounded by the dashed line.
The relevant emission spots are indicated by dashed lines, the pattern produced by the blue beam is surrounded by dotted lines, and the relevant emission spots are indicated by dotted stripes. If the three electron beams are convergence, the three patterns basically correspond. But this is not the case. Furthermore, it is also important to measure the offset of the red and blue beams with respect to the green-green beam in each case. For this purpose, the three positions of the three patterns should each be analyzed independently. The pattern according to FIG.
This is done even by the use of a CCD sensor by decision before storing the image, and the CCD pixel belongs to that color. For this purpose, three electron beams are operated in succession in the preparatory stage so that the color corresponding to each pixel is stored, or all the electron beams are operated simultaneously and the fluorescent triplet according to FIG. As a result of the H-shaped pattern, the structure of FIG. 9 makes it possible to assign pixels to different colors. Both methods are known from the commercially available unit according to FIG.

【0029】垂直ラスタ−偏差の測定において、画像コ
ンバ−タの視野の水平中心線HAからのy方向の偏差は
例えば緑色ビ−ム等の少なくとも1つのビ−ムで検出さ
れなけばならない。他のビ−ムの垂直変位に関しては緑
色ビ−ムまたは水平線HAを基準にする。垂直方向のこ
の分析は例えば図3で示されている方法で行われる。
In measuring the vertical raster deviation, the deviation of the field of view of the image converter from the horizontal center line HA in the y direction must be detected in at least one beam, for example a green beam. The vertical displacement of the other beams is based on the green beam or the horizontal line HA. This analysis in the vertical direction is performed, for example, in the manner shown in FIG.

【0030】従って本発明による装置で単一の記憶画像
で全てのコンバージェンスおよびx、y方向のラスタ−
位置デ−タと全ての電子ビ−ムを正確に決定することが
可能である。前記パタ−ンの選択に加えて予め必要なこ
とはCCD画像コンバ−タの視野Aが図5で示されてい
るような互いに関してオフセットされるパタ−ンの場合
に全てのパタ−ンは最大製造許容度で視野内に位置する
ように設定されなければならないことである。図8によ
るCCD画像コンバ−タ21が使用され、約4mmの長さ
の辺部を有する方形パタ−ンが使用されると、これは
1:1の画像で可能である。小さい寸法のCCD画像コ
ンバ−タが使用されるとき、または例外的に大型のコン
バージェンスおよびラスタ−オフセットを有する管が試
験される必要があるならばカメラにより記憶されるパタ
−ンの画像はCCD画像コンバ−タでやや縮小されなけ
ればならない。
The device according to the invention thus provides a single storage image for all convergences and rasters in the x and y directions.
It is possible to accurately determine the position data and all electron beams. In addition to the above selection of patterns, it is necessary in advance that all patterns are maximal in the case where the fields of view A of the CCD image converters are offset with respect to each other as shown in FIG. It must be set to be within the field of view with manufacturing tolerances. This is possible with a 1: 1 image if the CCD image converter 21 according to FIG. 8 is used and a rectangular pattern with sides of about 4 mm is used. The image of the pattern stored by the camera is the CCD image when a small size CCD image converter is used, or exceptionally when tubes with large convergence and raster offset need to be tested. It has to be reduced a little by the converter.

【0031】図6によるフロ−図は前述の処理シ−ケン
スが図1による装置で互いに連続する状態を示してい
る。段階s1では補正カラ−は前述の処理の1つを使用
して各CCD画素とさらに関連するRAMセルに割当て
られる。段階s2では3つのカラ−に対する3つのパタ
−ンがディスプレイされ、例えば図5でディスプレイさ
れる画像ような画像を生じる。段階s3ではカラ−赤色
Rは最初に試験される第1のカラ−Fとして設定され、
x方向が座標kとして選択される。これらのデ−タでは
カラ−Rと座標xの中心点SFkが図2を参照して説明
されるように計算される。計算された値は蓄積される
(段階s4)。段階s5では座標が値xを有するかどう
かの決定がおこなわれる。有するならば段階s6に到達
し、座標は値yに設定される。段階s4は再度実施さ
れ、それは、図3を参照して示されているようにカラ−
Rと座標yの中心点SFkがRAMデ−タから決定され
ることを意味する。計算された値は蓄積される。前述の
処理の代りにカラ−赤色のパタ−ンの中心点のx、y座
標も図4を参照して説明される処理を用いて決定され
る。
The flow diagram according to FIG. 6 shows a situation in which the abovementioned processing sequences are continuous with one another in the device according to FIG. In step s1, the correction color is assigned to the RAM cell further associated with each CCD pixel using one of the processes described above. In step s2, three patterns for the three colors are displayed, resulting in an image such as the image displayed in FIG. In step s3, color red R is set as the first color F to be tested first,
The x direction is selected as the coordinate k. With these data, the color R and the center point SFk of the coordinate x are calculated as described with reference to FIG. The calculated value is accumulated (step s4). At step s5, a determination is made whether the coordinate has the value x. If so, step s6 is reached and the coordinates are set to the value y. Step s4 is performed again, which is the color as shown with reference to FIG.
This means that the center point SFk of R and the coordinate y is determined from the RAM data. The calculated value is accumulated. Instead of the above process, the x and y coordinates of the center point of the color red pattern are also determined using the process described with reference to FIG.

【0032】座標はxではないことが段階s5で明白で
あるならば段階s7はカラ−がRであるかどうかを質問
する。現在のこの例ではそうであるので、段階s8に到
達し、座標kは値xに再セットされカラ−は値Gにセッ
トされる。中心点はRパタ−ンで説明したようにGパタ
−ンに対して決定される。段階s7が再度到達するとき
カラ−はRではなく、カラ−が緑色であるかどうかを質
問する段階s9に導かれる。カラ−が緑色ならば段階s
10に到達し座標kは値xに設定され、カラ−G[si
c]がカラ−として選択される。再度中心点が前述の方
法で決定される。段階s9に再び到達するときカラ−が
緑色ではなく、段階s11に導かれ、緑色パタ−ンの中心
点に関して赤色および青色パタ−ンの中心点との間の中
心点の差が計算される。輝度分布の中心点間の差は実際
のパタ−ンの中心点間の差と正確に一致しないから、段
階12では輝度分布パタ−ンの中心点の座標間の差は実際
のパタ−ンの座標間の差に変換される。
If it is clear in step s5 that the coordinate is not x, step s7 asks if the color is R. As it is in the present example, step s8 is reached, the coordinate k is reset to the value x and the color is set to the value G. The center point is determined with respect to the G pattern as described in the R pattern. When step s7 is reached again, the color is not R, and it leads to step s9, which asks if the color is green. If the color is green, step s
10 is reached, the coordinate k is set to the value x, and the color G [si
c] is selected as the color. Again the center point is determined in the manner described above. When the step s9 is reached again, the color is not green, but it is guided to the step s11, in which the difference between the center points of the green pattern and the center points of the red and blue patterns is calculated. Since the difference between the center points of the brightness distribution does not exactly match the difference between the center points of the actual pattern, in step 12, the difference between the coordinates of the center points of the brightness distribution pattern is Converted to the difference between coordinates.

【0033】スロット方向に斜めに延在する緑部を有す
る画像セグメントの使用、特に1つの頂点で立つ方形形
態の画像セグメントの使用はドイツ特許明細書DE-A-32
06 913によって別の内容で知られている。しかしここに
説明されているプロセスは形態のパタ−ンを生成するこ
とを含み、代りに垂直または水平ラスタ−線はパタ−ン
を有するマスクにより通過を許容される。垂直線が含ま
れ、水平コンバージェンス誤差が存在するならばラスタ
−線は同時にマスクに入りそこから出るのではなく、こ
れらの動作は連続して生じる。前述の形態のマスクの使
用は増加された振幅の信号に導かれ、そこから振幅の時
間にわたってオフセットが推定される。この値は非常に
正確にコンバージェンスオフセットを指示する。しかし
前述の装置の前述の形態のマスクの使用に導かれる実行
は、時間に関するプロフィルが試験されないので本発明
の場合には使用不可能であり、代りに特定パタ−ンの分
析された単一画像が記憶され、分析される。
The use of an image segment having a green part extending diagonally in the slot direction, in particular of a rectangular form with one vertex, is described in German Patent Specification DE-A-32.
Known for different content by 06 913. However, the process described herein involves producing a pattern of morphology, which in turn allows vertical or horizontal raster lines to be passed through by a mask having the pattern. Raster lines do not enter and leave the mask at the same time if vertical lines are included and horizontal convergence error is present, these operations occur sequentially. The use of a mask of the form described above leads to a signal of increased amplitude, from which the offset is estimated over time in amplitude. This value very accurately indicates the convergence offset. However, the use-guided implementation of the aforesaid device of the aforesaid apparatus is unusable in the case of the present invention, since the time-related profile is not tested, and instead an analyzed single image of a particular pattern is used. Are stored and analyzed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】管の電子ビ−ムのコンバージェンスおよびラス
タ−位置を測定するためのカラ−受像管および装置の概
略図。
FIG. 1 is a schematic diagram of a color picture tube and apparatus for measuring the electron beam convergence and raster position of the tube.

【図2】CCD画像コンバ−タでイメ−ジされるとき頂
点に立つ方形発光スポットパタ−ンおよび画像コンバ−
タの水平線に沿った輝度分布の概略図。
FIG. 2 is a rectangular emission spot pattern and an image converter that stand at the top when imaged by a CCD image converter.
FIG. 3 is a schematic diagram of a luminance distribution along a horizontal line of the data.

【図3】パタ−ンをやや右に変位した図2のaに対応す
る図と、その位置と比較してパタ−ンがやや下方向に変
位されている図と、それらの輝度分布図。
3A and 3B are a diagram corresponding to FIG. 2A in which the pattern is displaced slightly to the right, a diagram in which the pattern is displaced slightly downward in comparison with the position, and a luminance distribution diagram thereof.

【図4】コンバージェンスコンバ−タの視野内の2つの
位置のパタ−ンの図。
FIG. 4 is a diagram of patterns at two positions in the field of view of a convergence converter.

【図5】各パタ−ンが3つの異なった電子ビ−ムの1つ
に属する画像コンバ−タの視野の30[sic]の部分的
にオ−バ−ラップしたパタ−ン図。
FIG. 5 is a 30 [sic] partially overwrapped pattern diagram of the field of view of an image converter, each pattern belonging to one of three different electron beams.

【図6】図1による装置により行われる処理のフロ−
図。
6 is a flow chart of processing performed by the apparatus according to FIG.
Fig.

【図7】図1に対応した既知の装置の概略図。FIG. 7 is a schematic view of a known device corresponding to FIG.

【図8】図7による装置のCCD画像コンバ−タおよび
関連したRAMの概略図。
8 is a schematic view of the CCD image converter and associated RAM of the device according to FIG.

【図9】スクリ−ンの蛍光ストライプおよび発光スポッ
トおよび関連する輝度測定曲線図。
FIG. 9: Screen of fluorescent stripes and emission spots on the screen and associated luminance measurement curves.

【図10】通常のパタ−ンを使用した図2に対応する
図。
FIG. 10 is a view corresponding to FIG. 2 using a normal pattern.

フロントページの続き (72)発明者 ツェリィオ・ゼルンホルスト ドイツ連邦共和国、3100 ツェレ、テレフ ンケンシュトラーセ 3 (72)発明者 ギュンター・ベッセルス ドイツ連邦共和国、2805 シュトウーア 4、ネヒタースベルガー・シュトラーセ 7Front page continued (72) Inventor Celio Zernhorst Germany, 3100 Celle, Telefunkenstraße 3 (72) Inventor Gunter Bessels Germany, 2805 Stower 4, Nechtersberger Strasse 7

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 管のスクリ−ンの輝度分布パタ−ンを生
成する電子ビ−ムと、異なったカラ−の蛍光ストライプ
を有するスクリ−ンと、シャドウマスクと、蛍光ストラ
イプの正面に存在し、蛍光ストライプ方面に延長するス
ロットとを具備し、 シャドウマスク上に予め限定された電子分布パタ−ンを
生成し、 輝度分布パタ−ンを電子電荷パタ−ンに変換する画像コ
ンバ−タを使用してスクリ−ン上の関連する輝度分布パ
タ−ンを記憶し、 画像コンバ−タの視野内の電荷パタ−ンの位置を特徴づ
ける変数値を得るため電荷パタ−ンを分析する段階を有
する画像コンバ−タの視野に関して多重ビ−ムカラ−受
像管の電子ビ−ムの位置を測定する方法において、 生成された電子分布パタ−ンが数ミリメ−トル程度の寸
法を有し、少なくとも1つの縁部がマスクスロットの長
手方向に対して斜めに延在し、関連する輝度分布パタ−
ンは視野に完全に適合するように画像コンバ−タ上にイ
メ−ジされることを特徴とするカラ−受像管の電子ビ−
ム位置の測定方法。
1. An electron beam for producing a brightness distribution pattern of a screen of a tube, a screen having fluorescent stripes of different colors, a shadow mask, and a screen existing in front of the fluorescent stripes. , A slot extending to the fluorescent stripe direction is used, and an image converter that generates a pre-defined electron distribution pattern on the shadow mask and converts the brightness distribution pattern into an electron charge pattern is used. And storing the relevant brightness distribution pattern on the screen and analyzing the charge pattern to obtain variable values characterizing the position of the charge pattern within the field of view of the image converter. In a method for measuring the position of an electron beam of a multi-beam color picture tube with respect to the field of view of an image converter, the generated electron distribution pattern has a dimension of the order of a few millimeters and at least one Parts extends obliquely to the longitudinal direction of the mask slots, associated brightness distribution pattern -
The electron beam of the color picture tube is characterized in that it is imaged on the image converter so that it fits perfectly in the field of view.
How to measure the position of the frame.
【請求項2】 電子分布パタ−ンの全ての縁部がマスク
スロットの長手方向に対して斜めに延在することを特徴
とする請求項1記載の方法。
2. A method according to claim 1, wherein all edges of the electron distribution pattern extend obliquely to the longitudinal direction of the mask slot.
【請求項3】 画像コンバ−タ内の電荷パタ−ンの位置
を特徴づける変数が予め限定された方向の電荷中心点で
あることを特徴とする請求項1乃至2のいずれか1項記
載の方法。
3. A variable according to claim 1, wherein the variable characterizing the position of the charge pattern in the image converter is the charge center point in a predetermined direction. Method.
【請求項4】 画像コンバ−タ内の電荷パタ−ンの位置
を特徴づける変数が予め限定された方向に垂直に延在す
る電荷パタ−ンの縁部の位置であり、基本的に全ての個
々の電荷は縁部の側面の一方の領域のしきい値より下に
位置され、基本的に全ての個々の電荷は縁部の他方の側
面の領域のしきい値より上に位置されていることを特徴
とする請求項1乃至2のいずれか1項記載の方法。
4. The variable characterizing the position of the charge pattern within the image converter is the position of the edge of the charge pattern which extends perpendicularly to a pre-defined direction, essentially all The individual charges are located below the threshold of one region on the side of the edge, essentially all individual charges are located above the threshold of the region on the other side of the edge. The method according to any one of claims 1 to 2, characterized in that:
【請求項5】 前記パタ−ンを利用して少なくとも2つ
の電子ビ−ムの相互に関する位置を測定するための方法
において、 画像コンバ−タの輝度分布パタ−ンをイメ−ジするスケ
−ルは、全ての輝度分布パタ−ンがイメ−ジされるよう
に選択され、 光を放射する蛍光体のカラ−が画像コンバ−タの各画素
に対して決定され、 電子分布パタ−ンが測定される全ての電子ビ−ムに対し
て同時に生成され、対応する輝度分布パタ−ンの画像が
画像コンバ−タにより記憶され、 互いに垂直方向の2つの電子ビ−ムのそれぞれの場合に
種々の電子ビ−ムに対する画素の割当てを使用して記憶
された画像の前記分析が行われることを特徴とする請求
項1乃至4のいずれか1項記載の方法。
5. A method for measuring the position of at least two electron beams with respect to each other using the pattern, the scale for imaging the luminance distribution pattern of an image converter. Is selected so that all luminance distribution patterns are imaged, the color of the phosphor that emits light is determined for each pixel of the image converter, and the electron distribution pattern is measured. The images of the corresponding brightness distribution patterns, which are generated simultaneously for all the electron beams to be stored, are stored by the image converter and are different for each of the two electron beams in the direction perpendicular to each other. 5. A method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the analysis of the stored image is carried out using the assignment of pixels to electron beams.
【請求項6】 管のスクリ−ンの輝度分布パタ−ンを生
成する前記電子ビ−ムと、異なったカラ−の蛍光ストラ
イプを有するスクリ−ンと、シャドウマスクと、蛍光ス
トライプの正面に存在し、蛍光ストライプ方向に延長す
るスロットとを具備し、 シャドウマスク上に予め限定された電子分布パタ−ンを
生成するパタ−ン発生器と、 スクリ−ン上の関連する輝度分布パタ−ンを記録するた
めの画像コンバ−タカメラと、 カメラにより記録された輝度分布パタ−ンを電気電荷パ
タ−ンに変換するための画像コンバ−タと、 画像コンバ−タ内の視野内の電荷パタ−ンの位置を特徴
づける変数の値を得るため電荷パタ−ンを分析する分析
装置と、 パタ−ン発生器と画像コンバ−タと分析装置の時間にわ
たってシ−ケンスを制御するシ−ケンス制御装置とを具
備する画像コンバ−タの視野に関する多重ビ−ムカラ−
受像管の電子ビ−ムの位置を測定する装置において、 パタ−ン発生器は数ミリメ−トル程度の寸法を有する電
子分布パタ−ンを発生し、その少なくとも1つの縁部は
マスクスロットの長手方向に対して斜めに延在し、 画像コンバ−タカメラは視野に完全に適合するように画
像コンバ−タ上に輝度分布パタ−ンをイメ−ジすること
を特徴とするカラ−受像管の電子ビ−ム位置の測定装
置。
6. An electron beam for producing a brightness distribution pattern of a screen of a tube, a screen having fluorescent stripes of different colors, a shadow mask, and a screen in front of the fluorescent stripes. And a slot extending in the direction of the fluorescent stripes, and a pattern generator for generating a pre-defined electron distribution pattern on the shadow mask and an associated brightness distribution pattern on the screen. An image converter camera for recording, an image converter for converting the brightness distribution pattern recorded by the camera into an electric charge pattern, and a charge pattern within the field of view within the image converter. Analyzer for analyzing the charge pattern to obtain the value of the variable characterizing the position of, and sequence control for controlling the sequence over time of the pattern generator, the image converter and the analyzer. Image converter; and a location - multiple related field of data bi - Mukara -
In an apparatus for measuring the position of an electron beam in a picture tube, a pattern generator produces an electron distribution pattern having dimensions on the order of a few millimeters, at least one edge of which is the length of a mask slot. An image of a color picture tube which extends obliquely with respect to the direction and is characterized in that the image converter camera images the luminance distribution pattern on the image converter so as to perfectly match the field of view. Beam position measuring device.
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