JPH06102667A - 感光性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】本発明は、分子末端の少なくとも一方がアルコ
ールの酸エステルとなっているポリアミド酸、光反応性
を有する炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物、およ
び光重合開始剤を主成分とする感光性ポリイミド前駆体
組成物である。 【効果】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物は、有
害な副生成物を生じることなしに製造することができ
る。また、この組成物より形成した膜にパターンマスク
をし、露光および現像液による現像を行うとき、未露光
部が現像液によって溶解除去されるまでの露光部の現像
液への溶解量が少なく、厚膜パターンを得ることができ
る。そして、これを加熱処理することによって、ポリイ
ミドの厚膜パターンを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な感光性ポリイミ
ド前駆体組成物に関する。さらに詳しくは、半導体素子
用保護膜、多層配線基板用絶縁膜などの形成に利用でき
る新規な感光性ポリイミド前駆体組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子産業分野において、ポリイミ
ド前駆体であるポリアミド酸を加熱処理することによっ
て得られるポリイミドが、その優れた耐熱性、誘電特性
のゆえに、保護膜、層間絶縁膜として使用されている。
しかし、通常のポリアミド酸を用いた場合、ポリイミド
膜にパターンを形成するためには、フォトレジストを使
用する煩雑な工程を必要する。この問題を解決するため
に、露光、現像によって直接パターンが形成できる感光
性ポリイミド前駆体が提案されている。

【０００３】感光性ポリイミド前駆体として、特公昭５
５−３０２０７号公報に、ポリアミド酸分子中のカルボ
キシル基に感光基をエステル結合させたものが提案され
ている。この感光性ポリイミド前駆体は、テトラカルボ
ン酸二無水物に光反応性を有する炭素一炭素不飽和結合
を含有するアルコールを反応させてテトラカルボン酸ジ
エステルを生成し、このジエステル中の遊離カルボキシ
ル基を酸クロリド基に変換し、得られたジエステル−ビ
ス−酸クロリドをジアミンと重縮合反応させることによ
って製造される。しかし、この製造法により得られる感
光性ポリイミド前駆体には、製造工程に脱塩酸反応を含
むために最終的に塩化物が副生成物として残る。この有
害な残留副生成塩化物を除去するためには、経費のかさ
む精製処理が必要となる。

【０００４】また、特開昭６０−２２８５３７公報に、
上記のものとは別な方法により、ポリアミド酸分子中の
カルボキシル基に感光基をエステル結合させた感光性ポ
リイミド前駆体が開示されている。これは、テトラカル
ボン酸二無水物に光反応性を有する炭素−炭素不飽和結
合を含有するアルコールを反応させてテトラカルボン酸
ジエステルを生成し、このジエステルをカルボジイミド
の存在下でジアミンと反応させて感光性ポリイミド前駆
体を製造するものである。しかし、この製造法において
も、副生成物として尿素誘導体が残り、これを分離する
精製処理が、感光性ポリイミド前駆体の塗布用溶液を製
造する際には必要となる。

【０００５】一方、特公昭５９−５２８２２号公報に
は、ポリアミド酸に光反応性を有する炭素−炭素不飽和
結合とアミノ基またはその４級化塩を含む化合物を添加
し、ポリアミド酸分子中のカルボキシル基またはその塩
に感光基を塩結合させた感光性ポリイミド前駆体が開示
されている。この感光性ポリイミド前駆体は、有害な副
生成物を生じさせることなく製造できる。しかし、たと
えばポリイミド膜を半導体保護膜として用いる場合、膜
厚が大きいほどα線遮蔽効果が大きくなるが、この感光
性ポリイミド前駆体から形成した膜の表面をパターンマ
スクし、露光および現像液による現像を行い、その後熱
処理によってポリイミド膜のパターンを得る場合、厚さ
１０μｍ以上のポリイミド膜のパターンを得るのは、非
常に困難である。これは、この感光性ポリイミド前駆体
は、通常、高分子量のポリアミド酸に感光基を導入して
いることや、感光基が塩結合という比較的弱い結合で導
入されていることなどのために、厚膜を現像する場合
に、未露光部の現像液への溶解速度が遅く、未露光部が
完全に現像液に溶解するまでに、露光部もかなりの量が
現像液に溶解し、残存する露光部の厚みが小さくなるた
めである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の欠点に鑑み創案されたもので、その目的とすると
ころは、精製処理することが必要な有害な副生成物を生
じさせることなく製造することができ、また、露光後の
現像時に、未露光部が完全に現像液に溶解するまでの露
光部の現像液への溶解量が小さく、厚さの大きいポリイ
ミド膜のパターンを得ることができる感光性ポリイミド
前駆体組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、 （１）（ａ）分子末端の少なくとも一方がアルコールの
酸エステルとなっているポリアミド酸、（ｂ）光反応性
を有する炭素−炭素不飽和結合を含む化合物、および
（ｃ）光重合開始剤、を含有してなることを特徴とする
感光性ポリイミド前駆体組成物、および （２）テトラカルボン酸二無水物にアルコールを開環付
加させてテトラカルボン酸エステル無水物を形成し、次
いで、該テトラカルボン酸エステル無水物、または、該
テトラカルボン酸エステル無水物とテトラカルボン酸二
無水物の混合物に、ジアミンを開環付加させることによ
って末端エステル化ポリアミド酸を形成し、その後、光
反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含む化合物、お
よび、光重合開始剤を混合することを特徴とする感光性
ポリイミド前駆体組成物の製造方法によって達成され
る。

【０００８】本発明における分子末端の少なくとも一方
がアルコールの酸エステルとなっているポリアミド酸
は、次の一般式（１）で表される。

【０００９】

【化１】 ここでＸは一般式（２）

【化２】 で表される。また、Ｚは通常、一般式（３）

【化３】 または一般式（４）

【化４】 あるいは、ＮＨ₂ のいずれかで表されるものであるが、
特にこれらに限定されず、別な構造であってもかまわな
い。ここで、Ｒ₁ は炭素数２〜２２の４価の有機基、Ｒ
₂ は不飽和結合を含有しない炭素数１〜１５の１価の有
機基、または、不飽和結合を含有する炭素数３〜１５の
１価の有機基、Ｒ₃ は炭素数１〜２２の２価の有機基を
表し、ｎは０以上の整数を意味する。なお、Ｒ₂ として
は、光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有する
炭素数３〜１５の１価の有機基であるほうが、感光特性
が良好となるので望ましい。また、分子末端の少なくと
も一方がアルコールの酸エステルとなっているポリアミ
ド酸の未露光部の現像液への溶解性は、その分子量が小
さいほど良好となる。また逆に、分子量が小さすぎる
と、露光部の現像液への溶解量が大きくなり、露光部の
溶解量を減らそうとすれば、多量の露光量が必要になる
場合が多い。このため、ｎは好ましくは０〜９９、より
好ましくは２〜６９、さらに好ましくは４〜４９、また
さらに好ましくは６〜２９であることが望まれる。な
お、実際には、本発明の分子末端の少なくとも一方がア
ルコールの酸エステルとなっているポリアミド酸の重合
度にはばらつきがあるため、ここでいうｎの好ましい範
囲とは、この範囲の中に全ポリアミド酸の５０モル％以
上、好ましくは７０モル％以上、さらに好ましくは９０
モル％以上が入っていることを意味する。

【００１０】本発明の分子末端の少なくとも一方がアル
コールの酸エステルとなっているポリアミド酸は、たと
えば、テトラカルボン酸二無水物にアルコールを開環付
加させて得られるテトラカルボン酸エステル無水物、ま
たは、このテトラカルボン酸エステル無水物とテトラカ
ルボン酸二無水物の混合物に、ジアミンを開環付加させ
ることによって得ることができる。

【００１１】テトラカルボン酸二無水物は、一般式
（５）

【化５】 （式中のＲ₁ は、前記の炭素数２〜２２の４価の有機基
を表す。）で示される。本発明では、テトラカルボン酸
二無水物として、たとえば、脂肪族系または脂環式系の
ものを用いることができ、その具体的な例として、ブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、ペンタンテトラカルボン
酸二無水物、ヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、ビシクロヘキセンテトラカル
ボン酸二無水物、シクロプロパンテトラカルボン酸二無
水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、メチ
ルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物などが挙げ
られる。また、芳香族系のものを用いると、耐熱性の良
好なポリイミドに変換しうる感光性ポリイミド前駆体組
成物を得ることができ、その具体的な例として、３，３
´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、ピロメリット酸二無水物、３，４，９，１０−ペリ
レンテトラカルボン酸二無水物、４，４´−スルホニル
ジフタル酸二無水物、３，３´，４，４´−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフ
タレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−ピ
リジンテトラカルボン酸二無水物が挙げられるが、特に
これらに限定されるわけではない。本発明では、これら
のテトラカルボン酸二無水物が１種または２種以上用い
られる。

【００１２】アルコールは、一般式（６） Ｒ₂ −ＯＨ （６） （式中のＲ₂ は、前記の不飽和結合を含有しない炭素数
１〜１５の１価の有機基、または、不飽和結合を含有す
る炭素数３〜１５の１価の有機基を表す。ただし、フェ
ニル基が直接水酸基に結合してはいない。）で示され
る。不飽和結合を含有しないアルコールの具体的な例と
して、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、イソブチルアルコールなどの１価アル
コール、エチレングリコール、プロピレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパンなどの多価アルコ
ール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブなどのセロソルブ類などが挙げられるが、特に
これらに限定されない。

【００１３】不飽和結合を含有するアルコールの具体的
な例としては、アリルアルコール、３−アリロキシ−
１，２−プロパンジオール、２−アリロキシエタノール
などが挙げられるが、アルコール性の水酸基を有するア
クリル酸エステルを用いると、感光特性が良好な感光性
ポリイミド前駆物質を得ることができる。その具体的な
例として、２−ヒドロキシエチルアクリラート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリラート、グリセロールアクリラ
ート、ポリエチレングリコールアクリラート、ＥＯ変性
フタル酸アクリラートおよび上記のアクリラートをメタ
クリラートに変えたものなどが挙げられるが、特にこれ
らに限定されない。

【００１４】本発明においては、これらのアルコールを
１種または２種以上用いることができる。

【００１５】ジアミンは、一般式（７） Ｈ₂ Ｎ−Ｒ₃ −ＮＨ₂ （７） （式中のＲ₃ は、前記の炭素数１〜２２の２価の有機基
を表す。）で示され、その具体的な例として、４，４´
−ジアミノジフェニルエーテル、４，４´−ジアミノジ
フェニルメタン、４，４´−ジアミノジフェニルスルホ
ン、４，４´−ジアミノジフェニルサルファイド、ｍ−
フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４
−ジアミノトルエン、２，５−ジアミノトルエン、２，
６−ジアミノトルエン、ベンジジン、３，３´−ジメチ
ルベンジジン、３，３´−ジメトキシベンジジン、ｏ−
トリジン、４，４”−ジアミノターフェニル、１，５−
ジアミノナフタレン、２，５−ジアミノピリジン、３，
３´−ジメチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４´−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ビフェニ
ル、２，２−ビス［４−（ｐ−アミノフェノキシ）フェ
ニル］プロパン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダ
ニレンジメチレンジアミンなどが挙げられるが、特にこ
れらに限定されない。また、一般式（８）

【化６】 （式中のＲ₄ は炭素数１〜１０の２価の有機基、Ｒ₅ 、
Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、およびＲ₈は炭素数１〜１０の１価の有機
基でこれらは同一であっても異なっていてもよく、ｍは
１〜１０の整数を意味する。）で示されるシロキサンジ
アミンを用いると、無機基板との接着性を良好にするこ
とができる。シロキサンジアミンは、通常、全ジアミン
中の１〜２０モル％量用いる。シロキサンジアミンの量
が少なすぎれば接着性向上効果が発揮されず、多すぎれ
ば耐熱性が低下する。シロキサンジアミンの具体例とし
ては、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロ
キサンなどが挙げられる。本発明では、これらのジアミ
ンが１種または２種以上用いられる。

【００１６】本発明における、分子末端の少なくとも一
方がアルコールの酸エステルとなっているポリアミド酸
は、たとえば次のような方法により合成される。まず、
テトラカルボン酸二無水物にアルコールを開環付加させ
てテトラカルボン酸エステル無水物を得る反応を、通
常、不活性な有機溶媒中で、２０〜１５０℃、好ましく
は、５０〜１００℃の範囲の温度で行う。ここで、温度
が低すぎると反応がなかなか進まず、また、温度を高く
設定するためには多大のエネルギーが必要で経費がかさ
む。なお、テトラカルボン酸二無水物に不飽和アルコー
ルを開環付加させる場合、あるいは、光反応性を有する
炭素−炭素不飽和結合を含有する有機溶媒、たとえば、
アクリルアミド類などの中でアルコールをテトラカルボ
ン酸二無水物に開環付加させる場合には、２０〜１００
℃、好ましくは、５０〜８０℃の範囲の温度で反応を行
う。温度が高すぎると炭素−炭素不飽和結合が開裂する
おそれがある。

【００１７】アルコールは、通常、テトラカルボン酸二
無水物に対して、実質的に０．０１０〜１倍モル当量、
好ましくは０．０１４〜０．３３３倍モル当量、より好
ましくは０．０２０〜０．２００倍モル当量、さらに好
ましくは０．０３３〜０．１４３倍モル当量反応させ
る。アルコールの反応量が多すぎれば、最終的に生成さ
れる末端エステル化ポリアミド酸の分子量が小さくなり
すぎ、露光部の現像液への溶解量が大きくなり、露光部
の溶解量を減らそうとすれば、多量の露光量が必要にな
る場合が多い。一方、アルコールの反応量が少なすぎれ
ば、最終的に生成される末端エステル化ポリアミド酸の
分子量が大きくなりすぎて、未露光部の現像液への溶解
性が不良となる。なお、ここに示された方法では通常、
テトラカルボン酸エステル無水物のほかに、テトラカル
ボン酸ジエステルと未反応のテトラカルボン酸二無水物
が得られる。テトラカルボン酸二無水物は、後の、ジア
ミンとの反応の際に有効に使用できる。一方、テトラカ
ルボン酸ジエステルは無用であるので、テトラカルボン
酸エステル無水物の０．５倍モル当量以下、好ましくは
０．１倍モル当量以下、さらに好ましくは０．０５６倍
モル当量以下、またさらに好ましくは０．０３８倍モル
当量以下であることが望ましい。

【００１８】次に、上記のテトラカルボン酸エステル無
水物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジ
エステルが存在する有機溶媒中に、ジアミンを加え、テ
トラカルボン酸エステル無水物およびテトラカルボン酸
二無水物にジアミンを開環付加させて、分子末端の少な
くとも一方がアルコールの酸エステルとなっているポリ
アミド酸を得る。ジアミンは、通常、テトラカルボン酸
エステル無水物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカ
ルボン酸ジエステルの総モル当量に対して、０．９〜
１．１倍モル当量、好ましくは０．９５〜１．０５倍モ
ル当量、さらに好ましくは０．９９〜１．０１倍モル当
量、またさらに好ましくは等モル当量混合するのがよ
い。モル当量の差が小さいほど、混合後、重合反応が起
こることにより得られる末端エステル化ポリアミド酸、
両末端がアミンのポリアミド酸、および、未反応のテト
ラカルボン酸ジエステルからなるポリイミド前駆体組成
物中の、アミン末端とエステル末端のモル当量の差が小
さくなる。ポリイミド前駆体組成物中のアミン末端とエ
ステル末端のモル当量の差が小さいほど、ポリイミド前
駆体を加熱処理することによって得られるポリイミドの
重合度が大きくなり、機械的特性の良好なフィルムが得
られる。このため、できるだけアミン末端とエステル末
端のモル当量を等しくすることが望まれる。なお、ジア
ミンとの反応は通常、０〜１００℃、好ましくは、５０
〜８０℃の範囲の温度で行う。温度が低すぎると反応が
なかなか進まず、また、温度が高すぎるとポリアミド酸
のイミド化が進行するおそれがある。

【００１９】また、テトラカルボン酸エステル無水物、
テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステ
ルが存在する有機溶媒中に、ジアミンとテトラカルボン
酸二無水物を混合して、重合反応を起こしても良い。こ
の場合、テトラカルボン酸エステル無水物、テトラカル
ボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステル、およ
び、ジアミンの混合比は、好ましい重合度の末端エステ
ル化ポリアミド酸が得られ、かつ、末端エステル化ポリ
アミド酸、両末端がアミンのポリアミド酸、および未反
応のテトラカルボン酸ジエステルからなるポリイミド前
駆体組成物中の、アミン末端とエステル末端のモル当量
の差が小さくなるように調節されることが望まれる。

【００２０】上記の方法で用いられる有機溶媒は、生成
される分子末端の少なくとも一方がアルコールの酸エス
テルとなっているポリアミド酸を、溶解しうるものであ
ることが好ましく、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキ
サメチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラクトンなどの
極性溶媒が通常用いられる。この他、これらの極性溶媒
以外に一般的有機溶媒であるケトン類、エステル類、エ
ーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類など、た
とえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコ−ルジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２
−ジクロルエタン、１，４−ジクロルブタン、トリクロ
ルエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなども使用できる。さらに、光反応性を有する炭
素−炭素不飽和結合を含有するアミド化合物、たとえ
ば、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリル
アミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、
Ｎ−アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン
なども使用できる。なお、分子末端の少なくとも一方が
アルコールの酸エステルとなっているポリアミド酸を、
完全に溶解させるためには、これらの一般的有機溶媒、
および、光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有
するアミド化合物は、前記の極性溶媒と混合して用いる
ことが望ましい。

【００２１】本発明において使用される、光反応性を有
する炭素−炭素不飽和結合を含む化合物には、特に制限
はないが、アミノ基が含有されていると、ポリアミド酸
分子中のカルボキシル基に塩結合し、感光性ポリイミド
前駆体組成物の露光部の現像液への溶解量が、アミノ基
を含有しない光反応性化合物を用いる場合に比べて、よ
り小さくなるので好ましい。

【００２２】光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合と
アミノ基を含む化合物は、一般式（９）

【化７】 （式中のＲ₉ は水素またはフェニル基、Ｒ₁₀は水素また
は炭素数１〜６の低級アルキル基、Ｒ₁₁は置換または無
置換の炭素数２〜１２の炭化水素基、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃は置換
または無置換の炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
と、一般式（１０）

【化８】 （式中のＲ₁₄は置換または無置換の炭素数１〜６のアル
キル基を表す。）または、一般式（１１）

【化９】 （式中のＲ₁₅は水素またはメチル基を表し、ｋ＋ｌ＝
３、ｋ＝１〜３である。）で表される化合物などであ
る。その具体的な例として、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チルアクリラート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアク
リラート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリラー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピルアクリラート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノブチルアクリラート、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノブチルアクリラートおよび上記のアクリ
ラートをメタクリラートに変えたもの、２−ビニルピリ
ジン、４−ビニルピリジン、アリルアミン、２−メチル
アリルアミン、ジアリルアミンなどが挙げられるが、特
にこれらに限定されない。しかし、光反応性の面から、
不飽和基としてアクリル基、または、メタクリル基を有
するアミノ化合物が望ましい。

【００２３】光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合と
アミノ基を含む化合物は、ポリアミド酸分子中のカルボ
キシル基に対し、０．０５〜２倍モル当量、より好まし
くは、０．１〜１倍モル当量混合するのが望ましい。混
合する量が少なすぎれば、感光特性が不良となり、混合
する量が多すぎれば、ポリイミド前駆体膜を熱処理して
ポリイミド膜を形成する時に、膜厚の減少量が大きくな
りすぎる。

【００２４】本発明では、光反応性を有する炭素−炭素
不飽和結合を含有するがアミノ基を含まない化合物を用
いることができるが、これを光反応性を有する炭素−炭
素不飽和結合とアミノ基を含む化合物と併用することも
できる。光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有
し、かつ、アミノ基を含まない化合物の具体的な例とし
て、アリルアクリラート、ベンジルアクリラート、ブト
キシエチルアクリラート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリラート、シクロヘキシルアクリラート、ジシ
クロペンタニルアクリラート、ジシクロペンテニルアク
リラート、２−エチルヘキシルアクリラート、グリセロ
ールアクリラート、グリシジルアクリラート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリラート、２−ヒドロキシエチルア
クリラート、イソボニルアクリラート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリラート、イソデシルアクリラート、イソ
オクチルアクリラート、ラウリルアクリラート、２−メ
トキシエチルアクリラート、メトキシエチレングリコー
ルアクリラート、メトキシジエチレングリコールアクリ
ラート、メトキシトリエチレングリコ−ルアクリラー
ト、メトキシジプロピレングリコールアクリラート、オ
クタフロロペンチルアクリラート、フェノキシエチルア
クリラート、ステアリルアクリラート、トリフロロエチ
ルアクリラート、アリル化シクロヘキシルジアクリラー
ト、ビスフェノールＡジアクリラート、１，４−ブタン
ジオールジアクリラート、１，３−ブチレングリコ−ル
ジアクリラート、エチレングリコールジアクリラート、
ジエチレングリコールジアクリラート、トリエチレング
リコールジアクリラート、ポリエチレングリコールジア
クリラート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リラート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリラー
ト、グリセロ−ルジアクリラート、メトキシ化シクロヘ
キシルジアクリラート、ネオペンチルグリコールジアク
リラート、ペンタエリスリトールトリアクリラート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリラート、プロピレング
リコールジアクリラート、ポリプロピレングリコールジ
アクリラート、トリグリセロールジアクリラート、トリ
メチロールプロパントリアクリラートおよび上記のアク
リラートをメタクリラートに変えたもの、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる
が、特にこれらに限定されない。また、前記のポリアミ
ド酸の合成の際に有機溶媒として用いた、Ｎ−メチルア
クリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイ
ルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの光反応性
を有する炭素−炭素不飽和結合を含有するアミド化合物
も、好ましく使用することができる。本発明では、これ
らの光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有し、
かつアミノ基を含まない化合物を、１種または２種以上
使用することができる。

【００２５】上記の光反応性を有する炭素−炭素不飽和
結合を含有し、かつ、アミノ基を含まない化合物は、光
反応性を有する炭素−炭素不飽和結合とアミノ基を含有
する化合物と併用する場合には、ポリアミド酸の１〜１
００重量％、好ましくは５〜５０重量％、さらに好まし
くは１０〜２５重量％用いるのが望ましい。光反応性を
有する炭素−炭素不飽和結合とアミノ基を含有する化合
物と併用しない場合には、ポリアミド酸の５〜２００重
量％、好ましくは１０〜１００重量％、さらに好ましく
は２０〜５０重量％用いるのが望ましい。光反応性を有
する炭素−炭素不飽和結合を含有し、かつ、アミノ基を
含まない化合物の量が大きすぎれば、ポリイミド前駆体
膜形成時にポリアミド酸との間で相分離を起こしたり、
ポリイミド前駆体膜を熱処理してポリイミド膜を形成す
る時に、膜厚の減少量が大きくなりすぎるなどの問題が
生じる。また、量が小さすぎれば、感光性組成物の感光
特性が不良となる。

【００２６】本発明に用いる光重合開始剤は周知のもの
であり、その具体的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−
ベンゾイル安息香酸メチル、４，４´−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、４，４´−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、４，４´−ジクロロベンゾフェ
ノン、４−ベンゾイル−４´−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２´−ジエ
トキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメ
チルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセター
ル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロル
アントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベ
ンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザ
ルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリ
デン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベ
ンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、１−フェ
ニル−１，２−ブタンジオン−２−（ｏ−メトキシカル
ボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２
−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル
−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、
１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エト
キシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキ
シム、ミヒラーケトン、Ｎ−フェニルグリシン、３−フ
ェニル−５−イソオキサゾロン、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、２−メチル−［４−（メチル
チオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、また、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリン
スルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、
４，４´−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジ
スルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェ
ニルホスフィン、カンファーキノン、四臭化炭素、トリ
ブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよびエオ
シン、メチレンブルーなどの光還元性色素とアスコルビ
ン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせ
などが挙げられるが、特にこれらに限定されない。本発
明ではこれらを１種または２種以上使用することができ
る。

【００２７】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物に
含有される光重合開始剤の量は、ポリアミド酸の０．１
〜３０重量％が好ましく、２〜１５重量％がさらに好ま
しい。光重合開始剤の量が少なすぎれば、組成物の光感
度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれば、ポリ
イミド前駆体膜を熱処理してポリイミド膜を形成する時
に、膜厚の減少量が大きくなりすぎる。

【００２８】また、光感度を向上させ得る増感剤を、本
発明の感光性ポリイミド前駆体組成物に添加してもよ
い。増感剤の具体的な例として、２，５−ビス（４´−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−
ビス（４´−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４´−ジメチルアミノベンザル）−
４−メチルシクロヘキサノン、２，６−ビス（４´−ジ
エチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノ
ン、ミヒラーケトン、４，４´−ビス（ジエチルアミ
ノ）−ベンゾフェノン、４，４´−ビス（ジメチルアミ
ノ）カルコン、４，４´−ビス（ジエチルアミノ）カル
コン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、
ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ
−ジメチルアミノフェニルビニレン）ベンゾチアゾー
ル、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イ
ソナフトチアゾール、１，３−ビス（４´−ジメチルア
ミノベンザル）アセトン、１，３−ビス（４´−ジエチ
ルアミノベンザル）アセトン、３，３´−カルボニル−
ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−
Ｎ´−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルジエタノ
ールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェ
ニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニ
ル−５−イソオキサゾロン、１−フェニル−５−ベンゾ
イルチオーテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシ
カルボニルチオーテトラゾールなどが挙げられるが、特
にこれらに限定されない。本発明ではこれらの増感剤を
１種または２種以上使用することができる。なお、増感
剤のなかには光重合開始剤としても作用するものがあ
る。

【００２９】増感剤を本発明の感光性ポリイミド前駆体
組成物に添加する場合、その添加量は、ポリアミド酸の
０．１〜３０重量％が好ましく、０．５〜１５重量％が
さらに好ましい。添加量が大きすぎれば、ポリイミド前
駆体膜を熱処理してポリイミド膜を形成する時に、膜厚
の減少量が大きくなりすぎる。また、添加量が小さすぎ
れば、光感度を向上させる効果が発揮されない。

【００３０】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物
の、保存時の熱的な安定性を向上させるために、熱重合
禁止剤を添加することもできる。熱重合禁止剤の具体的
な例としては、ヒドロキノン、Ｎ−ニトロソジフェニル
アミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、
Ｎ−フェニルナフチルアミン、２、６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロール
などが挙げられるが特にこれらに限定されない。熱重合
禁止剤を添加する場合その添加量は、ポリアミド酸の
０．１〜２０重量％が好ましく、０．５〜１０重量％が
さらに好ましい。添加量が大きすぎれば、ポリイミド前
駆体膜を熱処理してポリイミド膜を形成する時に、膜厚
の減少量が大きくなりすぎる。また、添加量が小さすぎ
れば、保存時の熱的な安定性を向上させる効果が発揮さ
れない。

【００３１】また、本発明の感光性ポリイミド前駆体組
成物に、ポリイミド膜の硬度を向上させるために、無機
微粒子のコロイド状物を添加してもよい。無機微粒子の
コロイド状物の具体的な例としては、シリカゾル、チタ
ニアゾル、ジルコニアゾルなどが挙げられるが、特にこ
れらに限定されない。無機微粒子のコロイド状物を添加
する場合その添加量は、ポリアミド酸の１〜５０重量％
が好ましく、２〜３０重量％がさらに好ましい。添加量
が大きすぎれば、ポリイミド前駆体膜のパターン加工性
が悪くなり、添加量が小さすぎれば、ポリイミド膜の硬
度を向上させる効果が発揮されない。

【００３２】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物
は、この組成物を構成する全ての成分、または、添加剤
を加える場合には、無機微粒子のコロイド状物など基本
的に有機溶媒に不溶なもの以外の添加剤を含む全ての成
分を溶解しうる有機溶媒に溶解することによって、塗布
用のワニスが得られる。この有機溶媒としては、前記
の、分子末端の少なくとも一方がアルコールの酸エステ
ルとなっているポリアミド酸を合成する場合に好適に使
用される、該ポリアミド酸を溶解しうる有機溶媒と同様
のものが使用されうる。

【００３３】このワニスを基板上に塗布する方法として
は、スピンコーター、バーコーター、ブレードコータ
ー、スクリーン印刷法などで基板に塗布する方法、基板
をワニス中に浸漬する方法、ワニスを基板に噴霧するな
どの種々の方法を用いることができる。基板としては、
シリコンやガリウム−砒素などの半導体、アルミナセラ
ミック、ガラスセラミックなどの無機絶縁体、アルミニ
ウム、銅などの金属、ポリエステルフィルムなどの有機
絶縁体などを選ぶことができる。なお、半導体や、無機
絶縁体、金属からなる基板上にワニスを塗布する場合、
シランカップリング剤、アルミニウムキレート剤、チタ
ニウムキレート剤などの接着助剤で基板表面を処理して
おくと、ポリイミドと基板の接着力を向上させることが
できる。

【００３４】ワニスを基板上に塗布した後、風乾、加熱
乾燥、真空乾燥などにより、感光性ポリイミド前駆体膜
が形成される。こうして得られた膜は、通常のフォトマ
スクを用いて露光される。この際に使用される活性光線
としては、たとえば、紫外線、電子線、Ｘ線などが挙げ
られるが、これらの中では紫外線が好ましく、その光源
としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが挙げられる。こ
れらの光源の中で超高圧水銀灯が好適である。また、露
光は窒素雰囲気中、あるいは、真空中で行うのが好まし
い。

【００３５】露光後、現像液を使用して現像を行うが、
この場合、浸漬法やスプレー法を用いることができる。
現像液としては通常、前記の、分子末端の少なくとも一
方がアルコールの酸エステルとなっているポリアミド酸
を合成する場合に好適に使用される、該ポリアミド酸を
溶解しうる有機溶媒と同様のものが使用される。なお、
このような有機溶媒に、現像性を良好とするために水を
添加して用いることもできる。水を添加する場合、その
添加量は有機溶媒に対して通常、１〜１００重量％、好
ましくは５〜５０重量％である。添加量が大きすぎる場
合、有機溶媒とのあいだで相分離を起こすおそれが生
じ、添加量が小さすぎる場合は、現像性を良好にする効
果を発揮しない。また、現像直後に、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、
ヘキサン、ペンタンなどの有機溶媒で、リンスを行うこ
とが望ましい。

【００３６】現像によって得られたポリイミド前駆体の
パターンは、その後、加熱処理することによって、ポリ
イミドのパターンに変換される。加熱処理は通常、窒素
雰囲気中、あるいは、真空中で、１５０〜４５０℃の温
度のもとで、０．５〜５時間、連続的または段階的に行
われる。

【００３７】

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３８】実施例１ 温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した１００
０ｍｌの４つ口フラスコに、３，３´，４，４´−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物１４７．１１ｇ（０．
５モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリラート６５．
０７ｇ（０．５モル）、およびＮ−メチル−２−ピロリ
ドン３００ｇを投入し、乾燥空気流入下、７０℃で４時
間攪拌した。その後、室温まで冷却し、４，４´−ジア
ミノジフェニルエーテル７５．０９ｇ（０．３７５モ
ル）、ｐ−フェニレンジアミン１０．８１ｇ（０．１モ
ル）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロ
キサン６．２１ｇ（０．０２５モル）、およびＮ−メチ
ル−２−ピロリドン１９３．１１ｇを加え、乾燥空気流
入下、６０℃で３時間攪拌して、粘稠なポリイミド前駆
体溶液を得た。得られた溶液を少量取り出し、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドンで希釈後、メチルアルコールを用い
て再沈してポリアミド酸を得た。このポリアミド酸を、
ＮＭＲを用いて分析したところ、エステル化率が７．８
モル％であった。これより、末端エステル化ポリアミド
酸の平均重合度は１２．８と推定された。

【００３９】次に、光遮断下の室温で、ミヒラーケトン
４．７８ｇ、４−アジドベンザルアセトフェノン２．３
９ｇ、３−フェニル−５−イソオキサゾロン７．１８
ｇ、３，３´−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノ
クマリン）１．２０ｇ、エチレングリコールジメタクリ
ラート３５．８８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメ
タクリラート１５７．２１ｇ（１モル）を加え、攪拌混
合後、フィルターでろ過して感光性ポリイミド前駆体組
成物溶液を得た。

【００４０】この溶液を４インチのシリコンウェファ上
にスピンコートし、８０℃で３０分間加熱乾燥して、厚
み３０μｍの膜を形成した。この膜面をパターンマスク
し、窒素雰囲気下、７ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀
灯を用いて５分間露光を行い、次に、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、キシレン、水の７：２：１（重量比）混合
液に浸漬して、未露光部が溶解除去されるまで現像し
（この時、現像に要する時間は４分）、イソブチルアル
コールでリンスを行ったところ、厚み２８μｍのポリイ
ミド前駆体のパターンを得た。これを窒素雰囲気下、２
００℃３０分間、３００℃３０分間、４００℃３０分間
のステップで加熱処理し、厚み１４μｍのポリイミドの
パターンを得た。

【００４１】実施例２ 実施例１で２−ヒドロキシエチルメタクリラート６５．
０７ｇ（０．５モル）の代わりに２−ヒドロキシエチル
アクリラート５８．０６ｇ（０．５モル）を用いる以外
は同様にして、感光性ポリイミド前駆体組成物溶液を得
た。

【００４２】この溶液を用いて、実施例１と同様の操作
を行うことにより、厚み２８μｍのポリイミド前駆体の
パターンを得た。さらに、実施例１と同様の加熱処理を
行い、厚み１４μｍのポリイミドのパターンを得た。

【００４３】実施例３ 実施例１で２−ヒドロキシエチルメタクリラート６５．
０７ｇ（０．５モル）の代わりにアリルアルコール２
９．０４ｇ（０．５モル）を用いる以外は同様にして、
感光性ポリイミド前駆体組成物溶液を得た。

【００４４】この溶液を用いて、実施例１と同様の操作
を行うことにより、厚み２６μｍのポリイミド前駆体の
パターンを得た。さらに、実施例１と同様の加熱処理を
行い、厚み１３μｍのポリイミドのパターンを得た。

【００４５】実施例４ 実施例１で２−ヒドロキシエチルメタクリラート６５．
０７ｇ（０．５モル）の代わりにエチルアルコール１
１．５２ｇ（０．２５モル）を用いる以外は同様にし
て、感光性ポリイミド前駆体組成物溶液を得た。

【００４６】この溶液を用いて、実施例１と同様の操作
を行うことにより、厚み２６μｍのポリイミド前駆体の
パターンを得た。さらに、実施例１と同様の加熱処理を
行い、厚み１３μｍのポリイミドのパターンを得た。

【００４７】実施例５ 実施例１で２−ヒドロキシエチルメタクリラート６５．
０７ｇ（０．５モル）の代わりにイソプロピルアルコー
ル１７．０３ｇ（０．２５モル）を用いる以外は同様に
して、感光性ポリイミド前駆体組成物溶液を得た。

【００４８】この溶液を用いて、実施例１と同様の操作
を行うことにより、厚み２６μｍのポリイミド前駆体の
パターンを得た。さらに、実施例１と同様の加熱処理を
行い、厚み１３μｍのポリイミドのパターンを得た。

【００４９】比較例１ 温度計および乾燥窒素導入口と攪拌装置を付した２００
０ｍｌの４つ口フラスコに、３，３´，４，４´−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物１４７．１１ｇ（０．
５モル）、４，４´−ジアミノジフェニルエーテル７
５．０９ｇ（０．３７５モル）、ｐ−フェニレンジアミ
ン１０．８１ｇ（０．１モル）、ビス−３−（アミノプ
ロピル）テトラメチルシロキサン６．２１ｇ（０．０２
５モル）、およびＮ−メチル−２−ピロリドン１３５
５．５８ｇを投入し、乾燥窒素流入下、６０℃で３時間
攪拌して、粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。

【００５０】次に、光遮断下の室温で、ミヒラーケトン
４．７８ｇ、４−アジドベンザルアセトフェノン２．３
９ｇ、３−フェニル−５−イソオキサゾロン７．１８
ｇ、３，３´−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノ
クマリン）１．２０ｇ、エチレングリコールジメタクリ
ラート３５．８８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメ
タクリラート１５７．２１ｇ（１モル）を加え、攪拌混
合後、フィルターでろ過して感光性ポリイミド前駆体組
成物溶液を得た。

【００５１】この溶液を４インチのシリコンウェファ上
にスピンコートし、８０℃で３０分間加熱乾燥して、厚
み３０μｍの膜を形成した。この膜面をパターンマスク
し、窒素雰囲気下、７ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀
灯を用いて５分間露光を行い、次に、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、キシレン、水の７：２：１（重量比）混合
液に浸漬して、未露光部が溶解除去されるまで現像し
（この時、現像に要する時間は１２分）、イソブチルア
ルコールでリンスを行ったところ、厚み１８μｍのポリ
イミド前駆体のパターンを得た。これを窒素雰囲気下、
２００℃３０分間、３００℃３０分間、４００℃３０分
間のステップで加熱処理し、厚み９μｍのポリイミドの
パターンを得た。

【００５２】実施例６ 温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した１００
０ｍｌの４つ口フラスコに、３，３´，４，４´−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物８０．５６ｇ
（０．２５モル）、ピロメリット酸二無水物５４．５３
ｇ（０．２５モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリラ
ート１３．０１ｇ（０．１モル）、およびＮ−メチル−
２−ピロリドン３００ｇを投入し、乾燥空気流入下、６
０℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、４，
４´−ジアミノジフェニルエーテル９５．１１ｇ（０．
４７５モル）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメ
チルシロキサン６．２１ｇ（０．０２５モル）、および
Ｎ−メチル−２−ピロリドン２３８．６１ｇを加え、乾
燥空気流入下、６０℃で３時間攪拌して、粘稠なポリイ
ミド前駆体溶液を得た。次に、光遮断下の室温で、ミヒ
ラーケトン４．７２ｇ、Ｎ−フェニルグリシン７．０９
ｇ、３，３´−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノ
クマリン）０．７１ｇ、ペンタエリスリトールトリアク
リラート２３．６４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリラート７８．６１ｇ（０．５モル）を加え、攪
拌混合後、フィルターでろ過して感光性ポリイミド前駆
体組成物溶液を得た。

【００５３】この溶液を４インチのシリコンウェファ上
にスピンコートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して、
厚み２５μｍの膜を形成した。この膜面をパターンマス
クし、窒素雰囲気下、７ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水
銀灯を用いて５分間露光を行い、次に、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、キシレン、水の７：２：１（重量比）混
合液に浸漬して、未露光部が溶解除去されるまで現像し
（この時、現像に要する時間は４分）、イソブチルアル
コールでリンスを行ったところ、厚み２２μｍのポリイ
ミド前駆体のパターンを得た。これを窒素雰囲気下、１
５０℃６０分間、２５０℃３０分間、３５０℃３０分間
のステップで加熱処理し、厚み１１μｍのポリイミドの
パターンを得た。

【００５４】実施例７ 実施例６で、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリラ
ート７８．６１ｇ（０．５モル）の代わりにＮ，Ｎ−ジ
メチルアミノエチルアクリラート７１．６０ｇ（０．５
モル）を用いる以外は同様にして、感光性ポリイミド前
駆体組成物溶液を得た。

【００５５】この溶液を用いて、実施例３と同様の操作
を行うことにより、厚み２５μｍのポリイミド前駆体膜
から、厚み２２μｍのポリイミド前駆体のパターンを得
た。これに実施例６と同様の熱処理を行うことにより、
厚み１１μｍのポリイミドのパターンを得た。

【００５６】

【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、露
光および現像液による現像を行うとき、未露光部の溶解
速度が速く、未露光部が現像液によって溶解除去される
までの露光部の現像液への溶解量が少なく、ポリイミド
前駆体の厚膜パターンを確実に得る利点がある。この発
明によれば、高品位の感光性ポリイミド前駆体組成物を
安定して得ることができるうえ、該組成物自体、除去の
必要な有害副生成物などを生じることなく、効率良く安
価に製造できるなどの顕著な効果を奏するものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）分子末端の少なくとも一方がアルコ
   ールの酸エステルとなっているポリアミド酸、（ｂ）光
   反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含む化合物、お
   よび（ｃ）光重合開始剤を含有してなることを特徴とす
   る感光性ポリイミド前駆体組成物。
2. 【請求項２】ポリアミド酸の分子末端の少なくとも一方
   が不飽和アルコールの酸エステルとなっていることを特
   徴とする請求項１記載の感光性ポリイミド前駆体組成
   物。
3. 【請求項３】不飽和アルコールがアルコール性水酸基を
   有するアクリル酸エステルであることを特徴とする請求
   項２記載の感光性ポリイミド前駆体組成物。
4. 【請求項４】光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を
   含む化合物が、アミノ基を有することを特徴とする請求
   項１〜３記載のいずれかである感光性ポリイミド前駆体
   組成物。
5. 【請求項５】テトラカルボン酸二無水物にアルコールを
   開環付加させてテトラカルボン酸エステル無水物を形成
   し、次いで、該テトラカルボン酸エステル無水物、また
   は、該テトラカルボン酸エステル無水物とテトラカルボ
   ン酸二無水物の混合物に、ジアミンを開環付加させるこ
   とによって末端エステル化ポリアミド酸を形成し、その
   後、光反応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含む化合
   物、および、光重合開始剤を混合することを特徴とする
   感光性ポリイミド前駆体組成物の製造方法。