JPH06164087A - 回路基板 - Google Patents

回路基板

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Publication number
JPH06164087A
JPH06164087A JP30668192A JP30668192A JPH06164087A JP H06164087 A JPH06164087 A JP H06164087A JP 30668192 A JP30668192 A JP 30668192A JP 30668192 A JP30668192 A JP 30668192A JP H06164087 A JPH06164087 A JP H06164087A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulator
conductor
circuit board
connection hole
metal substrate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP30668192A
Other languages
English (en)
Inventor
Keisuke Tajiri
桂介 田尻
Yoshikatsu Kuroda
能克 黒田
Naoki Ishida
直樹 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH06164087A publication Critical patent/JPH06164087A/ja
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  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 微小欠陥が発生せず、ノイズ低減に有効な大
面積グランド層を形成した電子基板を提供することを目
的とする。 【構成】 金属基板上に絶縁体を形成すると共に該絶縁
体に層間接続穴を貫通して設け、更に前絶縁体上に導体
を積層することにより、前記層間接続穴を通じて前記金
属基板と前記導体とを電気的に導通させることを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子装置の電子回路に
適用される回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の回路基板を図6に示す。同図に示
すように、従来の回路基板においては、金属基板2上に
絶縁体1、導体7を順に蒸着し、更に、図7に示すよう
に導体7をエッチングしてグランド層を形成していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図8に示すよ
うに、絶縁体1に成膜欠陥8がある場合には、金属基板
2と導体7との間で絶縁不良が生じ、また、図9に示す
ように、導体7上にレジスト膜10を設けてをエッチン
グする際、レジスト膜10に欠陥9があると、導体7に
微小穴が生じる場合がある。
【0004】このような微小欠陥があると基板が使用不
可能となるため、基板全体について検査する必要がある
が、微小欠陥について高倍率顕微鏡によって基板全体を
検査することは、極めて煩雑な作業であった。本発明
は、上記従来技術に鑑みてなされたものであり、微小欠
陥が発生せず、ノイズ低減に有効な大面積グランド層を
形成した電子基板を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成する本
発明は、次のような手段を用いる。 (1)金属基板上に、絶縁体を蒸着によって形成する。 (2)エッチングを用いて、絶縁体に層間接続穴を形成
する。 (3)絶縁体上に導体を積層し、層間接続穴を通じて、
グランドを必要とする導体と金属基板とを電気的に導通
させる。
【0006】
【作用】金属基板上に絶縁体を形成しているので、その
上の絶縁体に形成した電子回路はグランド層である金属
基板と電気的に絶縁される。また、絶縁体上に形成した
電化回路のグランドを必要とする回路は、絶縁体に設け
た層間接続穴を通じて、グランドで層ある基板と電気的
に導通される。
【0007】
【実施例】以下、本発明について、図面に示す実施例を
参照して詳細に説明する。図1〜図5に本発明の一実施
例を示す。同図に示す実施例は、金属基板上に絶縁体と
導体とを交互に積層して電子回路を構成するものであ
る。まず、図1に示すように、予め充分に洗浄した金属
基板2上に、絶縁体1を蒸着によって形成する。
【0008】次に、図2に示すように、絶縁体1の上に
レジスト膜3を塗布し、層間接続穴となる位置のレジス
ト膜3を露光・現像により除去する。引続き、図3に示
すように、層間接続穴となる位置の絶縁体1をエッチン
グにより除去して、層間接続穴4を形成する。その後、
レジスト膜3を除去する。ここで、絶縁体1上には、図
示しない電子回路等を実装するが、絶縁体1を介してい
るため、基板2とは絶縁状態である。
【0009】更に、図4に示すように、絶縁体1上に導
体5を蒸着して層間接続穴4を通じて導体5とグランド
である基板2とを電気的に導通させる。そして、絶縁体
1上に実装された電子回路のうち、グランド(接地)を
必要とする端子等の回路を導体5へ接続する。更に、図
5に示すように、導体5の上に絶縁体6を蒸着し、層間
接続穴を設けて、以後、同様に導体と絶縁体とを交互に
積層することにより、金属基板2上に電子回路を形成す
る。
【0010】このように本実施例によれば、層間接続穴
4を通じて、各導体5とグランドである金属基板2とが
電気的に導通されるので、絶縁体1上に設けた電子回路
のグランドを採ることが容易となる。この為、従来の回
路基板における微小欠陥の問題が解消され、コスト減少
が可能となる。また、金属基板2をグランドとして使用
するため、従来の樹脂基板に比べて、ノイズレベルを1
/3程度に低減することが可能となる。
【0011】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明は金属基板をグランドとして直接に利
用するので、大面積グランド層を有する回路基板を得る
ことができる。この為、従来の回路基板における微小欠
陥の問題が解消され、コスト減少となると共にノイズ低
減となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における回路基板を作製する
工程を示す断面である。
【図2】本発明の一実施例における回路基板を作製する
工程を示す断面図である。
【図3】本発明の一実施例における回路基板を作製する
工程を示す断面図である。
【図4】本発明の一実施例における回路基板を作製する
工程を示す断面図である。
【図5】本発明の一実施例における回路基板を作製する
工程を示す断面図である。
【図6】従来技術に係る回路基板を作製する工程を示す
断面図である。
【図7】従来技術に係る回路基板を作製する工程を示す
断面図である。
【図8】成膜欠陥を示す断面図である。
【図9】レジスト膜欠陥を示す断面図である。
【符号の説明】
1 絶縁体 2 基板 3 レジスト膜 4 層間接続穴 5 導体 6 絶縁体 7 導体 8 成膜欠陥 9 レジスト膜欠陥 10 レジスト膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 直樹 愛知県春日井市神屋町字地福1218−18 玉 川エンジニアリング株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属基板上に絶縁体を形成すると共に該
    絶縁体に層間接続穴を貫通して設け、更に前絶縁体上に
    導体を積層することにより、前記層間接続穴を通じて前
    記金属基板と前記導体とを電気的に導通させることを特
    徴とする回路基板。
JP30668192A 1992-11-17 1992-11-17 回路基板 Withdrawn JPH06164087A (ja)

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JP30668192A JPH06164087A (ja) 1992-11-17 1992-11-17 回路基板

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JP30668192A JPH06164087A (ja) 1992-11-17 1992-11-17 回路基板

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JPH06164087A true JPH06164087A (ja) 1994-06-10

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0862789A1 (en) * 1995-11-22 1998-09-09 Olin Corporation Semiconductor package with ground or power ring
JP2007115864A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Nitto Denko Corp 配線回路基板およびその製造方法

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0862789A1 (en) * 1995-11-22 1998-09-09 Olin Corporation Semiconductor package with ground or power ring
EP0862789A4 (en) * 1995-11-22 1999-07-07 Olin Corp SEMICONDUCTOR HOUSING WITH A GROUNDING OR POWER SUPPLY RING
JP2007115864A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Nitto Denko Corp 配線回路基板およびその製造方法

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