JPH06167478A - ビンの汚染を検査するための方法及び装置 - Google Patents

ビンの汚染を検査するための方法及び装置

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JPH06167478A
JPH06167478A JP5169125A JP16912593A JPH06167478A JP H06167478 A JPH06167478 A JP H06167478A JP 5169125 A JP5169125 A JP 5169125A JP 16912593 A JP16912593 A JP 16912593A JP H06167478 A JPH06167478 A JP H06167478A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 多数のビンを検査するために１つの質量分析
計で十分であり、これによってコスト費用、保守費用及
び校正費用が著しく減少されるようにすることにある。 【構成】 ビン（３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ）を質量
分析式に検査するためにゾンデ（４，５，６，７）によ
って多数のビン（３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ）から同時に
ガス試料が取り出される。分配装置（１６，１７，１
８，１９）によってガス試料が所定の順序で順次質量分
析計（１）に供給される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、搬送区間に沿って搬送
されるビン、特にプラスチック製のビンを検査するため
の方法であって、個々のビンから取り出されるガス試料
を検査することによって汚染の有無を検査する形式のも
に関する。
【０００２】
【従来の技術】再利用ビンの場合、特に、高温度で洗浄
できない例えばＰＥＴ・ビンのようなプラスチック製の
ビンの場合、汚染されたビンを除去するためにもしくは
新たな充填から除外するために、汚染を確実に検出せね
ばならないという問題が生ずる。この場合特に、利用者
が危害を及ぼす恐れのある物質（毒、溶剤）のために使
用した回収されたビンが検出されねばならない。
【０００３】このためにそれぞれ１つのガス試料をビン
から取り出しかつこのガス試料を光イオン化検波（ＰＩ
Ｄ）によってチェックすることが、既に公知である。こ
れによってビンもしくはプラスチック材料内の不所望の
物質の僅かな痕跡の有無をも検出できる。
【０００４】このような検査装置は、このような検査を
産業上の充填運転において実施できるようにするため
に、分当たり高いビン処理能力（有利には例えば分当た
り２５０乃至３００ビン）を有さねばならないので、従
来ではそれぞれ多数の個々のＰＩＤ・機械が使用され
た、即ち、検査すべき多数のビンのそれぞれが固有のＰ
ＩＤ・機械に配分された。これによって多額のコスト費
用、保守費用及び校正費用が必要になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、コス
ト費用、保守費用及び校正費用が著しく減少されるよう
な方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によれ
ば冒頭に述べた形式の方法において、多数のビンから同
時にガスを取り出し、取り出されたガス試料を制御され
た順序で順次多数のビンに共通の検査装置の入口部に供
給することによって解決された。
【０００７】
【発明の効果】ガス試料が同時に検査される多数のビン
から順次１つだけの検査装置に供給されることによっ
て、費用を所望のように減少することができる。
【０００８】この場合有利には、検査装置として質量分
析計を使用でき、この質量分析計は汚染を特に良好に検
出することができる。
【０００９】本発明の解決策では、それぞれのビンから
多数のビンに共通の検査装置に向けて個々のガス試料の
ために、それぞれ個々のビンの近くに配置された多数の
ＰＩＤ・機械を有する公知の解決策の場合よりも長い搬
送経路が得らる。しかしながら、これにも拘わらず当初
の予想に反して所望の高いビン処理能力の場合にも検査
のために、特に質量分析式の測定のために十分な時間が
残されることが明らかとなった。
【００１０】有利には、それぞれのビンから検査装置ま
でのガス試料の搬送経路の影響を減少もしくは回避する
ための措置を講ずることができる。特に有利には、それ
ぞれ検査すべきビンから連続的にガスが、検査装置、特
に質量分析計の比較的近くに配置される分配装置に供給
される。この分配装置に供給されたガス流のそれぞれ１
つが短い経路で質量分析装置に接続される。
【００１１】更に有利には、凝縮を回避するために、少
なくともビンから分配装置までの導管が加熱され、か
つ、ガス試料を場合によって生ずる汚染物によってでき
るだけ濃縮するために、空気を検査すべきビン内に吹き
込むことができる。
【００１２】方法を実施するための装置は請求項第６項
において規定されている。
【００１３】
【実施例】第１図で概略的に図示された装置はビン３用
の搬送区間２を有している。搬送区間２の検査区分では
ビン３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄからガス試料が取り出され
る。このために試料取り出し・ゾンデ４，５，６，７
が、あらゆる汚染を回避するためにビンに触れることな
く、ビン頚部を介してそれぞれビン内に挿入される。
【００１４】ゾンデによってそれぞれのビンからガスが
吸出されかつそれぞれ導管８，１０，１２，１４を介し
て切換弁１６，１７，１８，１９を有する分配装置に案
内される。切換弁の一方の位置ではこの切換弁によって
それぞれのビンから吸出されたガスが出口導管２２，２
３，２４，２５を介して、吸込みポンプ２６に接続され
ている集合導管２１に供給される。この吸込みポンプ２
６はそれぞれのビンからガスを搬送しかつ導管２７を介
して周囲環境に放出する。
【００１５】検査区分内にビンが存在する間、連続的に
吸込みポンプ２６によってビンからガスが吸出されかつ
切換弁に搬送される。上位に配置された制御機構３５に
接続される制御装置３０によって、それぞれ電気的な制
御導線３１，３２，３３，３４を介して所定の時間に亘
って切換弁１６，１７，１８，１９の１つが切換られる
ので、それぞれのビンから切換弁を介して流れるガス
は、検査装置、例えばＰＩＤ・機械、有利には質量分析
計１の入口部に接続された集合導管２０にかけられる。
【００１６】質量分析計に対する集合導管２０を介した
吸込みは固有の搬送ポンプによって行われる。質量分析
計によって検査すべきビンの１つ、例えばビン３ａのガ
スが吸い込まれた後では、切換弁１６が再び切換られる
ので、ビン３ａからのガス流は再び出口導管２２に接続
される。
【００１７】質量分析計１が次の分析のために、即ちビ
ン３ｂからのガス流の分析のために準備された場合に
は、切換弁１７が切換られるので、ビン３ｂからのガス
流は短時間集合導管２０ひいては質量分析計１に供給さ
れる。次いで同じ形式で順次切換弁１８，１９が短時間
切換られるので、順次それぞれビン３ｃ，３ｄからのガ
ス試料を分析することができる。
【００１８】次いでゾンデ４，５，６，７がビン３ａ，
３ｂ，３ｃ，３ｄから引き出され、４つの新たなビンが
搬送区間上に準備され、ゾンデが新たなビン内に挿入さ
れて、これらビンから同様にガス試料を取り出す。
【００１９】先行して検査されたビン３ａ，３ｂ，３
ｃ，３ｄは引き続き搬送区間上を搬送されかつ、質量分
析計によって許容し得ない汚染を検出されたビンは放出
装置によって搬送区間から除かれる。検査された汚染さ
れてないビンは少なくとも１つの洗浄装置を通過した後
で引き続き充填装置に供給され、そこで新たに飲み物を
充填される。
【００２０】つまり第１図において説明した装置もしく
は方法によって、多数のビンを１つだけの検査装置もし
くは質量分析計によって検査することができる。搬送区
間の搬送能力が大きい場合でも方法を第１図で記述した
ように有利に実施できる、即ち、連続的にそれぞれのビ
ンからガス流が搬送されかつ分配装置に供給できるよう
に実施できる。このようにしてゾンデから導管８を介し
たガス試料用の搬送時間は測定のために重要ではなくな
る。
【００２１】質量分析計１のために分配装置もしくは切
換え弁の出口部のそれぞれのガス試料が使用される、即
ち、質量分析計に対する導管２０を介した搬送経路が測
定時間に関連させられる。このようにして多数のビン、
例えば１６のビンを搬送区間２で迅速に搬送した状態で
１つだけの質量分析計によって分析することができる。
【００２２】迅速な分析を改善するための別の措置を講
ずることができる。従って例えば、ガス試料内に含まれ
る汚染物の濃度を高めるために、試料取り出し中にビン
内に空気が吹き込まれると有利である。有利には空気の
吹き込みは、導管８，１０，１２，１４を二重の導管と
して構成することによって行うことができるので、記述
したようにこの導管の一方の通路を介して試料ガスが吸
い込まれかつ他方の通路を介して（図示されてない別の
ポンプを用いて）ゾンデ４，５，６，７内の付加的な流
出部により空気がビン内に吹き込まれる。
【００２３】更に、それぞれの導管において試料ガスの
凝縮を阻止するために、導管８，１０，１２，１４の少
なくとも試料ガス通路が加熱されると有利である。更
に、質量分析計に対する供給導管２０も加熱することが
できる。
【００２４】制御装置３０は一方では切換弁１６，１
７，１８，１９の切換を制御する。更に、制御装置３０
はそれぞれのビンに対するゾンデの挿入及び引き出しを
制御する。このことはいずれにせよ、ビン用の全搬送設
備を制御する（後で第３図により説明する）上位に配置
された制御機構３５によって行われる。制御装置３０及
び制御機構３５は組み合わされた制御ユニットとして構
成することもできる。ゾンデの挿入及び引き出しは制御
カムで操作される持ち上げユニットを介して完全に機械
的に生ぜしめられる。
【００２５】第２図では方法を実施するための装置の別
の実施例を同様に概略的に図示している。この場合２つ
の検査装置もしくは有利には質量分析計１，１ａが設け
られている。この場合一方の質量分析計１はビン３ａ，
３ｂ，３ｃを検査するのに用いられ、かつ、他方の質量
分析計１ａはビン３ｄ，３ｅ，３ｆを検査するために用
いられる。つまりこの場合にもそれぞれ１つの質量分析
計が多数のビンを検査するために共通に使用される。
【００２６】個々のビンの検査は第１図で記述したのと
同じ形式で行われる。つまりまず例えばビン３ａ，３ｄ
がそれぞれ質量分析計１，１ａによって検査され、この
場合切換弁１６，１６ａは短時間ガス流を導管２０，２
０ａに切換え、これによってビン３ａからのガス試料が
質量分析計１によって分析されるかもしくはビン３ｂか
らのガス試料が質量分析計１ａによって分析される。次
いで再び切換弁が集合導管２１，２１ａひいては吸込み
ポンプ２６に切り換えられる。次いで類似の形式でビン
３ｂ，３ｅからのガス試料が検査される。
【００２７】第３図では平面図で概略的に方法に従って
作業する、ビンを検査するための装置４０を図示してい
る。回収された再利用ビンは無秩序に搬送ライン４１上
で装置に供給される。ビンは直立して装置に供給されか
つ通常開かれている、即ち、最早蓋を備えておらずかつ
まだ洗浄されていない。
【００２８】コンベヤ及び適当な動圧によってビン３は
ライン停止部材を成す星形コントロール部材４２及び搬
送ウォーム４３に供給され、この搬送ウォーム４３はビ
ンを等間隔を置いた順序で直立させて引き続き搬送す
る。この搬送区間に沿って多数の検査装置（後で第５図
で詳述する）が設けられている。特にビンは正確な高さ
及び蓋又は別の閉鎖体の有無及び液体の残量を検査され
る。不適当なビンは放出部材５１又は５２の１つを介し
て搬送ウォーム４３から放出される。
【００２９】このように予め検査されたビンは搬送ウォ
ーム４３から取入れ回転体４５に達する。この取入れ回
転体４５から主回転体４７にビンが供給される。主回転
体におけるビンの待機時間中に例えば質量分析式の検査
として検査が行われる。第３図では概略的にのみ４つの
ビン３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄを図示している。実際には
主回転体は検査すべき多数のビン、例えば１６のビンを
受容でき、これらビンは主回転体の上側に配置された質
量分析計によって検査される。
【００３０】検査後、検査されたビンは搬出回転体４８
を介して搬出ウォーム４９に達する。この搬出ウォーム
４９には別の放出部材５３が配置されていて、この放出
部材は、質量分析計によって汚染されているものと検出
されたビンを放出する。この場合放出は種々の公知の形
式で、例えば圧力空気噴流又は電磁式に操作される放出
プランジャによって行うことができる。
【００３１】しかし有利には除去すべきビンを直立して
別の搬送区間に供給するソフトな放出機構を使用するこ
とができる。これによって場合によって有害な液体量を
含有するビンの転倒が阻止される。このビンは直立して
廃棄物処理個所に搬送される。
【００３２】搬出ウォーム４９の後方で汚染されてない
ビンが搬送ライン５０に供給され、この搬送ラインを介
してビンは洗浄ステーションにかつ次いで充填ステーシ
ョンに供給される。ブラケットには操作キャビネット５
４が配置されている。装置全体の制御ユニットは別個に
収容できる。
【００３３】第４図では第３図の主回転体４７の部分的
な断面図を図示している。主回転体のホルダ６２，６３
によって保持されたビン３ｂが図示されている。回転体
内に位置する別のビン及びビンのホルダは図示されてい
ない。図示の１つのビン内にはガス試料を取り出すため
にゾンデ５が突入している。ゾンデ５は可動な往復台６
１に保持されていて、この往復台は往復台ガイド６０に
沿って図示の下側位置から鎖線で示された上側位置に移
動する。
【００３４】回転体内へのビンの入口範囲ではそれぞれ
ホルダ６３に配属された往復台６１は上側位置を占めて
いる。ビンがホルダ内に達した後で、往復台は往復台ガ
イドに沿って下向きに移動し、これによって適当なゾン
デが無接触式にビン頚部を介してビン内に突入する。
【００３５】ゾンデ５にはフレキシブルなホース１０が
接続されている。接続個所は図面を明瞭にするために図
示されていない。往復台の下側位置では、符号１０で示
したホースの場合のように、フレキシブルなホースの経
過が得られる。往復台の上側位置では、ホース１０の後
方に位置するホースの短いホース区分により図示されて
いるような経過が得られる。
【００３６】ホースは回転体の中央に案内されている。
ホースは、ガス試料をビンから取り出す導管１１を有し
ていて、この導管１１は接続片８０によって回転体の上
端部に連結されている。接続片からは回転体の上端部に
おいて通路８１が切換弁１７内に案内されている。切換
弁の出口部は導管２３によって回転体の中央の導管２１
に接続されていて、この導管２１は図示しない吸込みポ
ンプ２６（第１図参照）に案内されている。切換弁１７
の別の出口部は上側の回転体部分内で通路２０を介して
接続片８２に案内されている。
【００３７】回転体のこれまで記述した部分はビンと共
に回転体の回転速度で回転する。接続片８２の上側には
定置の質量分析計１が配置されていて、この質量分析計
は第４図では概略的に適当なブロックで図示されてい
る。接続片８２を介して定置の質量分析計は回転する回
転体、即ち、回転体の通路２０に接続されている。切換
弁に対する電気的な制御導線は第４図では図示されてい
ない。この制御導線は制御ユニットからすり接触接点を
介して回転体と共に回転する弁に達している。
【００３８】第４図で図示の回転体は検査すべきビン用
の１６の受容位置（ホルダ）を有していてかつ同様に多
数の往復台、ゾンデ、フレキシブルなホース導管、接続
片、電気的な切換弁及び固有の接続片８２に対する通路
２０を有している。図面を明瞭にするために第４図では
２つだけの切換弁１７，３６が図示されている。その他
の構成部材、例えばホース８，１０，２８も部分的にの
み図示されている。
【００３９】中央の導管７１及び１６の通路もしくは導
管及び適当なフレキシブルなホースを介して、取り出さ
れたガス試料内の汚染の濃度を高めるために、検査すべ
き全てのビン内にクリーンな空気が吹き込まれる。更に
フレキシブルなホース１０は、ホース導管内で取り出さ
れたガスの凝縮を阻止するために、加熱される。
【００４０】第５図では第３図の装置内で行われる検査
ステップを概略的に図示している。搬送ラインに到着す
るビンは星形コントロール部材４２に達し、この場合横
向きのビンは星形コントロール部材４２を介してライン
停止を生ぜしめる。次いで取入れウォーム内で２つの光
電ボックスを介してそれぞれ個々のビンの高さチェック
が行われる。過度に大きな又は小さなビンは除去され
る。
【００４１】次いで超音波センサによって、それぞれの
ビンにおいてビン蓋が除かれているかがチェックされ
る。ビン蓋又は別の閉鎖体を備えたビンが除去される。
重量センサによって、まだ多量の残余液体がビン内に残
っているかがチェックされる。残余液体が残っている場
合、ビンが除去される。
【００４２】取入れモデュールに応じてビンは取入れ回
転体を介して主回転体に達する。主回転体上でビンから
ガス試料が取り出されかつ測定のために質量分析計又は
ＰＩＤ・検査機械に供給される。回転体上でのビンの待
機時間は、ビン毎与えられる測定時間よりも極めて長い
（比較のために：ビン毎の測定時間はほぼ２４０msであ
るのに対して、分当たり３００ビンの場合、回転体上で
の待機時間はほぼ２秒である）。
【００４３】回転体上でのビンの長い待機時間を利用す
るために、試料ガス取り出しは多数の段階で行われる。
即ち、 ０段階 ビンが主回転体上に位置する場合、ゾンデが試料ガス取
り出しのためにビン内に突入する。
【００４４】１段階 試料ガス取り出しから弁ブロック
まで 主回転体上の全てで１６の試料ガスホースが不変に空気
を弁ブロックまで吸い込む。試料ホースがビン内に突入
した場合、ビン内の試料ガスが弁ブロックに汲み上げら
れる。弁ブロックにおいて試料ガスが弁から直接空気ポ
ンプを介して再び大気中に汲み出されるか又は弁の切換
によって質量分析計に導かれる。
【００４５】弁ブロックの１６の弁のそれぞれ１つが質
量分析計に接続され、別の弁が閉鎖されかつ試料ガスが
大気中に導かれる。試料ガスの取り出しに付加的にクリ
ーンな空気がビン内に吹き込まれる。これによって試料
ガスの高い濃度が得られる。
【００４６】更にホース内での試料ガスの凝縮を阻止す
るために、全ての試料ガスホースが加熱される。
【００４７】段階２ 弁ブロックから質量分析計まで 既に述べたように１６の弁のそれぞれ１つが接続され
る。これによって試料ガスは適当な試料ホース及び所属
のビンから質量分析計に達しかつそこで分析される。弁
を適当に周期的に切り換えることによって回転体上でそ
れぞれ個々のビンを順序通り分析できる。
【００４８】前記２段階が反復される、即ち、それぞれ
１つだけのビンが処理され、このことは第１段階とは異
なり、この場合それぞれ１５のステーションが平行、即
ち、同時に処理される。
【００４９】最終的に質量分析計内での試料ガス分析
は、ビンが汚染されているか又は汚染されていないかの
結果を提供する。
【００５０】記述の電気的に制御可能な分配装置の代わ
りに試料ガス流のために完全に機械的に回転体の回転運
動によって制御される分配装置を設けることもできる。
【００５１】記述の回転体の代わりに、原則的に第１図
及び第２図で図示されているように、検査を単数又は複
数の平行な又は一連の直線的な搬送経路区分に沿って行
うこともできる。
【００５２】第６図では、第４図の電気的に切り換えら
れる分配装置の代わりに第４図で図示の回転体４７上に
載設される機械的な分配装置を図示しており、この場合
第６図では回転体は図示されていない。機械的な分配装
置は、回転体４７の回転軸に結合された下側の回転部分
１００を有している。この回転部分１００は回転体もし
くはビンと同期的に回転する。
【００５３】回転部分１００には図示されてない導管１
１（第４図参照）用の多数の接続片１８０が設けられて
いる。この接続片を介してガス試料は分配装置内部に達
する。軸方向で回転部分の上側に回動防止部材１１１を
有する定置部分１１０が配置されている。この定置部分
１１０から接続片１２１が、連続的に空気（ガス試料）
をビンから吸出する吸込みポンプ２６（第１図参照）に
向けて案内されている。
【００５４】更に定置部分１１０から接続片１８２が定
置の質量分析計１（第６図では図示せず）に案内されて
いる。第２の質量分析計１ａが設けられる場合、この質
量分析計のために接続片１８２ａが設けられる。
【００５５】回転部分１００と定置部分１１０とはシー
ル面１０４，１０５を介して互いに摺動する。一方又は
両シール面１０４，１０５内には分配室が設けられてい
る。シール面１０５の第１の分配室１０６は吸込み室と
して用いられかつ常時接続片１２１を介して吸込みポン
プに接続されている。第２の分配室１０７はそれぞれ検
査装置に供給されるガス試料用の通過室として用いられ
かつ一方では常時接続片１８２に接続されている。
【００５６】吸込み室１０６は円弧状に形成され（第７
図参照）かつ、第６図左半分で図示された通過室１０７
に接続された図示の接続片１８０を除いて、通過孔を介
して全ての接続片１８０もしくは導管１１もしくはビン
に接続されている。この通過室に接続された接続片１８
０により所属のビンから適当な導管１１を介してガス試
料が通過室及び接続片１８２を通過して質量分析計に供
給される。
【００５７】ガス試料は全ての別のビンから吸込み室１
０６及び接続部１２１を介して吸込みポンプ又は周囲空
気内に達する。分配装置の下側部分に追従する回転体の
回転運動によって、それぞれの接続片１８０は順次通過
室１０７もしくは質量分析計に接続されるのに対して、
それぞれ別の接続片１８０は吸込み室１０６に接続され
る。
【００５８】２つの質量分析計１，１ａが使用される場
合、第８図で鎖線で図示されているように第２の室１０
６ａ，１０７ａが設けられる。この場合吸込み室１０
６，１０６ａは互いに接続されるかもしくは同じ吸込み
ポンプ接続部１２１に接続される。これに対して室１０
７，１０７ａは分離されかつそれぞれ所属に質量分析計
１，１ａに接続される。記述の形式で二倍の処理容量が
得られる。
【００５９】シール面１０４，１０５は摩耗を最良状態
にすることのできる乾式滑り対偶として、例えばそれぞ
れ硬質金属・滑り面として又はそれぞれ銅・滑り面とし
て又は一方は硬質金属・滑り面及び他方はセラミック・
滑り面として構成できる。
【００６０】滑り面は図示の実施例では簡単に交換でき
る。シール面１０４，１０５間で良好なシール作用を得
るために、分配装置の両構成部材１００，１１０は球面
状に支承されたばね１０８によって軸方向で緊定され
る。中央の固定によって分配装置の迅速な取り付けもし
くは取り外しが可能にされる。
【００６１】それぞれ質量分析計に供給されるガス試料
のために図示の配置形式は短い直線的な経路を生ぜし
め、これによってメモリ・効果が減少される。
【００６２】ビン内への吹き込み空気の供給のために図
示の実施例では接続片１７０に連通する中央の通路１７
１が設けられ、この通路にそれぞれフレキシブルな加熱
されたホース１０の適当な導管が接続されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】方法を実施するための装置を概略的に示した
図。
【図２】方法の第２の実施例を説明するための第１図に
相応する図。
【図３】ビン用の多数の搬送手段を有する方法を実施す
るための装置の平面図。
【図４】第３図の装置の一部の、部分的に断面した側面
図。
【図５】第３図装置の検査過程を示したブロック図。
【図６】第４図のに比して修正された分配装置の部分的
な断面図。
【図７】第６図のシール面の一方の平面図。
【図８】異なって形成されたシール面の平面図。
【符号の説明】
１，１ａ 質量分析計 ３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ ビン ４，５，６，７ ゾンデ ８，１０ ホース １６，１７，１８，１９ 切換弁 ４５ 取入れ回転体 ４７ 主回転体 ４８ 搬出回転体 １００ 回転部分 １０４，１０５ シール面 １１０ 定置部分
フロントページの続き (72)発明者 テオ ヒューサー スイス国 ルードルフシュテッテン レン ゲンシュトラーセ ６ (72)発明者 メルヒオール ツムバッハ スイス国 デューベンドルフ ブエンシュ トラーセ 67

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 搬送区間に沿って搬送されるビン、特に
    プラスチック製のビンを検査するための方法であって、
    個々のビンから取り出されるガス試料を検査することに
    よって汚染の有無を検査する形式のもにおいて、多数の
    ビンから同時にガスを取り出し、取り出されたガス試料
    を制御された順序で順次多数のビンに共通の検査装置の
    入口部に供給することを特徴とする、ビンの汚染を検査
    するための方法
  2. 【請求項２】 検査装置として質量分析計を設ける、請
    求項1記載の方法。
  3. 【請求項３】 ビンをビン搬送経路に沿って検査し、ガ
    ス試料を所定の搬送区間区分に亘って連続的にビンから
    吸出されるガス流として取り出し、このガス流を検査の
    ために分配装置に案内し、この分配装置から所定の時間
    に亘って検査装置に供給し、残りの取り出し時間中に周
    囲空気中に放出する、請求項１又は２記載の方法。
  4. 【請求項４】 ガス試料取り出し中に空気をビン内に吹
    き込む、請求項１から３までのいずれか１項記載の方
    法。
  5. 【請求項５】 ガス試料を検査する前にビン内の残余液
    体の有無を検査し、残余液体含有量が所定の限界値を上
    回るビンを除去し、ひいてはガス試料検査から除外す
    る、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
  6. 【請求項６】 検査に基づき除去されるビンを直立状態
    で搬送区間から除去しかつ廃棄物処理個所に搬送する、
    請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
  7. 【請求項７】 ビン搬送装置と、検査すべきビン内に挿
    入可能な多数の試料取り出し機構と、それぞれ試料取り
    出し機構に接続される導管と、導管、吸込み部材及び少
    なくとも１つの検査装置、特に質量分析計用の接続部を
    有する分配装置とが設けられていることを特徴とする、
    請求項１から６までのいずれか１項記載の方法を実施す
    るための装置。
  8. 【請求項８】 試料取り出し機構がそれぞれ垂直方向に
    摺動可能な往復台に配置された吸込み管によって構成さ
    れている、請求項７記載の装置。
  9. 【請求項９】 導管が少なくとも部分的に加熱可能なホ
    ース導管として構成されている、請求項７又は８記載の
    装置。
  10. 【請求項１０】 搬送装置が、分配装置に連結されるビ
    ン用の回転体を有していて、この場合回転体の回転運動
    によって分配装置が制御される、請求項７から９までの
    いずれか１項記載の装置。
  11. 【請求項１１】 分配装置が回転体の回転軸線内に設け
    られていて、かつ検査装置及び吸込み部材に結合された
    定置部分と、試料取り出し装置に対する導管が接続され
    る回転部分とを有している、請求項１０記載の装置。
  12. 【請求項１２】 定置部分と回転部分とが軸方向で互い
    にプレロードをかけられていてかつ円形のシール面を介
    して互いに乾式に支持されている、請求項１１記載の装
    置。
  13. 【請求項１３】 シール面が乾式滑り対偶、即ち、硬質
    金属・硬質金属、銅・銅又は硬質金属・セラミックによ
    って形成されている、請求項１２記載の装置。
  14. 【請求項１４】 検査すべきビン内に空気を吹き込むた
    めの装置が設けられている、請求項７から１３までのい
    ずれか１項記載の装置。
  15. 【請求項１５】 搬送方向でみて試料取り出し装置の手
    前にビン高さチェック装置、残量チェック装置、蓋チェ
    ック装置及びビン除去部材が配置されている、請求項７
    から１４までのいずれか１項記載の装置。
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