JPH06157819A - 光学材料用組成物 - Google Patents
光学材料用組成物Info
- Publication number
- JPH06157819A JPH06157819A JP34143992A JP34143992A JPH06157819A JP H06157819 A JPH06157819 A JP H06157819A JP 34143992 A JP34143992 A JP 34143992A JP 34143992 A JP34143992 A JP 34143992A JP H06157819 A JPH06157819 A JP H06157819A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- composition
- fine particles
- substrate
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜状にコーティングしても基体との結着力
が良好で、しかも高温処理を不要として、短時間で硬化
反応が完了する光学材料用組成物を提供すること。 【構成】 カチオン重合性の単量体を主成分とするバイ
ンダー成分に、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を
含有させてなり、望ましくは該カチオン重合性の単量体
が、エポキシ基および／またはビニルエーテル基を有す
るものであり、また、微粒子がシリカおよび／または導
電性金属酸化物である組成物である。 【効果】 高温処理を不要とし、さらに２μｍ以下の薄
膜状にコーティングしても基体との結着力が良好な透明
フィルムを容易に形成できるようになり、耐熱性のない
基体にも光学用フィルムを容易に形成できるようにな
る。
が良好で、しかも高温処理を不要として、短時間で硬化
反応が完了する光学材料用組成物を提供すること。 【構成】 カチオン重合性の単量体を主成分とするバイ
ンダー成分に、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を
含有させてなり、望ましくは該カチオン重合性の単量体
が、エポキシ基および／またはビニルエーテル基を有す
るものであり、また、微粒子がシリカおよび／または導
電性金属酸化物である組成物である。 【効果】 高温処理を不要とし、さらに２μｍ以下の薄
膜状にコーティングしても基体との結着力が良好な透明
フィルムを容易に形成できるようになり、耐熱性のない
基体にも光学用フィルムを容易に形成できるようにな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学材料用組成物に関
し、具体的にはガラスやプラスチックフィルムもしくは
シート上に薄膜コートして用いて、例えばテレビ受像機
や端末ディスプレイ装置などの各種ブラウン管や液晶表
示板のような画像表示板の表面に形成する反射防止膜や
帯電防止膜として有用な光学材料用組成物に関する。
し、具体的にはガラスやプラスチックフィルムもしくは
シート上に薄膜コートして用いて、例えばテレビ受像機
や端末ディスプレイ装置などの各種ブラウン管や液晶表
示板のような画像表示板の表面に形成する反射防止膜や
帯電防止膜として有用な光学材料用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラスなどの基体表面に形成され
る透明保護膜や反射防止膜、帯電防止膜などには、シリ
カ粒子、導電性金属酸化物を含有する光学材料用組成物
が用いられている。しかしながら、これら粒子は、通
常、ゾル状態で基体表面にコーティングされるので、溶
媒が除去されたのちにこれら粒子が基体表面から脱落す
ることを防止するために、バインダーを用いて基体表面
との結着力を向上させている。
る透明保護膜や反射防止膜、帯電防止膜などには、シリ
カ粒子、導電性金属酸化物を含有する光学材料用組成物
が用いられている。しかしながら、これら粒子は、通
常、ゾル状態で基体表面にコーティングされるので、溶
媒が除去されたのちにこれら粒子が基体表面から脱落す
ることを防止するために、バインダーを用いて基体表面
との結着力を向上させている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】例えば、バインダーと
してテトラエトキシシランを用いることが提案されてい
る（特開平１−１５４４４４号公報参照）。ところが、
上記バインダーを用いる場合、基体との結着力を向上さ
せるためには長時間の高温処理が必要であり、特にプラ
スチックを基体とする場合には、充分な結着力が得られ
ないだけでなく、耐熱性に劣るプラスチックでは熱変形
してしまうという問題が生じる。
してテトラエトキシシランを用いることが提案されてい
る（特開平１−１５４４４４号公報参照）。ところが、
上記バインダーを用いる場合、基体との結着力を向上さ
せるためには長時間の高温処理が必要であり、特にプラ
スチックを基体とする場合には、充分な結着力が得られ
ないだけでなく、耐熱性に劣るプラスチックでは熱変形
してしまうという問題が生じる。
【０００４】本発明の目的は、上記従来の光学材料用組
成物が有する問題を解決して、２μｍ以下の薄膜状にコ
ーティングしても基体との結着力が良好で、しかも高温
処理を不要として、短時間で硬化反応が完了する光学材
料用組成物を提供することを目的とする。
成物が有する問題を解決して、２μｍ以下の薄膜状にコ
ーティングしても基体との結着力が良好で、しかも高温
処理を不要として、短時間で硬化反応が完了する光学材
料用組成物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
の問題を解決するため種々検討を行った結果、ラジカル
重合にて重合反応が起こるような単量体を用いた場合、
基体との結着力は向上するものの空気中の酸素が重合阻
害を起こして実用に耐えうるフィルム強度が得られない
こと、特に、厚みが２μｍ以下という薄膜状にコーティ
ングした場合にはこのような現象が顕著に現れることが
判明した。
の問題を解決するため種々検討を行った結果、ラジカル
重合にて重合反応が起こるような単量体を用いた場合、
基体との結着力は向上するものの空気中の酸素が重合阻
害を起こして実用に耐えうるフィルム強度が得られない
こと、特に、厚みが２μｍ以下という薄膜状にコーティ
ングした場合にはこのような現象が顕著に現れることが
判明した。
【０００６】そこで、高温加熱が不要である紫外線架橋
型のバインダー成分に着目しさらに検討を重ねた結果、
カチオン重合性の単量体を主成分とするバインダー成分
を用いたところ、シリカを含有させた組成物が短時間で
紫外線カチオン重合を起こすと共に、基体に対して優れ
た結着力を有する薄膜状コーティングが得られることを
見いだした。さらに上記バインダー成分にシリカや導電
性金属酸化物などの微粒子を含有させて基体上に薄膜を
形成しても、該微粒子が脱落することなく基体に結着で
きて、反射防止フィルムや帯電防止フィルムが容易に作
製できることを見い出し、本発明を完成した。
型のバインダー成分に着目しさらに検討を重ねた結果、
カチオン重合性の単量体を主成分とするバインダー成分
を用いたところ、シリカを含有させた組成物が短時間で
紫外線カチオン重合を起こすと共に、基体に対して優れ
た結着力を有する薄膜状コーティングが得られることを
見いだした。さらに上記バインダー成分にシリカや導電
性金属酸化物などの微粒子を含有させて基体上に薄膜を
形成しても、該微粒子が脱落することなく基体に結着で
きて、反射防止フィルムや帯電防止フィルムが容易に作
製できることを見い出し、本発明を完成した。
【０００７】即ち、本発明の光学材料用組成物は、カチ
オン重合性の単量体を主成分とするバインダー成分に、
平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を含有させてなる
ものである。
オン重合性の単量体を主成分とするバインダー成分に、
平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を含有させてなる
ものである。
【０００８】以下、本発明をより詳細に説明する。本発
明のバインダー成分の主成分である主単量体としては、
カチオン重合を起こして樹脂化するものであればいずれ
も使用でき、特に制限されるものではなく、例えばエポ
キシ基やビニルエーテル基などの官能基を有するカチオ
ン重合性単量体が好適に使用できる。
明のバインダー成分の主成分である主単量体としては、
カチオン重合を起こして樹脂化するものであればいずれ
も使用でき、特に制限されるものではなく、例えばエポ
キシ基やビニルエーテル基などの官能基を有するカチオ
ン重合性単量体が好適に使用できる。
【０００９】上記のエポキシ基またはビニルエーテル基
を有するカチオン重合性の単量体としては、具体的には
エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリン
ジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサ
イド、リモネンジオキサイド、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサン
カルボキシレート、ビス−（６−メチル−３，４−エポ
キシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ジエ
チレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリ
コールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメ
タノールジビニルエーテルなどが挙げられる。また、本
発明では、上記単量体の他に下記一般式（１）、（２）
および（３）に示されるシリコーン系単量体を用いるこ
ともできる。
を有するカチオン重合性の単量体としては、具体的には
エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリン
ジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサ
イド、リモネンジオキサイド、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサン
カルボキシレート、ビス−（６−メチル−３，４−エポ
キシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ジエ
チレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリ
コールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメ
タノールジビニルエーテルなどが挙げられる。また、本
発明では、上記単量体の他に下記一般式（１）、（２）
および（３）に示されるシリコーン系単量体を用いるこ
ともできる。
【００１０】
【化１】
【００１１】
【化２】
【００１２】
【化３】
【００１３】上記単量体を主成分とするバインダー成分
には、通常、紫外線重合触媒が配合される。この紫外線
重合触媒としては、一般式ＡｒＮ2 + Ｚ- 、 (Ｒ) 3 Ｓ
+ Ｚ- 、 (Ｒ) 2 Ｉ+ Ｚ- （但し、Ａｒはアリール基、
Ｒはアリール基または炭素数１〜２０のアルキル基、Ｚ
- はＢＦ4 - 、 ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、Ｓ
ｂＣｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ4 - のような非塩基性
かつ非求核性の陰イオンである。）で表されるジアゾニ
ウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウ
ム塩が好適に使用される。
には、通常、紫外線重合触媒が配合される。この紫外線
重合触媒としては、一般式ＡｒＮ2 + Ｚ- 、 (Ｒ) 3 Ｓ
+ Ｚ- 、 (Ｒ) 2 Ｉ+ Ｚ- （但し、Ａｒはアリール基、
Ｒはアリール基または炭素数１〜２０のアルキル基、Ｚ
- はＢＦ4 - 、 ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、Ｓ
ｂＣｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ4 - のような非塩基性
かつ非求核性の陰イオンである。）で表されるジアゾニ
ウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウ
ム塩が好適に使用される。
【００１４】上記オニウム塩は、前記単量体成分１００
重量部に対して、０．１〜２０重量部、好ましくは０．
５〜１０重量部程度配合することが適当である。この配
合量が０．１重量部に満たない場合は、前記単量体の紫
外線重合性に劣るようになり、２０重量％を超えて配合
した場合には、増量効果が認められず不経済であるとと
もに、光学特性の低下をきたす可能性があり好ましくな
い。
重量部に対して、０．１〜２０重量部、好ましくは０．
５〜１０重量部程度配合することが適当である。この配
合量が０．１重量部に満たない場合は、前記単量体の紫
外線重合性に劣るようになり、２０重量％を超えて配合
した場合には、増量効果が認められず不経済であるとと
もに、光学特性の低下をきたす可能性があり好ましくな
い。
【００１５】前記バインダー成分は、例えばこれを成膜
する場合、適当な有機溶媒に溶解してコーティング膜を
形成し、脱溶媒した後に紫外線を照射すると、短時間に
重合反応が完了して容易に成膜がなされる。
する場合、適当な有機溶媒に溶解してコーティング膜を
形成し、脱溶媒した後に紫外線を照射すると、短時間に
重合反応が完了して容易に成膜がなされる。
【００１６】本発明の光学材料用組成物は、上記バイン
ダー成分に平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を含有
させてなるものである。上記微粒子の平均粒径が５ｎｍ
未満の場合は、微粒子が凝集し易くなって光学材料用組
成物を基体表面にコーティングすることが困難となり、
コーティングできたとしても不均一なコーティングとな
り好ましくない。一方、平均粒径が１０μｍを超えると
成膜した場合、フィルムに濁りが生じて透光性が悪くな
り、例えば画像表示板への適用には不向きとなる。
ダー成分に平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒子を含有
させてなるものである。上記微粒子の平均粒径が５ｎｍ
未満の場合は、微粒子が凝集し易くなって光学材料用組
成物を基体表面にコーティングすることが困難となり、
コーティングできたとしても不均一なコーティングとな
り好ましくない。一方、平均粒径が１０μｍを超えると
成膜した場合、フィルムに濁りが生じて透光性が悪くな
り、例えば画像表示板への適用には不向きとなる。
【００１７】このような微粒子としては、例えばシリカ
および／または導電性金属酸化物を用いることができ、
シリカを用いた場合には反射防止フィルムなどの光学用
フィルムに好適であり、導電性金属酸化物を用いた場合
には帯電防止フィルムなどの光学用フィルムに好適なも
のとなる。導電性金属酸化物としては、ＳｎＯ2 、Ｉｎ
2 Ｏ3 、Ｓｂ3 Ｏ3 や、ＳｎＯ2 にアンチモンやフッ素
がドープした酸化物、Ｉｎ2 Ｏ3 にスズがドープした金
属酸化物などを用いることができる。なお、この微粒子
として１次粒子を使用すると、凝集塊がなくバインダー
成分中に均一に分散できて好ましい。
および／または導電性金属酸化物を用いることができ、
シリカを用いた場合には反射防止フィルムなどの光学用
フィルムに好適であり、導電性金属酸化物を用いた場合
には帯電防止フィルムなどの光学用フィルムに好適なも
のとなる。導電性金属酸化物としては、ＳｎＯ2 、Ｉｎ
2 Ｏ3 、Ｓｂ3 Ｏ3 や、ＳｎＯ2 にアンチモンやフッ素
がドープした酸化物、Ｉｎ2 Ｏ3 にスズがドープした金
属酸化物などを用いることができる。なお、この微粒子
として１次粒子を使用すると、凝集塊がなくバインダー
成分中に均一に分散できて好ましい。
【００１８】本発明における上記微粒子の配合量は、前
記バインダー成分１００重量部に対して０．１〜１００
０重量部、好ましくは１〜５００重量部の範囲が適当で
ある。この配合量が０．１重量部未満の場合は、光学特
性の向上が充分ではなく、一方、１０００重量部を超え
て配合した場合には、コーティングした塗膜から微粒子
が脱落しやすくなり、特に、擦れによって微粒子が容易
に脱落するようになるので好ましくない。
記バインダー成分１００重量部に対して０．１〜１００
０重量部、好ましくは１〜５００重量部の範囲が適当で
ある。この配合量が０．１重量部未満の場合は、光学特
性の向上が充分ではなく、一方、１０００重量部を超え
て配合した場合には、コーティングした塗膜から微粒子
が脱落しやすくなり、特に、擦れによって微粒子が容易
に脱落するようになるので好ましくない。
【００１９】本発明の光学材料用組成物は、例えば以下
の方法によって調製できる。まず、任意の分散媒に上記
微粒子を分散し、ついでこれに前記カチオン重合性の単
量体を添加し、必要に応じて基体との結着力を向上させ
るためのシランカップリング剤などの各種添加剤の任意
量を添加し、これを充分に混合することによって調製で
きる。この場合、基体へのコーティング作業性の観点か
ら、分散媒中での固形分濃度を０．１〜５０重量％程度
に調製することが好ましい。
の方法によって調製できる。まず、任意の分散媒に上記
微粒子を分散し、ついでこれに前記カチオン重合性の単
量体を添加し、必要に応じて基体との結着力を向上させ
るためのシランカップリング剤などの各種添加剤の任意
量を添加し、これを充分に混合することによって調製で
きる。この場合、基体へのコーティング作業性の観点か
ら、分散媒中での固形分濃度を０．１〜５０重量％程度
に調製することが好ましい。
【００２０】上記分散媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、グ
リセリンなどの１価または多価アルコール類、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類などが用いられる。
ール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、グ
リセリンなどの１価または多価アルコール類、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類などが用いられる。
【００２１】本発明の光学材料用組成物は、ファウンテ
ンコータや含浸コータ、ビードコータなどを用いた各種
コーティングや、スプレーコーティング、ディップコー
ティングなどの方法によって、ガラスや各種プラスチッ
クからなる基体上にコーティングし、加熱などの手段に
て溶媒を除去、乾燥して薄膜を形成し、ついでその上か
ら高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどの適当な
紫外線源によって紫外線を照射すると、膜中のバインダ
ー成分がカチオン重合されて透明保護膜や反射防止膜、
帯電防止膜などの光学用フィルムを作製することができ
る。なお、この光学用フィルムは上記のように直接基体
上に形成するか、または、別に光学用フィルムを作製
し、これを基体に貼付けるようにしてもよい。
ンコータや含浸コータ、ビードコータなどを用いた各種
コーティングや、スプレーコーティング、ディップコー
ティングなどの方法によって、ガラスや各種プラスチッ
クからなる基体上にコーティングし、加熱などの手段に
て溶媒を除去、乾燥して薄膜を形成し、ついでその上か
ら高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどの適当な
紫外線源によって紫外線を照射すると、膜中のバインダ
ー成分がカチオン重合されて透明保護膜や反射防止膜、
帯電防止膜などの光学用フィルムを作製することができ
る。なお、この光学用フィルムは上記のように直接基体
上に形成するか、または、別に光学用フィルムを作製
し、これを基体に貼付けるようにしてもよい。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の光学材料用組成物について、
実施例を挙げて具体的に説明する。 実施例１ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン９８重量％と、ヨードニウム塩系カチオン
重合触媒（ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキ
サフルオロアンチモネート）２重量％からなるバインダ
ー成分６重量部を、シリカ微粒子（平均粒径１００ｎ
ｍ、粒径分布７０〜１３０ｎｍ）をｎ−ブタノールに６
重量％濃度で分散させた分散液１００重量部に添加し、
充分に攪拌混合して光学材料用組成物を調製した。
実施例を挙げて具体的に説明する。 実施例１ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン９８重量％と、ヨードニウム塩系カチオン
重合触媒（ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキ
サフルオロアンチモネート）２重量％からなるバインダ
ー成分６重量部を、シリカ微粒子（平均粒径１００ｎ
ｍ、粒径分布７０〜１３０ｎｍ）をｎ−ブタノールに６
重量％濃度で分散させた分散液１００重量部に添加し、
充分に攪拌混合して光学材料用組成物を調製した。
【００２３】比較例１ 実施例１において、バインダー成分をラジカル重合性の
ウレタンアクリレート（商品名アロニックスＭ−１１０
０、東亜合成化学社製）９５重量％、および重合触媒
（商品名イルガキュア１８４、チバガイギー社製）５重
量％からなるバインダー成分にかえる以外はすべて同様
にして光学材料用組成物を調製した。
ウレタンアクリレート（商品名アロニックスＭ−１１０
０、東亜合成化学社製）９５重量％、および重合触媒
（商品名イルガキュア１８４、チバガイギー社製）５重
量％からなるバインダー成分にかえる以外はすべて同様
にして光学材料用組成物を調製した。
【００２４】実施例２ 実施例１において、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシランの代わりに、３，４−
エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレートを用い、ヨードニウム
塩系カチオン重合触媒の代わりに、スルホニウム塩系カ
チオン重合触媒（ビス−〔４−（ジフェニルスルホニ
オ）フェニル〕スルフィド−ビスヘキサフルオロフォス
フェート）を用いた以外はすべて同様にして光学材料用
組成物を調製した。
シル）エチルトリメトキシシランの代わりに、３，４−
エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレートを用い、ヨードニウム
塩系カチオン重合触媒の代わりに、スルホニウム塩系カ
チオン重合触媒（ビス−〔４−（ジフェニルスルホニ
オ）フェニル〕スルフィド−ビスヘキサフルオロフォス
フェート）を用いた以外はすべて同様にして光学材料用
組成物を調製した。
【００２５】実施例３ 実施例１において、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシランの代わりに、トリエチ
レングリコールジビニルエーテルを用いる以外はすべて
同様にして光学材料用組成物を調製した。
シル）エチルトリメトキシシランの代わりに、トリエチ
レングリコールジビニルエーテルを用いる以外はすべて
同様にして光学材料用組成物を調製した。
【００２６】実施例４ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン９８重量％と、ヨードニウム系カチオン重
合触媒（ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート）２重量％からなるバインダー
成分２０重量部を、ＳｎＯ2 微粒子をメチルイソブチル
ケトンに２０重量％濃度で分散させた分散液１００重量
部に添加し、充分に攪拌混合して光学材料用組成物を調
製した。
トキシシラン９８重量％と、ヨードニウム系カチオン重
合触媒（ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート）２重量％からなるバインダー
成分２０重量部を、ＳｎＯ2 微粒子をメチルイソブチル
ケトンに２０重量％濃度で分散させた分散液１００重量
部に添加し、充分に攪拌混合して光学材料用組成物を調
製した。
【００２７】実施例５ シリカ微粒子（平均粒径１００ｎｍ、粒径分布７０〜１
３０ｎｍ）をｎ−ブタノールに６重量％濃度で分散させ
た分散液１００重量部に、ＳｎＯ2 微粒子をｎ−ブタノ
ールに３０重量％濃度で分散させた分散液５０重量部を
攪拌混合して、さらに２−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン９８重量％とヨード
ニウム塩系カチオン重合触媒（ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）２重
量％からなるバインダー成分２０重量部を攪拌混合して
光学材料用組成物を調製した。
３０ｎｍ）をｎ−ブタノールに６重量％濃度で分散させ
た分散液１００重量部に、ＳｎＯ2 微粒子をｎ−ブタノ
ールに３０重量％濃度で分散させた分散液５０重量部を
攪拌混合して、さらに２−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン９８重量％とヨード
ニウム塩系カチオン重合触媒（ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）２重
量％からなるバインダー成分２０重量部を攪拌混合して
光学材料用組成物を調製した。
【００２８】〔実験例〕 （成膜方法）上記各実施例および比較例で調製した光学
材料用組成物を、次に示す方法で光学用フィルムを作製
した。８０μｍ厚のトリアセテートフィルム表面にディ
ッピング法によってコーティングして、５０℃で約３分
間乾燥して溶媒を揮散させて０．１μｍ厚の薄膜を形成
した。次いで、薄膜上から高圧水銀ランプによって紫外
線を照射し、紫外線重合を行って光学用フィルムを作製
した。なお、上記基体として用いたトリアセテートフィ
ルム（８０μｍ厚さ）単独の反射率は３．９％であっ
た。また、実施例４の光学材料用組成物は、ディッピン
グ法にかえてワイヤーバーコータ（No.3）を用いてコー
ティングした後、上記と同様にして光学用フィルムを作
製した。また、紫外線照射は表１に示すエネルギー量で
行った。
材料用組成物を、次に示す方法で光学用フィルムを作製
した。８０μｍ厚のトリアセテートフィルム表面にディ
ッピング法によってコーティングして、５０℃で約３分
間乾燥して溶媒を揮散させて０．１μｍ厚の薄膜を形成
した。次いで、薄膜上から高圧水銀ランプによって紫外
線を照射し、紫外線重合を行って光学用フィルムを作製
した。なお、上記基体として用いたトリアセテートフィ
ルム（８０μｍ厚さ）単独の反射率は３．９％であっ
た。また、実施例４の光学材料用組成物は、ディッピン
グ法にかえてワイヤーバーコータ（No.3）を用いてコー
ティングした後、上記と同様にして光学用フィルムを作
製した。また、紫外線照射は表１に示すエネルギー量で
行った。
【００２９】（フィルム性状）上記で作製された各光学
用フィルムのフィルム性状は、表１に示す通りであっ
た。なお、反射率の測定には分光光度計を用い、フィル
ム面上から垂直に５５０ｎｍの波長の光を入射させ、そ
の反射光を積分球にて測定した。また、実施例４〜５の
光学材料用組成物によるフィルムの表面抵抗率は、微少
電流計を用いて測定した。
用フィルムのフィルム性状は、表１に示す通りであっ
た。なお、反射率の測定には分光光度計を用い、フィル
ム面上から垂直に５５０ｎｍの波長の光を入射させ、そ
の反射光を積分球にて測定した。また、実施例４〜５の
光学材料用組成物によるフィルムの表面抵抗率は、微少
電流計を用いて測定した。
【００３０】
【表１】
【００３１】上記表１から明らかなように、実施例の光
学材料用組成物から作製される光学用フィルムは、微粒
子としてシリカ微粒子を用いたものは、いずれも防眩性
に優れており、反射防止フィルムとして有用なものであ
った。また、微粒子としてＳｎＯ2 微粒子を用いたもの
は、いずれも表面抵抗率が低下して帯電防止フィルムと
して有用なものであった。
学材料用組成物から作製される光学用フィルムは、微粒
子としてシリカ微粒子を用いたものは、いずれも防眩性
に優れており、反射防止フィルムとして有用なものであ
った。また、微粒子としてＳｎＯ2 微粒子を用いたもの
は、いずれも表面抵抗率が低下して帯電防止フィルムと
して有用なものであった。
【００３２】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の光学材料
用組成物は、カチオン重合性の単量体を主成分とするバ
インダー成分を用いているので、紫外線を照射すると短
時間で紫外線重合がなされ、組成物中に含有するシリカ
や導電性金属酸化物などの微粒子の結着力を向上させて
成膜がなされるので、高温処理を不要とし、さらに２μ
ｍ以下の薄膜状にコーティングしても基体との結着力が
良好な透明フィルムを容易に形成できるようになる。ま
た、バインダー成分に平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微
粒子を含有させているので、反射防止や帯電防止機能を
付与できる。したがって、耐熱性のあるガラス等の材料
は勿論のこと、耐熱性のないプラスチック等の材料にも
透明保護膜や反射防止膜、帯電防止膜等の光学用フィル
ムを容易に形成できるようになる。
用組成物は、カチオン重合性の単量体を主成分とするバ
インダー成分を用いているので、紫外線を照射すると短
時間で紫外線重合がなされ、組成物中に含有するシリカ
や導電性金属酸化物などの微粒子の結着力を向上させて
成膜がなされるので、高温処理を不要とし、さらに２μ
ｍ以下の薄膜状にコーティングしても基体との結着力が
良好な透明フィルムを容易に形成できるようになる。ま
た、バインダー成分に平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微
粒子を含有させているので、反射防止や帯電防止機能を
付与できる。したがって、耐熱性のあるガラス等の材料
は勿論のこと、耐熱性のないプラスチック等の材料にも
透明保護膜や反射防止膜、帯電防止膜等の光学用フィル
ムを容易に形成できるようになる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 163/00 ＰＪＰ 8830−4Ｊ ＰＫＢ 8830−4Ｊ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５０５ 9225−2Ｋ (72)発明者 朝尾 浩幸 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 カチオン重合性の単量体を主成分とする
バインダー成分に、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの微粒
子を含有させてなる光学材料用組成物。 - 【請求項２】 カチオン重合性の単量体が、エポキシ基
および／またはビニルエーテル基を有するものである請
求項１記載の光学材料用組成物。 - 【請求項３】 微粒子がシリカおよび／または導電性金
属酸化物である請求項１記載の光学材料用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34143992A JP3207000B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 光学材料用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34143992A JP3207000B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 光学材料用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06157819A true JPH06157819A (ja) | 1994-06-07 |
| JP3207000B2 JP3207000B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=18346092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34143992A Expired - Lifetime JP3207000B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 光学材料用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3207000B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012965A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明低反射導電性被膜形成用塗布液、透明低反射導電性被膜付基材および表示装置 |
| US6508959B1 (en) * | 2001-05-29 | 2003-01-21 | The Regents Of The University Of California | Preparation of energy storage materials |
| US6743510B2 (en) | 2001-11-13 | 2004-06-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition comprising a cationic polymerization compound and coating obtained from the same |
| JP2004285248A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 |
| WO2016021535A1 (ja) * | 2014-08-08 | 2016-02-11 | 横浜ゴム株式会社 | 導電性組成物、太陽電池セルおよび太陽電池モジュール |
-
1992
- 1992-11-26 JP JP34143992A patent/JP3207000B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6508959B1 (en) * | 2001-05-29 | 2003-01-21 | The Regents Of The University Of California | Preparation of energy storage materials |
| JP2003012965A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明低反射導電性被膜形成用塗布液、透明低反射導電性被膜付基材および表示装置 |
| US6743510B2 (en) | 2001-11-13 | 2004-06-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition comprising a cationic polymerization compound and coating obtained from the same |
| JP2004285248A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 |
| JP4517580B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2010-08-04 | 住友化学株式会社 | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 |
| WO2016021535A1 (ja) * | 2014-08-08 | 2016-02-11 | 横浜ゴム株式会社 | 導電性組成物、太陽電池セルおよび太陽電池モジュール |
| JPWO2016021535A1 (ja) * | 2014-08-08 | 2017-05-18 | 横浜ゴム株式会社 | 導電性組成物、太陽電池セルおよび太陽電池モジュール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3207000B2 (ja) | 2001-09-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5504133A (en) | Composition for forming conductive films | |
| JP3351666B2 (ja) | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 | |
| JP2006139254A (ja) | 反射防止塗料、これによって形成される反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| JP2007009079A (ja) | 光学用コーティング組成物 | |
| JP3120916B2 (ja) | 低反射部材 | |
| JP4872142B2 (ja) | 帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び帯電防止性反射防止積層体 | |
| CN103781804A (zh) | 有机无机复合体及其形成用组合物 | |
| EP0574274B1 (en) | Coating composition | |
| JP2007084605A (ja) | 熱線遮蔽性コーティング組成物 | |
| JP4759780B2 (ja) | 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 | |
| JP3207000B2 (ja) | 光学材料用組成物 | |
| JP5696581B2 (ja) | 帯電防止ハードコート塗材及び光学部材 | |
| JP5837292B2 (ja) | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜、及び反射防止フィルム | |
| JP2011132343A (ja) | 帯電防止ハードコート塗材及び光学部材 | |
| JPH11211901A (ja) | 反射防止性物品 | |
| CN114836126A (zh) | 亲水防雾涂料及制备方法、保护膜及制备方法 | |
| JPH07305000A (ja) | 帯電防止被覆用組成物 | |
| JP2734276B2 (ja) | 光硬化性被覆用組成物の硬化皮膜の形成方法 | |
| JPH06184470A (ja) | 導電塗料組成物及び導電塗膜の製造法 | |
| JP3818836B2 (ja) | 被膜形成用組成物 | |
| JPH0641519A (ja) | 防曇性コ−テイング組成物 | |
| TWI726054B (zh) | 透明被膜形成用塗布液及附有透明被膜之基材 | |
| JP2003145682A (ja) | 硬化被膜を有する透明基材 | |
| JP2003036729A (ja) | 導電性材料 | |
| JP3084723B2 (ja) | 高分子固体電解質およびその製造方法およびそれからなるコーティング膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |