JPH06116425A - 透明導電性フィルムの製造方法 - Google Patents
透明導電性フィルムの製造方法Info
- Publication number
- JPH06116425A JPH06116425A JP4271348A JP27134892A JPH06116425A JP H06116425 A JPH06116425 A JP H06116425A JP 4271348 A JP4271348 A JP 4271348A JP 27134892 A JP27134892 A JP 27134892A JP H06116425 A JPH06116425 A JP H06116425A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- transparent conductive
- roll
- substrate
- conductive film
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 長尺の高分子フィルムを基材とし、該基材の
両面にシランカップリング剤を含むエポキシアクリレー
ト紫外線硬化樹脂をコーティングし透明導電性フィルム
用基板をロール・ツ・ロール方式で移送しながら真空中
で連続的に透明導電性薄膜を形成する透明導電性フィル
ムの製造方法。 【効果】 変形やしわ等のない外観の良好な透明導電性
フィルムの製造が可能となる。
両面にシランカップリング剤を含むエポキシアクリレー
ト紫外線硬化樹脂をコーティングし透明導電性フィルム
用基板をロール・ツ・ロール方式で移送しながら真空中
で連続的に透明導電性薄膜を形成する透明導電性フィル
ムの製造方法。 【効果】 変形やしわ等のない外観の良好な透明導電性
フィルムの製造が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高分子フィルム基板上
にロール・ツ・ロールで連続的に真空中で透明導電性薄
膜を形成した透明導電性フィルムの改良に関するもので
ある。
にロール・ツ・ロールで連続的に真空中で透明導電性薄
膜を形成した透明導電性フィルムの改良に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】透明導電性フィルムは、液晶表示パネル
の材料として注目されて、既に多くの特許が出願されて
いる。例えば、特開昭５９−６５０７２号公報には、紫
外線硬化樹脂コーティング層を有する透明導電性フィル
ムについてのものが開示されている。このような蒸着、
スパッタ、イオンプレーティング等の薄膜形成方法によ
って形成される透明導電性薄膜は、厚みが０．１μｍ以
上である従来の溶剤希釈塗布型透明導電性フィルムに対
して同等以上の特性を示している。しかしながら、形成
される透明導電性薄膜が薄くバインダー等の薄膜中への
添加が困難なことから、高分子フィルムと透明導電性薄
膜との密着力を向上させるために該コーティングが必要
なことがわかってきており、さらに、表面の５μｍ以上
の突起は、液晶パネルの表示欠点の原因となりフィルム
表面は極力平滑でなければならないことがわかってき
た。一方、基板に高分子フィルムを用いる場合、フィル
ム巻取り、巻出し、ドラム上の走行といったハンドリン
グの観点から、フィルムが平滑であるほどフィルム−フ
ィルム相互の滑り性が悪く、片面（透明導電性薄膜側）
のみに該コーティングが施してあると帯電しやすく、ブ
ロッキング現象が発生し透明性導電薄膜形成時１００〜
２００℃の高温になることら基板は変形し製品になり得
ない。そのため、フィルム同士がブロッキングしない程
度に表面が粗であることが要求されている。液晶パネル
用途に要求される平滑性を向上させようとるれば、その
フィルムは変形し製品になり得ないという問題があっ
た。
の材料として注目されて、既に多くの特許が出願されて
いる。例えば、特開昭５９−６５０７２号公報には、紫
外線硬化樹脂コーティング層を有する透明導電性フィル
ムについてのものが開示されている。このような蒸着、
スパッタ、イオンプレーティング等の薄膜形成方法によ
って形成される透明導電性薄膜は、厚みが０．１μｍ以
上である従来の溶剤希釈塗布型透明導電性フィルムに対
して同等以上の特性を示している。しかしながら、形成
される透明導電性薄膜が薄くバインダー等の薄膜中への
添加が困難なことから、高分子フィルムと透明導電性薄
膜との密着力を向上させるために該コーティングが必要
なことがわかってきており、さらに、表面の５μｍ以上
の突起は、液晶パネルの表示欠点の原因となりフィルム
表面は極力平滑でなければならないことがわかってき
た。一方、基板に高分子フィルムを用いる場合、フィル
ム巻取り、巻出し、ドラム上の走行といったハンドリン
グの観点から、フィルムが平滑であるほどフィルム−フ
ィルム相互の滑り性が悪く、片面（透明導電性薄膜側）
のみに該コーティングが施してあると帯電しやすく、ブ
ロッキング現象が発生し透明性導電薄膜形成時１００〜
２００℃の高温になることら基板は変形し製品になり得
ない。そのため、フィルム同士がブロッキングしない程
度に表面が粗であることが要求されている。液晶パネル
用途に要求される平滑性を向上させようとるれば、その
フィルムは変形し製品になり得ないという問題があっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので非常に平滑でかつ該コーティング
を有する高分子フィルムを基板として安定してロール・
ツ・ロールで連続的に透明導電性薄膜を形成することが
でき、しわ等の変形が生じない透明導電性フィルムの製
造方法を提供することにある。
に鑑みなされたもので非常に平滑でかつ該コーティング
を有する高分子フィルムを基板として安定してロール・
ツ・ロールで連続的に透明導電性薄膜を形成することが
でき、しわ等の変形が生じない透明導電性フィルムの製
造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上述の目的は、下記の本
発明により達成される。即ち、本発明は、長尺の高分子
フィルムを基材とし、該基材の両面にシランカップリン
グ剤を含むエポキシアクリレート紫外線硬化樹脂をコー
ティングし透明導電性フィルム用基板をロール・ツ・ロ
ール方式で移送しながら真空中で連続的に透明導電性薄
膜を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製
造方法である。なお、ロール・ツ・ロール方式とは、ロ
ール状にした基板を巻だしつつ移送させ再びロール状に
巻き上げる移送方式である。ところで、上述の発明は、
表面が非常に平滑で該コーティングを施した高分子フィ
ルムを基板とした場合でも基板の両面に該コーティング
を施せば、ロール状にしても真空中でも安定した取扱が
でき、高分子フィルム基板を温調した支持体と密着させ
て温度制御可能にすれば、安定した透明導電性薄膜の形
成ができることを見いだした。
発明により達成される。即ち、本発明は、長尺の高分子
フィルムを基材とし、該基材の両面にシランカップリン
グ剤を含むエポキシアクリレート紫外線硬化樹脂をコー
ティングし透明導電性フィルム用基板をロール・ツ・ロ
ール方式で移送しながら真空中で連続的に透明導電性薄
膜を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製
造方法である。なお、ロール・ツ・ロール方式とは、ロ
ール状にした基板を巻だしつつ移送させ再びロール状に
巻き上げる移送方式である。ところで、上述の発明は、
表面が非常に平滑で該コーティングを施した高分子フィ
ルムを基板とした場合でも基板の両面に該コーティング
を施せば、ロール状にしても真空中でも安定した取扱が
でき、高分子フィルム基板を温調した支持体と密着させ
て温度制御可能にすれば、安定した透明導電性薄膜の形
成ができることを見いだした。
【０００５】従来表面の平滑なフィルムを巻取るための
方法として、そのＴＤ方向の端部に凹凸加工する方法が
よく知られている。しかしながら、平滑で片面のみに該
コーティングを施したため帯電しやすい高分子フィルム
基板は、加熱ロール、温調ドラム等の支持体全体に密着
固定される。そのため、支持体と接触する際生じるしわ
や波うちは解放されず、高分子フィルム基板は支持体の
うえで浮き上がった状態で透明導電性薄膜が形成され永
久変形を起こすとともにロール状に巻取られる際に形成
した透明導電性薄膜に傷やクラック等の欠点が発生する
問題があることが見いだされた。しかしながら、本発明
者らは、以下の通り解決可能なことを見いだしたもので
ある。即ち、高分子フィルムの両面に該コーティングを
施すことにより基板フィルム帯電量が減少し、ロール状
の基板フィルムを巻出す際に必要な張力が約２０％減少
し、その振れは半分以下になる。そのため、フィルム走
行は安定し加熱ロールやドラム等の支持体と接触する際
生じるしわや波うちは、その高さ本数ともに３０％以上
改善された。それに加えて、帯電による支持体と基板フ
ィルム間に働く力も半減されて支持体上で発生したしわ
や波うちは、基板フィルムにかかる張力により解放され
完全に解消されることを見いだした。
方法として、そのＴＤ方向の端部に凹凸加工する方法が
よく知られている。しかしながら、平滑で片面のみに該
コーティングを施したため帯電しやすい高分子フィルム
基板は、加熱ロール、温調ドラム等の支持体全体に密着
固定される。そのため、支持体と接触する際生じるしわ
や波うちは解放されず、高分子フィルム基板は支持体の
うえで浮き上がった状態で透明導電性薄膜が形成され永
久変形を起こすとともにロール状に巻取られる際に形成
した透明導電性薄膜に傷やクラック等の欠点が発生する
問題があることが見いだされた。しかしながら、本発明
者らは、以下の通り解決可能なことを見いだしたもので
ある。即ち、高分子フィルムの両面に該コーティングを
施すことにより基板フィルム帯電量が減少し、ロール状
の基板フィルムを巻出す際に必要な張力が約２０％減少
し、その振れは半分以下になる。そのため、フィルム走
行は安定し加熱ロールやドラム等の支持体と接触する際
生じるしわや波うちは、その高さ本数ともに３０％以上
改善された。それに加えて、帯電による支持体と基板フ
ィルム間に働く力も半減されて支持体上で発生したしわ
や波うちは、基板フィルムにかかる張力により解放され
完全に解消されることを見いだした。
【０００６】また、上述の本発明の高分子フィルム基材
には、ポリイミド、ポリエーテルイミド等のイミド系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート等ポリエステル系樹
脂、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン等サルフ
ォン系樹脂その他の耐熱性熱可塑性樹脂フィルムが適用
できる。中でも、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエーテルサルフォンが寸法安定性、耐熱性機
械的強度で優れている点で望ましい。本方法を透明導電
性フィルムの製造方法に適用する場合には、透明導電性
薄膜として公知のものすべてに適用できる。即ち、従来
から開発が盛んなＩｎ、Ｓｎの合金酸化膜（ＩＴＯ
膜）、ＳｎのＦ添加酸化膜、ＺｎＯ膜にも適用できる。
特に、ＩＴＯ膜形成時には、ＩＴＯ膜を十分酸化するた
め高分子フィルム基板を１００〜２００℃まで加熱する
ためロール、加熱ドラム上での熱変形が発生しやすく、
本発明の意義は大きい。液晶パネルの表示部になるため
に非常に厳しい平坦性や平滑性が要求され、この観点よ
り、本発明の効果は著しい。尚、上述の透明導電性薄膜
の形成法としては、従来から公知の真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタ法等の物理的堆積法が適用
できる。本発明に使用される高分子フィルム基材にコー
ティングする樹脂としては、高分子フィルム基材と透明
導電性薄膜の双方に対して密着力が必要であり、エポキ
シアクリレートプレポリマーにシランカップリング剤を
添加したとき、達成されることをみいだした。シランカ
ップリング剤の添加量は、０．５〜１．０重量％が望ま
しい。シランカップリング剤としては、例えば信越化学
（株）のＫＭＢ−５０３、ＫＭＢ−８０３，日本ユニカ
ー（株）のＡー１８７が用いられるが、特にエポキシ
基、アミノ基、メルカプトン基を有するものが好まし
い。エポキシアクリレートプレポリマーは、融点が、５
０℃以上のものが好ましく、昭和高分子株式会社のＶＲ
−９０があげられる。
には、ポリイミド、ポリエーテルイミド等のイミド系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート等ポリエステル系樹
脂、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン等サルフ
ォン系樹脂その他の耐熱性熱可塑性樹脂フィルムが適用
できる。中でも、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエーテルサルフォンが寸法安定性、耐熱性機
械的強度で優れている点で望ましい。本方法を透明導電
性フィルムの製造方法に適用する場合には、透明導電性
薄膜として公知のものすべてに適用できる。即ち、従来
から開発が盛んなＩｎ、Ｓｎの合金酸化膜（ＩＴＯ
膜）、ＳｎのＦ添加酸化膜、ＺｎＯ膜にも適用できる。
特に、ＩＴＯ膜形成時には、ＩＴＯ膜を十分酸化するた
め高分子フィルム基板を１００〜２００℃まで加熱する
ためロール、加熱ドラム上での熱変形が発生しやすく、
本発明の意義は大きい。液晶パネルの表示部になるため
に非常に厳しい平坦性や平滑性が要求され、この観点よ
り、本発明の効果は著しい。尚、上述の透明導電性薄膜
の形成法としては、従来から公知の真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタ法等の物理的堆積法が適用
できる。本発明に使用される高分子フィルム基材にコー
ティングする樹脂としては、高分子フィルム基材と透明
導電性薄膜の双方に対して密着力が必要であり、エポキ
シアクリレートプレポリマーにシランカップリング剤を
添加したとき、達成されることをみいだした。シランカ
ップリング剤の添加量は、０．５〜１．０重量％が望ま
しい。シランカップリング剤としては、例えば信越化学
（株）のＫＭＢ−５０３、ＫＭＢ−８０３，日本ユニカ
ー（株）のＡー１８７が用いられるが、特にエポキシ
基、アミノ基、メルカプトン基を有するものが好まし
い。エポキシアクリレートプレポリマーは、融点が、５
０℃以上のものが好ましく、昭和高分子株式会社のＶＲ
−９０があげられる。
【０００７】即ち、ポリエーテルサルフォンフィルム等
の高分子フィルムは、透明導電性薄膜との密着力が低
く、これに起因して透明導電性薄膜の耐久性が乏しいと
いう欠点があったが、高分子フィルム、透明導電性薄膜
の双方に密着力の優れた、該コーティングを施すことに
より克服することができた。しかし、平滑な平面をもち
かつ透明導電性薄膜側のみに該コーティングを施して薄
膜を形成しようとすると、本発明が解決すべき問題が生
じた。そこで、鋭意検討した結果該コーティングを両面
に施すことで解決可能なことをみいだした。本発明によ
る、透明導電性フィルムを液晶パネル等に用いる場合
は、液晶内に気泡が発生すると外観上の致命的な欠陥と
なる。光学特性上、液晶用途には、無定型高分子である
ポリエーテルサルフォンが適している。しかし、無定型
高分子フィルムは、一般的に空気の透過率が大きく、液
晶劣化による気泡の発生を防止することは困難なことが
わかっている。よって、このような場合、ガスバリヤー
性、耐塩酸性、本発明に使用できる該コーテチィングに
よる塗膜に対し強固な密着力を有するガスバリヤー層を
付与されたものでもなんら問題ない。
の高分子フィルムは、透明導電性薄膜との密着力が低
く、これに起因して透明導電性薄膜の耐久性が乏しいと
いう欠点があったが、高分子フィルム、透明導電性薄膜
の双方に密着力の優れた、該コーティングを施すことに
より克服することができた。しかし、平滑な平面をもち
かつ透明導電性薄膜側のみに該コーティングを施して薄
膜を形成しようとすると、本発明が解決すべき問題が生
じた。そこで、鋭意検討した結果該コーティングを両面
に施すことで解決可能なことをみいだした。本発明によ
る、透明導電性フィルムを液晶パネル等に用いる場合
は、液晶内に気泡が発生すると外観上の致命的な欠陥と
なる。光学特性上、液晶用途には、無定型高分子である
ポリエーテルサルフォンが適している。しかし、無定型
高分子フィルムは、一般的に空気の透過率が大きく、液
晶劣化による気泡の発生を防止することは困難なことが
わかっている。よって、このような場合、ガスバリヤー
性、耐塩酸性、本発明に使用できる該コーテチィングに
よる塗膜に対し強固な密着力を有するガスバリヤー層を
付与されたものでもなんら問題ない。
【０００８】
《実施例ー１》高分子フィルムに厚さ１００μｍのポリ
エーテルサルフォンフィルムを用い、その両側の面に該
コーティング層として分子量約１０４０、融点５５℃の
エポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子株式会
社製ＶＲ−９０）１００重量部、ジエチレングリコール
２００重量部、酢酸エチル１００重量部、ベンゼンエチ
ルエーテル２重量部、シランカップリング剤（信越化学
株式会社製ＫＭＢ−５０３）１重量部を５０℃にて撹は
ん溶解して均一な溶液をディップ法により両面に塗布し
８０℃１０分加熱した後紫外線を照射して該コーティン
グを形成した後、ロール・ツ・ロール方式のリアクティ
ブマグネトロンスパッタ装置により厚さ３０ｎｍのＩＴ
Ｏ膜を形成した。ＩＴＯ膜形成時、ＩＴＯ膜を十分に酸
化するため基板フィルムを１４０℃に加熱した。１４０
℃に加熱するために１４０℃に温調した鏡面のドラムに
密着させた状態でフィルムを走行させた。その結果、Ｉ
ＴＯ膜形成工程でのしわや変形はまったくみられなかっ
た。 《比較例ー１》ＩＴＯ膜側の面のみに該コーティングを
施した以外は実施例と同様な状態でＩＴＯ膜の形成を行
うと温調ドラム上で部分的に浮き上がった状態でＩＴＯ
膜が形成され、フィルムが変形してしまい、ロール状に
巻き上げたときクラックが発生した。
エーテルサルフォンフィルムを用い、その両側の面に該
コーティング層として分子量約１０４０、融点５５℃の
エポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子株式会
社製ＶＲ−９０）１００重量部、ジエチレングリコール
２００重量部、酢酸エチル１００重量部、ベンゼンエチ
ルエーテル２重量部、シランカップリング剤（信越化学
株式会社製ＫＭＢ−５０３）１重量部を５０℃にて撹は
ん溶解して均一な溶液をディップ法により両面に塗布し
８０℃１０分加熱した後紫外線を照射して該コーティン
グを形成した後、ロール・ツ・ロール方式のリアクティ
ブマグネトロンスパッタ装置により厚さ３０ｎｍのＩＴ
Ｏ膜を形成した。ＩＴＯ膜形成時、ＩＴＯ膜を十分に酸
化するため基板フィルムを１４０℃に加熱した。１４０
℃に加熱するために１４０℃に温調した鏡面のドラムに
密着させた状態でフィルムを走行させた。その結果、Ｉ
ＴＯ膜形成工程でのしわや変形はまったくみられなかっ
た。 《比較例ー１》ＩＴＯ膜側の面のみに該コーティングを
施した以外は実施例と同様な状態でＩＴＯ膜の形成を行
うと温調ドラム上で部分的に浮き上がった状態でＩＴＯ
膜が形成され、フィルムが変形してしまい、ロール状に
巻き上げたときクラックが発生した。
【０００９】
【発明の効果】本発明により非常に平滑でかつ該コーテ
ィングが施してある高分子フィルムを基板としてロール
・ツ・ロール方式で連続的に透明導電性薄膜を形成した
時、変形やしわ等のない外観の良好な透明導電性フィル
ムの製造が可能となる。
ィングが施してある高分子フィルムを基板としてロール
・ツ・ロール方式で連続的に透明導電性薄膜を形成した
時、変形やしわ等のない外観の良好な透明導電性フィル
ムの製造が可能となる。
Claims (1)
- 【請求項１】 長尺の高分子フィルムを基材とし、該基
材の両面にシランカップリング剤を含むエポキシアクリ
レート紫外線硬化樹脂をコーティングしたフィルム基板
をロール・ツ・ロール方式で移送しながら真空中で連続
的に透明導電性薄膜を形成することを特徴とする透明導
電性フィルムの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271348A JPH06116425A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271348A JPH06116425A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06116425A true JPH06116425A (ja) | 1994-04-26 |
Family
ID=17498815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4271348A Pending JPH06116425A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06116425A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60232612A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | 東洋紡績株式会社 | 透明導電膜 |
| JPH03230946A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム |
| JPH0499620A (ja) * | 1990-08-20 | 1992-03-31 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム |
-
1992
- 1992-10-09 JP JP4271348A patent/JPH06116425A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60232612A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | 東洋紡績株式会社 | 透明導電膜 |
| JPH03230946A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム |
| JPH0499620A (ja) * | 1990-08-20 | 1992-03-31 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム |
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