JPH06121525A - 基板バイアス発生装置 - Google Patents

基板バイアス発生装置

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Publication number
JPH06121525A
JPH06121525A JP4268956A JP26895692A JPH06121525A JP H06121525 A JPH06121525 A JP H06121525A JP 4268956 A JP4268956 A JP 4268956A JP 26895692 A JP26895692 A JP 26895692A JP H06121525 A JPH06121525 A JP H06121525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
channel mos
ring oscillator
substrate bias
bias generator
mos transistors
Prior art date
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Pending
Application number
JP4268956A
Other languages
English (en)
Inventor
Takaharu Tsuji
高晴 辻
Akio Nakayama
明男 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH06121525A publication Critical patent/JPH06121525A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 必要とされる負電圧発生能力に応じて外部か
らの切替え信号によりリングオッシレータ10Aの発振
周期を変化させる基板バイアス発生装置を得る。 【構成】 リングオッシレータを構成する各Nチャネル
MOSトランジスタ1a,1b,1nのアース側に並列
接続NチャネルMOSトランジスタ4a−5a,4b−
5b,4n−5nを接続すると共に、各PチャネルMO
Sトランジスタ2a,2b,2nの電源側に並列接続P
チャネルMOSトランジスタ6a−7a,6b−7b,
6n−7nを接続した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、DRAM等の半導体
装置の基板に負電位を基板バイアスとして供給するため
の基板バイアス発生装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の基板バイアス発生装置の
構成を示す回路図である。図において、1a,1b,1
nはNチャネルMOSトランジスタ、2a,2b,2n
はPチャネルMOSトランジスタ、3は電源、10はリ
ングオッシレータであって、電源3とアースの間で直列
に接続されたトランジスタ2aと1a、2bと1b,2
nと1nから成るインバータをn個この場合は3個リン
グ状に接続したものである。従って、トランジスタ2n
と1nの接続点は接続点Aを介してトランジスタ2a及
び1aのゲートに接続されている。20はチャージポン
プ回路であって、リングオッシレータ10中の接続点A
に一端が接続されたコンデンサ21と、このコンデンサ
21の他端にゲートと例えばドレインが接続され且つソ
ースがアースされたNチャネルMOSトランジスタ22
と、例えばソースが接続点Bでコンデンサ21の他端に
接続され且つゲートとドレインがノード24に接続され
たNチャネルMOSトランジスタ23とで構成されてい
る。
【0003】従来の基板バイアス発生装置は上述したよ
うに構成されており、その動作を、図3の波形図を参照
しながら以下に詳しく説明する。電源3=Vccの投入時
点では接続点Aの電位がローレベル=GNDにあるの
で、このローレベルによってPチャネルMOSトランジ
スタ2aがターンオンされ、その結果NチャネルMOS
トランジスタ1b、PチャネルMOSトランジスタ2n
が逐次ターンオンされ、接続点Aの電位はハイレベル=
ccまで上がる。その後間もなくコンデンサ21の分極
作用により接続点Bの電位がVccになるのでNチャネル
MOSトランジスタ22はターンオンされ、接続点Bの
電位は下がる。しかしながら、NチャネルMOSトラン
ジスタ22のしきい値電位Vthのために、接続点Bの電
位はVthにおいて一定になる。この間、NチャネルMO
Sトランジスタ23がオフであるので、ノード24の電
位はGNDに留る。
【0004】その後接続点Aのハイレベルによって今度
はNチャネルMOSトランジスタ1aがターンオンさ
れ、その結果PチャネルMOSトランジスタ2b、Nチ
ャネルMOSトランジスタ1nが逐次ターンオンされ、
接続点Aの電位はローレベルに下がる。そうすると、接
続点Bの電位がVth−VccになるのでNチャネルMOS
トランジスタ23はターンオンされ、これによりノード
24の電位はマイナス側に引っ張られてGNDから下が
る。その後間もなく接続点Bの電位はVthのためにGN
Dより低い或る電位において一定になる。この間、Nチ
ャネルMOSトランジスタ22はオフである。
【0005】その後、上述した動作サイクルを繰り返す
ことによりリングオッシレータ10が一定の周期をもつ
パルスを発生すると、接続点Aの電位はハイレベルをV
ccそしてローレベルをGNDとするパルスになり、接続
点Bの電位はハイレベルをVthそしてローレベルをVth
−Vccとするパルスになる。更に、ノード24の電位は
接続点Aがローレベルになる毎に1ステップ低下して最
終的に(Vth−Vcc)+Vth=2Vth−Vccになり、こ
の負電位がチャージポンプ回路20から基板(図示しな
い)に供給されるのである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の基
板バイアス発生装置では、リングオッシレータの発振周
期が一定であるので、この発振周期により定められるチ
ャージポンプ回路の単位時間当りの動作回数も一定とな
るため、負電圧発生能力及び消費電流も一定となる。し
たがって、この基板バイアス発生装置を外部信号によっ
てリフレッシュサイクルの切替えを行うDRAMに適用
した場合、リフレッシュサイクルの変化に応じて負電圧
発生能力が変わるにもかかわらず、従来の基板バイアス
発生装置では一定の能力でしか負電圧を供給できず、負
電圧発生能力が少なくてもよい場合に必要以上の消費電
流が流れるという問題点があった。
【0007】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたもので、外部からの切替え信号により、
リングオッシレータの発振周期を変化させることのでき
る基板バイアス発生装置を得ることを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る基板バイ
アス発生装置は、外部からの切替え信号によって発振周
期が変化させられるリングオッシレータを用いたもので
ある。
【0009】
【作用】この発明における基板バイアス発生装置は、外
部からの切替え信号によりリングオッシレータの発振周
期を変化させ、負電圧発生能力が小さくてもよい場合に
チャージポンプ回路の単位時間当りの動作回数を減少さ
せて消費電流を小さくする。
【0010】
【実施例】実施例1.図1は、この発明の一実施例を示
す回路図である。図において、1a〜1n,2a〜2
n,3,20〜24は従来装置におけるものと同じであ
る。リングオッシレータ10Aは、NチャネルMOSト
ランジスタ1a〜1n、PチャネルMOSトランジスタ
2a〜2n、電源3に加えて、各NチャネルMOSトラ
ンジスタ1a,1b,1nとアースの間で互いに並列に
接続されたNチャネルMOSトランジスタ4a及び5
a,4b及び5b,4n及び5n、並びに電源3と各P
チャネルMOSトランジスタ2a,2b,2nとの間で
互いに並列に接続されたPチャネルMOSトランジスタ
6a及び7a,6b及び7b,6n及び7nを有してい
る。なお、NチャネルMOSトランジスタ4a及びPチ
ャネルMOSトランジスタ6aのゲートは接続点Aに接
続され、NチャネルMOSトランジスタ5a〜5nのゲ
ートは外部からのリフレッシュサイクル切替え信号φが
入力される信号線31に接続され、そしてPチャネルM
OSトランジスタ7a〜7nのゲートは切替え信号φの
反転信号が入力される信号線32に接続されている。信
号線31,32にはインバータ30のそれぞれ入力側、
出力側が接続されている。
【0011】上述したように構成された基板バイアス発
生装置では、外部からの切替え信号φがハイレベルの時
には、このハイレベルによってNチャネルMOSトラン
ジスタ5a,5b,5nがオンになり且つインバータ3
0によるローレベルによってPチャネルMOSトランジ
スタ7a,7b,7nがオンになるので、リングオッシ
レータ10Aは図2に示した従来のリングオッシレータ
10と同様にNチャネルMOSトランジスタ1a〜1n
とPチャネルMOSトランジスタ2a〜2nとのみで動
作することになる。しかしながら、切替え信号φがロー
レベルになる時には、上述したNチャネルMOSトラン
ジスタ5a〜5n及びPチャネルMOSトランジスタ7
a〜7nがオフになるため、リングオッシレータ10A
はNチャネルMOSトランジスタ4A〜4n及びPチャ
ネルMOSトランジスタ6a〜6nを介して動作するこ
とになる。これは、切替え信号φがハイレベルの時に比
べてローレベルの時にはゲート長の長いMOSトランジ
スタを用いたことになり、その結果リングオッシレータ
10Aの発振周期も切替え信号φがローレベルの時には
ハイレベルの時よりも長くなる。
【0012】次に、このリングオッシレータ10Aの出
力パルスを受けて、チャージポンプ回路20は従来の技
術の項において説明した動作と同じ動作を行うが、外部
からの切替え信号φによってリングオッシレータ10A
の発振周期が長くされるのに応じて、チャージポンプ回
路20の単位時間当りの動作回数も減少し、負電圧発生
能力も消費電力も減少する。
【0013】実施例2.図1には並列接続された1組の
NチャネルMOSトランジスタ4a−5a,4b−5
b,4n−5n及びPチャネルMOSトランジスタ6a
−7a,6b−7b,6n−7nしか示さなかったが、
これらを複数組直列接続すれば更に発振周期を長くで
き、ひいては不要な電力を消費しなくても済む。
【0014】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように外部か
らの切替え信号によって発振周期が変化させられるリン
グオッシレータを用いたので、チャージポンプ回路の単
位時間当りの動作回数を減少させ、回路全体の消費電流
や消費電力を少なくできるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す回路図である。
【図2】従来の基板バイアス発生装置を示す回路図であ
る。
【図3】図2の基板バイアス発生装置の動作説明用波形
図である。
【符号の説明】
10A リングオッシレータ 20 チャージポンプ回路 φ 外部からの切替え信号

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部からの切替え信号によって発振周期
    が変化させられるリングオッシレータと、このリングオ
    ッシレータの出力に基づいて負電位を発生し且つ基板に
    供給するチャージポンプ回路とを備えたことを特徴とす
    る基板バイアス発生装置。
JP4268956A 1992-10-07 1992-10-07 基板バイアス発生装置 Pending JPH06121525A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4268956A JPH06121525A (ja) 1992-10-07 1992-10-07 基板バイアス発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4268956A JPH06121525A (ja) 1992-10-07 1992-10-07 基板バイアス発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06121525A true JPH06121525A (ja) 1994-04-28

Family

ID=17465638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4268956A Pending JPH06121525A (ja) 1992-10-07 1992-10-07 基板バイアス発生装置

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JP (1) JPH06121525A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008259420A (ja) * 1996-07-29 2008-10-23 Hynix Semiconductor Inc 半導体基板用のチャージポンプ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008259420A (ja) * 1996-07-29 2008-10-23 Hynix Semiconductor Inc 半導体基板用のチャージポンプ

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