JPH06102298B2 - ステンレスの脱スケール法 - Google Patents
ステンレスの脱スケール法Info
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- JPH06102298B2 JPH06102298B2 JP3355957A JP35595791A JPH06102298B2 JP H06102298 B2 JPH06102298 B2 JP H06102298B2 JP 3355957 A JP3355957 A JP 3355957A JP 35595791 A JP35595791 A JP 35595791A JP H06102298 B2 JPH06102298 B2 JP H06102298B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はステンレスの脱スケー
ル法に関し、特に、ステンレス製のたとえばポット，ジ
ャーなどの真空断熱容器、断熱パネル、断熱パイプなど
の表面の酸化スケールを除去する、ステンレスの脱スケ
ール法に関する。
ル法に関し、特に、ステンレス製のたとえばポット，ジ
ャーなどの真空断熱容器、断熱パネル、断熱パイプなど
の表面の酸化スケールを除去する、ステンレスの脱スケ
ール法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この発明の背景となるステンレス製の真
空断熱容器は、その中のガスを除去して真空度ないし保
温性能を高めるためおよび機械加工による結晶の変質を
取り戻すために、高温下で真空封止される。このように
高温下にされたステンレス製の真空断熱容器は、その表
面が酸化スケールで覆われ、その酸化スケールは、さび
の原因となる。そのため、そのような酸化スケールは、
脱スケール法によって除去される。
空断熱容器は、その中のガスを除去して真空度ないし保
温性能を高めるためおよび機械加工による結晶の変質を
取り戻すために、高温下で真空封止される。このように
高温下にされたステンレス製の真空断熱容器は、その表
面が酸化スケールで覆われ、その酸化スケールは、さび
の原因となる。そのため、そのような酸化スケールは、
脱スケール法によって除去される。
【０００３】従来、このような脱スケール法としては、
ふっ酸および硝酸の混酸などの強酸で酸化スケールを溶
解して除去する方法と、バフ研摩やショットブラストで
酸化スケールを研削して除去する方法とがあった。
ふっ酸および硝酸の混酸などの強酸で酸化スケールを溶
解して除去する方法と、バフ研摩やショットブラストで
酸化スケールを研削して除去する方法とがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
方法では、強酸を使用することや有害なイオンが発生す
ることなどから、脱スケールのための設備や廃水処理に
多大な費用がかかる欠点がある。
方法では、強酸を使用することや有害なイオンが発生す
ることなどから、脱スケールのための設備や廃水処理に
多大な費用がかかる欠点がある。
【０００５】また、後者の方法において、バフ研摩で
は、容器の内側の表面の研摩が難しく、機械化は不可能
に近い。さらに、単なるショットブラストでは、砥粒が
ステンレスの表面に食い込んで残ったり、ステンレスの
表面の面積を増大させたりするために、耐食性を劣化さ
せてしまう。
は、容器の内側の表面の研摩が難しく、機械化は不可能
に近い。さらに、単なるショットブラストでは、砥粒が
ステンレスの表面に食い込んで残ったり、ステンレスの
表面の面積を増大させたりするために、耐食性を劣化さ
せてしまう。
【０００６】それゆえに、この発明の主たる目的は、ス
テンレスの耐食性を殆ど劣化させずに、ステンレスの内
側を含む表面の酸化スケールを安価にかつ簡単に除去す
ることができる、ステンレスの脱スケール法を提供する
ことである。
テンレスの耐食性を殆ど劣化させずに、ステンレスの内
側を含む表面の酸化スケールを安価にかつ簡単に除去す
ることができる、ステンレスの脱スケール法を提供する
ことである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、ステンレス
の表面に、角部を有しかつモース硬さが４以上の第１の
砥粒を吹きつける第１の工程と、この第１の工程の後
に、ステンレスの表面に、球状でかつモース硬さが３以
上の第２の砥粒を吹きつける第２の工程を含む、ステン
レスの脱スケール法である。
の表面に、角部を有しかつモース硬さが４以上の第１の
砥粒を吹きつける第１の工程と、この第１の工程の後
に、ステンレスの表面に、球状でかつモース硬さが３以
上の第２の砥粒を吹きつける第２の工程を含む、ステン
レスの脱スケール法である。
【０００８】
【作用】第１の工程によって、ステンレスの表面の酸化
スケールが第１の砥粒で研削され除去される。また、こ
の第１の工程によって、ステンレスの表面に第１の砥粒
が食い込んだまま残る。それとともに、ステンレスの表
面も第１の砥粒で研削され、その表面が凹凸となり、そ
の表面の面積が増大する。
スケールが第１の砥粒で研削され除去される。また、こ
の第１の工程によって、ステンレスの表面に第１の砥粒
が食い込んだまま残る。それとともに、ステンレスの表
面も第１の砥粒で研削され、その表面が凹凸となり、そ
の表面の面積が増大する。
【０００９】そして、第２の工程によって、ステンレス
の表面に残っている第１の砥粒が、第２の砥粒で除去さ
れる。それとともに、ステンレスの表面が第２の砥粒で
平滑にされ、その表面の面積が減少する。
の表面に残っている第１の砥粒が、第２の砥粒で除去さ
れる。それとともに、ステンレスの表面が第２の砥粒で
平滑にされ、その表面の面積が減少する。
【００１０】
【発明の効果】この発明によれば、ふっ酸および硝酸の
混酸などの強酸を用いないので、設備などにあまり費用
がかからず、ステンレスの内側を含む表面の酸化スケー
ルを安価に除去することができる。
混酸などの強酸を用いないので、設備などにあまり費用
がかからず、ステンレスの内側を含む表面の酸化スケー
ルを安価に除去することができる。
【００１１】しかも、この発明によれば、バフ研摩に比
べて、ステンレスの内側を含む表面の酸化スケールを簡
単に除去することができる。
べて、ステンレスの内側を含む表面の酸化スケールを簡
単に除去することができる。
【００１２】さらに、この発明によれば、ステンレスの
表面に砥粒が残りにくく、かつ、ステンレスの表面が平
滑にされるので、ステンレスの耐食性を殆ど劣化させな
い。
表面に砥粒が残りにくく、かつ、ステンレスの表面が平
滑にされるので、ステンレスの耐食性を殆ど劣化させな
い。
【００１３】この発明の上述の目的，その他の目的，特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
【００１４】
【実施例】この実施例では、ステンレス製の真空断熱容
器の表面の酸化スケールを除去する方法を例にして説明
する。
器の表面の酸化スケールを除去する方法を例にして説明
する。
【００１５】図１（Ａ）に示すように、加熱処理された
ステンレス製の真空断熱容器１０は、その表面が、酸化
スケール１２で覆われている。
ステンレス製の真空断熱容器１０は、その表面が、酸化
スケール１２で覆われている。
【００１６】第１の工程では、図１（Ｂ）に示すよう
に、真空断熱容器１０の表面に、第１の砥粒１４が、た
とえばショットブラストで吹きつけられる。第１の砥粒
１４としては、角部を有しかつモース硬さ４以上の砥粒
が用いられる。したがって、第１の工程によって、真空
断熱容器１０の表面の酸化スケール１２が、第１の砥粒
１４で研削され除去される。
に、真空断熱容器１０の表面に、第１の砥粒１４が、た
とえばショットブラストで吹きつけられる。第１の砥粒
１４としては、角部を有しかつモース硬さ４以上の砥粒
が用いられる。したがって、第１の工程によって、真空
断熱容器１０の表面の酸化スケール１２が、第１の砥粒
１４で研削され除去される。
【００１７】酸化スケール１２を除去するためには、第
１の砥粒１４として硬くて角部が鋭い砥粒を用いるのが
有効である。このような砥粒としては、たとえばホワイ
トアランダム，アランダム，エメリー，サンド，鉄粉お
よびカットワイヤなどが挙げられる。
１の砥粒１４として硬くて角部が鋭い砥粒を用いるのが
有効である。このような砥粒としては、たとえばホワイ
トアランダム，アランダム，エメリー，サンド，鉄粉お
よびカットワイヤなどが挙げられる。
【００１８】また、第１の砥粒１４は、その径が大きす
ぎても小さいすぎても酸化スケールを除去する効果が少
なく、その径が２０〜１０００μｍの範囲にあることが
好ましい。
ぎても小さいすぎても酸化スケールを除去する効果が少
なく、その径が２０〜１０００μｍの範囲にあることが
好ましい。
【００１９】なお、第１の工程では、第１の砥粒１４を
吹きつけるための空気圧は、２〜７ｋｇ／ｃｍ2 の範囲
にあることが好ましい。
吹きつけるための空気圧は、２〜７ｋｇ／ｃｍ2 の範囲
にあることが好ましい。
【００２０】また、第１の工程によって、真空断熱容器
１０の表面に第１の砥粒１４が食い込んだまま残る。そ
れとともに、真空断熱容器１０の表面も第１の砥粒１４
で研削され、その表面が凹凸となり、その表面の面積が
増大する。
１０の表面に第１の砥粒１４が食い込んだまま残る。そ
れとともに、真空断熱容器１０の表面も第１の砥粒１４
で研削され、その表面が凹凸となり、その表面の面積が
増大する。
【００２１】そして、第２の工程では、図１（Ｃ）に示
すように、真空断熱容器１０の表面に、第２の砥粒１６
が、たとえばショットブラストで吹きつけられる。第２
の砥粒１６としては、球状でかつモール硬さ３以上の砥
粒が用いられる。したがって、第２の工程によって、真
空断熱容器１０の表面に残っている第１の砥粒１４が、
第２の砥粒１６で除去される。それとともに、真空断熱
容器１０の表面が第２の砥粒１６で平滑にされ、その表
面の面積が減少する。この結果、真空断熱容器１０の表
面に隙間腐食の原因となる残留砥粒や激しい凹凸がなく
なり、真空断熱容器１０の耐食性が向上する。
すように、真空断熱容器１０の表面に、第２の砥粒１６
が、たとえばショットブラストで吹きつけられる。第２
の砥粒１６としては、球状でかつモール硬さ３以上の砥
粒が用いられる。したがって、第２の工程によって、真
空断熱容器１０の表面に残っている第１の砥粒１４が、
第２の砥粒１６で除去される。それとともに、真空断熱
容器１０の表面が第２の砥粒１６で平滑にされ、その表
面の面積が減少する。この結果、真空断熱容器１０の表
面に隙間腐食の原因となる残留砥粒や激しい凹凸がなく
なり、真空断熱容器１０の耐食性が向上する。
【００２２】第１の砥粒１４を除去しかつ真空断熱容器
１０の表面を平滑にするためには、第２の砥粒１６とし
て角部を持たない球状の砥粒を用いるのが有効である。
このような砥粒としては、ガラスビーズおよびスチール
ボールなどが挙げられる。
１０の表面を平滑にするためには、第２の砥粒１６とし
て角部を持たない球状の砥粒を用いるのが有効である。
このような砥粒としては、ガラスビーズおよびスチール
ボールなどが挙げられる。
【００２３】また、第２の砥粒１６は、その径が大きす
ぎても小さすぎても第１の砥粒１４の除去しかつ真空断
熱容器１０の表面を平滑にする効果が少なく、５０〜２
０００μｍの範囲にあることが好ましい。
ぎても小さすぎても第１の砥粒１４の除去しかつ真空断
熱容器１０の表面を平滑にする効果が少なく、５０〜２
０００μｍの範囲にあることが好ましい。
【００２４】なお、第２の工程では、第２の砥粒１６を
吹きつけるための空気圧は、２〜７ｋｇ／ｃｍ2 の範囲
にあることが好ましい。
吹きつけるための空気圧は、２〜７ｋｇ／ｃｍ2 の範囲
にあることが好ましい。
【００２５】実験例 まず、試料番号１〜１４となる１４枚のステンレス板を
準備した。これらのステンレス板は、加熱処理され、表
面が酸化スケールで覆われている。
準備した。これらのステンレス板は、加熱処理され、表
面が酸化スケールで覆われている。
【００２６】そして、これらのステンレス板の表面に、
それぞれ、表１に示す第１の工程の処理を行った。
それぞれ、表１に示す第１の工程の処理を行った。
【００２７】
【表１】
【００２８】この第１の工程の処理は、ステンレス板に
砥粒を吹きつける処理である。この場合、砥粒として、
鋭角の角部を有する２０μｍ径のホワイトアランダム
と、鋭角の角部を有する１００μｍ径のエメリーと、球
状の１００μｍ径のガラスビーズとを用いた。また、砥
粒の吹付圧は、ホワインアランダムが４ｋｇ／ｃｍ2 と
し、エメリーが５ｋｇ／ｃｍ2 とし、ガラスビーズが４
ｋｇ／ｃｍ2 とした。
砥粒を吹きつける処理である。この場合、砥粒として、
鋭角の角部を有する２０μｍ径のホワイトアランダム
と、鋭角の角部を有する１００μｍ径のエメリーと、球
状の１００μｍ径のガラスビーズとを用いた。また、砥
粒の吹付圧は、ホワインアランダムが４ｋｇ／ｃｍ2 と
し、エメリーが５ｋｇ／ｃｍ2 とし、ガラスビーズが４
ｋｇ／ｃｍ2 とした。
【００２９】第１の工程の処理による結果を表１に示
す。この結果より明らかなように、鋭角の角部を有する
砥粒を用いて第１の工程の処理を行えば、ステンレス板
の表面の酸化スケールが除去されるとともに、砥粒がス
テンレス板の表面に残る。それに対して、球状の砥粒を
用いて第１の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面
に酸化スケールが残り、ステンレス板の表面に砥粒は残
らない。
す。この結果より明らかなように、鋭角の角部を有する
砥粒を用いて第１の工程の処理を行えば、ステンレス板
の表面の酸化スケールが除去されるとともに、砥粒がス
テンレス板の表面に残る。それに対して、球状の砥粒を
用いて第１の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面
に酸化スケールが残り、ステンレス板の表面に砥粒は残
らない。
【００３０】次に、砥粒が残ったステンレス板の表面
に、表１に示す第２の工程の処理を行った。この第２の
工程の処理も、ステンレス板の表面に砥粒を吹きつける
処理である。第２の工程の処理では、砥粒として、ホワ
イトアランダム，エメリー，ガラスビーズおよびスチー
ルを用いた。ホワイトアランダムは、鋭角の角部を有す
る、５０μｍ径，１００μｍ径および８００μ径のもの
を用いた。エメリーは、鋭角の角部を有する、５０μｍ
径および１００μ径のものを用いた。ガラスビーズは、
球状である、５０μｍ径，１００μｍ径および１０００
μｍ径のものを用いた。スチールは、球状である１００
μｍ径のものを用いた。また、砥粒の吹付圧は、４ｋｇ
／ｃｍ2 ，６ｋｇ／ｃｍ2 および７ｋｇ／ｃｍ2 とし
た。
に、表１に示す第２の工程の処理を行った。この第２の
工程の処理も、ステンレス板の表面に砥粒を吹きつける
処理である。第２の工程の処理では、砥粒として、ホワ
イトアランダム，エメリー，ガラスビーズおよびスチー
ルを用いた。ホワイトアランダムは、鋭角の角部を有す
る、５０μｍ径，１００μｍ径および８００μ径のもの
を用いた。エメリーは、鋭角の角部を有する、５０μｍ
径および１００μ径のものを用いた。ガラスビーズは、
球状である、５０μｍ径，１００μｍ径および１０００
μｍ径のものを用いた。スチールは、球状である１００
μｍ径のものを用いた。また、砥粒の吹付圧は、４ｋｇ
／ｃｍ2 ，６ｋｇ／ｃｍ2 および７ｋｇ／ｃｍ2 とし
た。
【００３１】第２の工程の処理による結果を表１に示
す。この結果より明らかなように、球状の砥粒を用いて
第２の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面から砥
粒が除去される。それに対して、角部を有する砥粒を用
いて第２の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面に
砥粒が残る。
す。この結果より明らかなように、球状の砥粒を用いて
第２の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面から砥
粒が除去される。それに対して、角部を有する砥粒を用
いて第２の工程の処理を行えば、ステンレス板の表面に
砥粒が残る。
【００３２】さらに、第２の工程の処理を行ったステン
レス板の耐食性を調べるために、それらのステンレス板
を２００時間放置した。そして、ステンレス板の表面に
さびが発生したかしなかったかを調べた。その結果を表
１に示す。
レス板の耐食性を調べるために、それらのステンレス板
を２００時間放置した。そして、ステンレス板の表面に
さびが発生したかしなかったかを調べた。その結果を表
１に示す。
【００３３】さらに、表１には、判定として、ステンレ
ス板の表面から酸化スケールが除去されかつステンレス
板の耐食性のよいものを「○」で、そうでないものを
「×」で示した。
ス板の表面から酸化スケールが除去されかつステンレス
板の耐食性のよいものを「○」で、そうでないものを
「×」で示した。
【００３４】表１の結果らか明らかなように、表面が酸
化スケールで覆われたステンレスの表面に、角部を有す
る砥粒で第１の工程の処理を行い、その後で、球状の砥
粒で第２の工程の処理を行えば、ステンレスの表面から
酸化スケールが除去されるとともに、ステンレスの表面
に砥粒が残らず、ステンレスの耐食性がよくなる。
化スケールで覆われたステンレスの表面に、角部を有す
る砥粒で第１の工程の処理を行い、その後で、球状の砥
粒で第２の工程の処理を行えば、ステンレスの表面から
酸化スケールが除去されるとともに、ステンレスの表面
に砥粒が残らず、ステンレスの耐食性がよくなる。
【図１】（Ａ）はステンレス製の真空断熱容器およびそ
の表面の酸化スケールを示す断面図解図であり、（Ｂ）
は第１の工程を示す断面図解図であり、（Ｃ）は第２の
工程を示す断面図解図である。
の表面の酸化スケールを示す断面図解図であり、（Ｂ）
は第１の工程を示す断面図解図であり、（Ｃ）は第２の
工程を示す断面図解図である。
１０ ステンレス製の真空断熱容器 １２ 酸化スケール １４ 第１の砥粒 １６ 第２の砥粒
Claims (3)
- 【請求項１】 角部を有しかつモース硬さが４以上の第
１の砥粒をステンレスの表面に吹きつける第１の工程、
および前記第１の工程の後に、球状でかつモース硬さが
３以上の第２の砥粒を前記ステンレスの表面に吹きつけ
る第２の工程を含む、ステンレスの脱スケール法。 - 【請求項２】 前記第１の砥粒の径は、２０〜１０００
μｍの範囲にある、請求項１のステンレスの脱スケール
法。 - 【請求項３】 前記第２の砥粒の径は、５０〜２０００
μｍの範囲にある、請求項１または請求項２のステンレ
スの脱スケール法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3355957A JPH06102298B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | ステンレスの脱スケール法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3355957A JPH06102298B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | ステンレスの脱スケール法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05169368A JPH05169368A (ja) | 1993-07-09 |
| JPH06102298B2 true JPH06102298B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=18446600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3355957A Expired - Lifetime JPH06102298B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | ステンレスの脱スケール法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06102298B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5341617A (en) * | 1976-08-19 | 1978-04-15 | Wheeler Colin | Rotary machine |
| JPS5544134A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-28 | Hitachi Ltd | Guide bearing |
| JPS59227365A (ja) * | 1983-06-09 | 1984-12-20 | Fuji Seisakusho:Kk | シヨツトピ−ニング表面仕上法 |
| JPS63207563A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-26 | Fuji Seisakusho:Kk | 放電加工による金型の研掃方法 |
| JPH0217607A (ja) * | 1988-07-06 | 1990-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | グレーズ抵抗ペーストおよび混成集積回路装置 |
| JPH0341617A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-22 | Nec Gumma Ltd | 磁気ヘッド |
-
1991
- 1991-12-20 JP JP3355957A patent/JPH06102298B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5341617A (en) * | 1976-08-19 | 1978-04-15 | Wheeler Colin | Rotary machine |
| JPS5544134A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-28 | Hitachi Ltd | Guide bearing |
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| JPS63207563A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-26 | Fuji Seisakusho:Kk | 放電加工による金型の研掃方法 |
| JPH0217607A (ja) * | 1988-07-06 | 1990-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | グレーズ抵抗ペーストおよび混成集積回路装置 |
| JPH0341617A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-22 | Nec Gumma Ltd | 磁気ヘッド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05169368A (ja) | 1993-07-09 |
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