JPH0597993A - ポリカーボネートの製造法 - Google Patents
ポリカーボネートの製造法Info
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- JPH0597993A JPH0597993A JP26207491A JP26207491A JPH0597993A JP H0597993 A JPH0597993 A JP H0597993A JP 26207491 A JP26207491 A JP 26207491A JP 26207491 A JP26207491 A JP 26207491A JP H0597993 A JPH0597993 A JP H0597993A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】無色透明な高温時に分子量低下を起こさない高
分子量ポリカーボネートを得る。 【構成】触媒として塩基性窒素化合物とアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属化合物の二元系を用いることによ
る、ビスフェノールＡとジフェニルカーボネートとのエ
ステル交換法（溶融重縮合）。 【効果】塩素イオンやナトリウムイオン含量が極めて少
ない無色透明な高温時に分子量低下を起こさない高分子
量ポリカーボネートが得られた。
分子量ポリカーボネートを得る。 【構成】触媒として塩基性窒素化合物とアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属化合物の二元系を用いることによ
る、ビスフェノールＡとジフェニルカーボネートとのエ
ステル交換法（溶融重縮合）。 【効果】塩素イオンやナトリウムイオン含量が極めて少
ない無色透明な高温時に分子量低下を起こさない高分子
量ポリカーボネートが得られた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、エステル交換触媒の存
在下で２価フェノールと炭酸ジエステルとを重縮合させ
て得られるナトリウム、塩素含有量の少ない高温時に分
子量低下を起こさない高分子量のポリカーボネートの製
造法に関するものである。
在下で２価フェノールと炭酸ジエステルとを重縮合させ
て得られるナトリウム、塩素含有量の少ない高温時に分
子量低下を起こさない高分子量のポリカーボネートの製
造法に関するものである。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】本発明の
高分子量ポリカーボネートは、幅広い用途、特に射出成
形用の用途を有する汎用エンジニアリングサーモプラス
チックスである。
高分子量ポリカーボネートは、幅広い用途、特に射出成
形用の用途を有する汎用エンジニアリングサーモプラス
チックスである。
【０００３】界面重縮合法は、一般的にポリカーボネー
トの製造に効果的であるが、有毒なホスゲンを使用する
ことや塩素イオンが生成するポリカーボネートに残存す
ることなどの欠点を有する。
トの製造に効果的であるが、有毒なホスゲンを使用する
ことや塩素イオンが生成するポリカーボネートに残存す
ることなどの欠点を有する。
【０００４】これらの欠点を解消するために、有毒なホ
スゲンの代わりにホスゲンのダイマーである液体のトリ
クロロメチルクロロホルメートを用いて特殊な２価フェ
ノールと界面重縮合反応させてポリカーボネートを製造
する方法が特開昭６３−１８２３３６号公報に開示され
ている。
スゲンの代わりにホスゲンのダイマーである液体のトリ
クロロメチルクロロホルメートを用いて特殊な２価フェ
ノールと界面重縮合反応させてポリカーボネートを製造
する方法が特開昭６３−１８２３３６号公報に開示され
ている。
【０００５】しかしながら、特殊な２価フェノールとし
て９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン
類についての記載があるのみである。また、有毒なホス
ゲンの代わりにトリホスゲンを用いて２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパンからポリカーボネート
を得る方法がＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．（アンゲバンテ．
ヘミー）９９．９２２（１９８７），ドイツ特許ＤＥ３
４４０１４１号明細書に記載されているが、ホスゲンが
発生する反応機構も提唱されている。
て９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン
類についての記載があるのみである。また、有毒なホス
ゲンの代わりにトリホスゲンを用いて２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパンからポリカーボネート
を得る方法がＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．（アンゲバンテ．
ヘミー）９９．９２２（１９８７），ドイツ特許ＤＥ３
４４０１４１号明細書に記載されているが、ホスゲンが
発生する反応機構も提唱されている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、カーボネ
ート結合を生成する化合物として炭酸ジエステルと２価
フェノールを塩基性窒素化合物から選択された触媒とア
ルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物から選
択された触媒を組み合わせた二元系触媒の存在下、溶融
重縮合させることにより、毒性のホスゲンを用いずかつ
塩素イオンやナトリウムイオンを本質的に含まない高温
時に分子量低下を起こさない高分子量ポリカーボネート
が得られる事実を見出だすに至った。
ート結合を生成する化合物として炭酸ジエステルと２価
フェノールを塩基性窒素化合物から選択された触媒とア
ルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物から選
択された触媒を組み合わせた二元系触媒の存在下、溶融
重縮合させることにより、毒性のホスゲンを用いずかつ
塩素イオンやナトリウムイオンを本質的に含まない高温
時に分子量低下を起こさない高分子量ポリカーボネート
が得られる事実を見出だすに至った。
【０００７】本発明は、（１）エステル交換触媒の存在
下で２価フェノールと炭酸ジエステルとを重縮合させる
際に、両末端エチレン性化合物を添加することを特徴と
するポリカーボネートの製造法。（２）エステル交換触
媒が塩基性窒素化合物から選択された触媒及びアルカリ
金属化合物またはアルカリ土類金属化合物から選択され
た触媒であることを特徴とする請求項１記載のポリカー
ボネートの製造法。（３）２価フェノールが化学式１，
２，３，４で表される請求項１，請求項２記載のポリカ
ーボネートの製造法。（４）エチレン性化合物が化学式
５で表される請求項１，２，３記載のポリカーボネート
の製造法。（５）請求項３記載の２価フェノールから選
ばれる２種または３種以上を用いてなる請求項１，２，
３，４記載の共重合ポリカーボネートの製造法。（６）
ポリカーボネートの全末端のうち、水酸基末端が２０モ
ル％以下である事を特徴とする請求項１，２，３，４，
５記載のポリカーボネートの製造法。（７）ポリカーボ
ネート中のナトリウムイオン含量が１ｐｐｍ以下であ
り、かつ塩素イオン含量が１０ｐｐｍ以下であることを
特徴とする請求項１，２，３，４，５，６記載のポリカ
ーボネートの製造法。本発明に使用しうる塩基性窒素化
合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノ
ピリジン、４−（４−メチルピロリジニル）ピリジン、
４−ジエチルアミノピリジン、４−ピロリジノピリジ
ン、４−アミノピリジン、２−アミノピリジン、２−ヒ
ドロキシピリジン、２−メトキシピリジン、４−メトキ
シピリジン、４−ヒドロキシピリジン、２−ジメチルア
ミノイミダゾール、２−メトキシイミダゾール、２−メ
ルカプトイミダゾール、２−アミノピリジン、アミノキ
ノリン、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、４−
メチルイミダゾール、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢ
ＣＯ）等が挙げられる。
下で２価フェノールと炭酸ジエステルとを重縮合させる
際に、両末端エチレン性化合物を添加することを特徴と
するポリカーボネートの製造法。（２）エステル交換触
媒が塩基性窒素化合物から選択された触媒及びアルカリ
金属化合物またはアルカリ土類金属化合物から選択され
た触媒であることを特徴とする請求項１記載のポリカー
ボネートの製造法。（３）２価フェノールが化学式１，
２，３，４で表される請求項１，請求項２記載のポリカ
ーボネートの製造法。（４）エチレン性化合物が化学式
５で表される請求項１，２，３記載のポリカーボネート
の製造法。（５）請求項３記載の２価フェノールから選
ばれる２種または３種以上を用いてなる請求項１，２，
３，４記載の共重合ポリカーボネートの製造法。（６）
ポリカーボネートの全末端のうち、水酸基末端が２０モ
ル％以下である事を特徴とする請求項１，２，３，４，
５記載のポリカーボネートの製造法。（７）ポリカーボ
ネート中のナトリウムイオン含量が１ｐｐｍ以下であ
り、かつ塩素イオン含量が１０ｐｐｍ以下であることを
特徴とする請求項１，２，３，４，５，６記載のポリカ
ーボネートの製造法。本発明に使用しうる塩基性窒素化
合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノ
ピリジン、４−（４−メチルピロリジニル）ピリジン、
４−ジエチルアミノピリジン、４−ピロリジノピリジ
ン、４−アミノピリジン、２−アミノピリジン、２−ヒ
ドロキシピリジン、２−メトキシピリジン、４−メトキ
シピリジン、４−ヒドロキシピリジン、２−ジメチルア
ミノイミダゾール、２−メトキシイミダゾール、２−メ
ルカプトイミダゾール、２−アミノピリジン、アミノキ
ノリン、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、４−
メチルイミダゾール、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢ
ＣＯ）等が挙げられる。
【０００８】また、炭酸ジエステルの代表例としては、
フェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス
（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボ
ネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）
カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボ
ネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカー
ボネート等が用いられる。これらのうち特にジフェニル
カーボネートが好ましい。
フェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス
（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボ
ネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）
カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボ
ネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカー
ボネート等が用いられる。これらのうち特にジフェニル
カーボネートが好ましい。
【０００９】また、２価フェノールの代表例としては、
以下の化合物が挙げられる。化学式１に分類されるビス
フェノールとして、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）オクタン、４，４´−ジヒドロキシ
−２，２，２−トリフェニルエタン、２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン等が挙げられる。
以下の化合物が挙げられる。化学式１に分類されるビス
フェノールとして、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）オクタン、４，４´−ジヒドロキシ
−２，２，２−トリフェニルエタン、２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン等が挙げられる。
【００１０】化学式２に分類されるビスフェノールとし
て、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ．ブチルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシ−３−ターシャリーブチルフェニル）プロパン等が
挙げられる。
て、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ．ブチルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシ−３−ターシャリーブチルフェニル）プロパン等が
挙げられる。
【００１１】化学式３に分類されるビスフェノールとし
て、１，１´−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン、１，１´−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が
挙げられる。
て、１，１´−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン、１，１´−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が
挙げられる。
【００１２】化学式４に分類されるビスフェノールとし
て、１，１´−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンが挙げられる。さらに、化学式１，２，３，
４，の中から選択された２種または３種以上の２価フェ
ノールを組み合わせた共重合ポリカーボネートを製造す
ることも可能である。
て、１，１´−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンが挙げられる。さらに、化学式１，２，３，
４，の中から選択された２種または３種以上の２価フェ
ノールを組み合わせた共重合ポリカーボネートを製造す
ることも可能である。
【００１３】エチレン性化合物の代表例としては、エチ
レングリコールジア（メタ）クリレート、１，３−プロ
ピレングリコールジア（メタ）クリレート、２−メチル
−１，３−プロピレングリコールジア（メタ）クリレー
ト、１，４−ブチレングリコールジア（メタ）クリレー
ト、ネオペンチルグリコールジア（メタ）クリレート、
ヘキシルグリコールジア（メタ）クリレート、シクロヘ
キサンジオールジア（メタ）クリレート、１，２−ジヒ
ドロキシベンゼンジア（メタ）クリレート、１，４−ジ
ヒドロキシベンゼンジア（メタ）クリレート、４，４´
−イソプロピリデンジフェノールジア（メタ）クリレー
ト等が挙げられる。
レングリコールジア（メタ）クリレート、１，３−プロ
ピレングリコールジア（メタ）クリレート、２−メチル
−１，３−プロピレングリコールジア（メタ）クリレー
ト、１，４−ブチレングリコールジア（メタ）クリレー
ト、ネオペンチルグリコールジア（メタ）クリレート、
ヘキシルグリコールジア（メタ）クリレート、シクロヘ
キサンジオールジア（メタ）クリレート、１，２−ジヒ
ドロキシベンゼンジア（メタ）クリレート、１，４−ジ
ヒドロキシベンゼンジア（メタ）クリレート、４，４´
−イソプロピリデンジフェノールジア（メタ）クリレー
ト等が挙げられる。
【００１４】本発明の方法は、塩基性窒素化合物から選
択された触媒とアルカリ金属化合物またはアルカリ土類
金属化合物から選択された触媒を組み合わせた二元系触
媒を用いてビスフェノールＡのような２価フェノールを
ビスフェニルカーボネートと溶融重縮合させることによ
って実施される。
択された触媒とアルカリ金属化合物またはアルカリ土類
金属化合物から選択された触媒を組み合わせた二元系触
媒を用いてビスフェノールＡのような２価フェノールを
ビスフェニルカーボネートと溶融重縮合させることによ
って実施される。
【００１５】この反応が進む温度は、１００℃以上〜約
３００℃までの範囲である。好ましくは１３０℃〜２８
０℃の範囲である。１３０℃未満であると反応速度が遅
くなり、２８０℃を越えると副反応が起こりやすくな
る。
３００℃までの範囲である。好ましくは１３０℃〜２８
０℃の範囲である。１３０℃未満であると反応速度が遅
くなり、２８０℃を越えると副反応が起こりやすくな
る。
【００１６】触媒として用いる塩基性窒素化合物は、反
応系中に存在する２価のフェノールに対して１０-1モル
から１０-5モルを必要とするが、好ましくは、１０-2モ
ルから１０-4モルである。１０-5モル未満であると触媒
作用が少なくポリカーボネートの重合速度が遅くなり、
１０-1モル以上であると触媒として生成するポリカーボ
ネートに残存する率が高くなるので、ポリカーボネート
の物性低下を招く。
応系中に存在する２価のフェノールに対して１０-1モル
から１０-5モルを必要とするが、好ましくは、１０-2モ
ルから１０-4モルである。１０-5モル未満であると触媒
作用が少なくポリカーボネートの重合速度が遅くなり、
１０-1モル以上であると触媒として生成するポリカーボ
ネートに残存する率が高くなるので、ポリカーボネート
の物性低下を招く。
【００１７】また、アルカリ金属化合物またはアルカリ
土類金属化合物は、反応系中に存在する２価フェノール
に対して１０-2〜１０-7モルを必要とするが、好ましく
は、１０-3〜１０-6モルである。１０-7モル未満である
と触媒作用が少なくポリカーボネートの重合速度が遅く
なり、１０-2モル以上であると触媒として生成するポリ
カーボネートに残存する率が高くなるので、ポリカーボ
ネートの物性低下を招く。
土類金属化合物は、反応系中に存在する２価フェノール
に対して１０-2〜１０-7モルを必要とするが、好ましく
は、１０-3〜１０-6モルである。１０-7モル未満である
と触媒作用が少なくポリカーボネートの重合速度が遅く
なり、１０-2モル以上であると触媒として生成するポリ
カーボネートに残存する率が高くなるので、ポリカーボ
ネートの物性低下を招く。
【００１８】また、炭酸ジエステルの必要量は、反応系
中に存在する２価フェノールと当モル必要である。一般
に高分子量のポリカーボネートが生成するためにはカー
ボネート化合物１モルと２価フェノールの１モルが反応
しなければならない。ビスフェニルカーボネートを用い
た場合、フェノール２モルが前記反応によって生じる。
これら２モルのフェノールは反応系外に留去される。
中に存在する２価フェノールと当モル必要である。一般
に高分子量のポリカーボネートが生成するためにはカー
ボネート化合物１モルと２価フェノールの１モルが反応
しなければならない。ビスフェニルカーボネートを用い
た場合、フェノール２モルが前記反応によって生じる。
これら２モルのフェノールは反応系外に留去される。
【００１９】しかしながら、用いられるビスフェニルカ
ーボネートは２価フェノール１モルに対して、１．０１
〜１．５倍モル、好ましくは、１．０１５〜１．２０倍
モルの量で用いられることが望ましい。重合させる際に
添加される両末端エチレン性化合物は、反応系中に存在
する２価フェノール１モルに対して１０-4ｍｏｌから１
０-2ｍｏｌが適当である。１０-4ｍｏｌ未満であると高
温時の分子量低下を防ぐ作用が少なく、１０-2ｍｏｌを
越えると重縮合時に悪影響を及ぼし、生成するポリカー
ボネートの分子量低下を引き起こす。添加される両末端
エチレン性化合物は、好ましくは、４，４´−イソプロ
ピリデンジフェノールジアクレートまたは４，４´−イ
ソプロピリデン−ジフェノールジメタクリレートであ
る。
ーボネートは２価フェノール１モルに対して、１．０１
〜１．５倍モル、好ましくは、１．０１５〜１．２０倍
モルの量で用いられることが望ましい。重合させる際に
添加される両末端エチレン性化合物は、反応系中に存在
する２価フェノール１モルに対して１０-4ｍｏｌから１
０-2ｍｏｌが適当である。１０-4ｍｏｌ未満であると高
温時の分子量低下を防ぐ作用が少なく、１０-2ｍｏｌを
越えると重縮合時に悪影響を及ぼし、生成するポリカー
ボネートの分子量低下を引き起こす。添加される両末端
エチレン性化合物は、好ましくは、４，４´−イソプロ
ピリデンジフェノールジアクレートまたは４，４´−イ
ソプロピリデン−ジフェノールジメタクリレートであ
る。
【００２０】以下に本発明を実施例について説明する
が、本発明は、これらの実施例によって限定されるもの
ではない。
が、本発明は、これらの実施例によって限定されるもの
ではない。
【００２１】
【実施例１】２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン２２．８ｇ（０．１モル）と２−メチルイミダ
ゾール０．１６４ｇ（２×１０-2モル）、酢酸カリウム
０．０１９６ｇ（２×１０-4モル）、４，４´−ジイソ
プロピリデンジフェノールジメタクリレート０．３６４
ｇ（１０-3モル）、ビスフェニルカーボネート２１．４
ｇ（０．１モル）を加え窒素下、１８０℃で１時間攪拌
後、徐々に減圧にしながら昇温させ、最終的に０．１Ｔ
ｏｒｒ，２７０℃，１時間重縮合反応させ生成するフェ
ノールを留去させて、無色透明なポリカーボネートを得
た。粘度平均分子量を測定するとＭｖ＝２９，０００で
あった。また、ガラス転移温度は１５０℃であった。粘
度平均分子量の測定方法は、２０℃における塩化メチレ
ン溶液の固有粘度［η］をウベローデ粘度計を用いて測
定し、次式を用いて粘度平均分子量Ｍｖを計算した。 ［η］＝１．１１×１０-4（Ｍｖ）0.82 末端水酸基の濃度は、８モル％であった。末端水酸基濃
度の測定方法は末端基構造：サンプル０．４ｇを３ｍｌ
のクロロホルムに溶解し、４０℃で１３Ｃ−ＮＭＲ（日
本電子社製、ＧＸ−２７０）を用いて、末端のＯＨ基お
よび構造を測定した。末端のＯＨ基濃度は、全末端基濃
度に対する割合（％）で計算した。
プロパン２２．８ｇ（０．１モル）と２−メチルイミダ
ゾール０．１６４ｇ（２×１０-2モル）、酢酸カリウム
０．０１９６ｇ（２×１０-4モル）、４，４´−ジイソ
プロピリデンジフェノールジメタクリレート０．３６４
ｇ（１０-3モル）、ビスフェニルカーボネート２１．４
ｇ（０．１モル）を加え窒素下、１８０℃で１時間攪拌
後、徐々に減圧にしながら昇温させ、最終的に０．１Ｔ
ｏｒｒ，２７０℃，１時間重縮合反応させ生成するフェ
ノールを留去させて、無色透明なポリカーボネートを得
た。粘度平均分子量を測定するとＭｖ＝２９，０００で
あった。また、ガラス転移温度は１５０℃であった。粘
度平均分子量の測定方法は、２０℃における塩化メチレ
ン溶液の固有粘度［η］をウベローデ粘度計を用いて測
定し、次式を用いて粘度平均分子量Ｍｖを計算した。 ［η］＝１．１１×１０-4（Ｍｖ）0.82 末端水酸基の濃度は、８モル％であった。末端水酸基濃
度の測定方法は末端基構造：サンプル０．４ｇを３ｍｌ
のクロロホルムに溶解し、４０℃で１３Ｃ−ＮＭＲ（日
本電子社製、ＧＸ−２７０）を用いて、末端のＯＨ基お
よび構造を測定した。末端のＯＨ基濃度は、全末端基濃
度に対する割合（％）で計算した。
【００２２】末端ＯＨ基濃度：サンプル０．２５ｇを１
０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、ＦＴ−ＩＲ（島津製作
所製、ＦＴ−ＩＲ４３００）を用いて、３５８０ｃｍ-1
付近にでるＯＨ基の吸光度を測定し、末端ＯＨ基濃度を
算出した。また、ポリマー中に含まれるナトリウム含量
は０．１ｐｐｍであり、塩素含量は、１ｐｐｍであっ
た。ナトリウム、塩素含量の測定方法は、以下の通りで
ある。
０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、ＦＴ−ＩＲ（島津製作
所製、ＦＴ−ＩＲ４３００）を用いて、３５８０ｃｍ-1
付近にでるＯＨ基の吸光度を測定し、末端ＯＨ基濃度を
算出した。また、ポリマー中に含まれるナトリウム含量
は０．１ｐｐｍであり、塩素含量は、１ｐｐｍであっ
た。ナトリウム、塩素含量の測定方法は、以下の通りで
ある。
【００２３】ポリマー中のナトリウム含量：２０ｇのポ
リマーを灰化し、原子吸光（第二精工舎、ＳＡＳ／７２
７）を用いて限界値０．０５ｐｐｍまで測定した。
リマーを灰化し、原子吸光（第二精工舎、ＳＡＳ／７２
７）を用いて限界値０．０５ｐｐｍまで測定した。
【００２４】ポリマー中の塩素含量：５０ｍｇのポリマ
ーをＳｃｈｏｒｉｇｅｒ法によりガス化して水溶液に
し、イオンクロマトグラフィー（Ｙｏｋｏｇａｗａ、Ｉ
Ｃ５００）を用いて、限界値０．５ｐｐｍまで測定し
た。
ーをＳｃｈｏｒｉｇｅｒ法によりガス化して水溶液に
し、イオンクロマトグラフィー（Ｙｏｋｏｇａｗａ、Ｉ
Ｃ５００）を用いて、限界値０．５ｐｐｍまで測定し
た。
【００２５】
【実施例２】実施例１と全く同様の条件下で２−メチル
イミダゾールの代わりに４−ジメチルアミノピリジン
０．０１２２ｇ（１×１０-4モル）、４，４´−ジイソ
プロピリデンジフェノールジメタクリレート０．３６４
ｇ（１０-3モル）を加え、窒素下、２時間攪拌後、実施
例１と同様の方法で重縮合反応を行い無色透明のポリカ
ーボネートを得た。粘度平均分子量を測定するとＭｖ＝
２８，０００であった。また、ガラス転移温度は１５０
℃であった。末端水酸基濃度は３モル％であり、ナトリ
ウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素含量は０．５ｐｐｍであ
った。
イミダゾールの代わりに４−ジメチルアミノピリジン
０．０１２２ｇ（１×１０-4モル）、４，４´−ジイソ
プロピリデンジフェノールジメタクリレート０．３６４
ｇ（１０-3モル）を加え、窒素下、２時間攪拌後、実施
例１と同様の方法で重縮合反応を行い無色透明のポリカ
ーボネートを得た。粘度平均分子量を測定するとＭｖ＝
２８，０００であった。また、ガラス転移温度は１５０
℃であった。末端水酸基濃度は３モル％であり、ナトリ
ウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素含量は０．５ｐｐｍであ
った。
【００２６】
【実施例３】２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン１１．４ｇ（５０モル％）、２，２−ビス（４
−ヒドロキシ−３−ターシャリーブチルフェニル）プロ
パン１７．０ｇ（５０モル％）、イミダゾール０．０６
８ｇ（１０-3モル），酢酸カリウム０．０１９６ｇ（２
×１０-4モル）、４，４´−ジイソプロピリデンジフェ
ノールジメタクリレート０．３６４ｇ（１０-3モル）を
窒素下、２時間撹拌後、実施例１と同様の方法で重縮合
反応を行い無色透明のポリカーボネートを得た。このポ
リカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖ＝２５，０００、
ガラス転移温度は１２８℃であった。末端水酸基濃度は
４モル％であり、ナトリウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素
含量は０．７ｐｐｍであった。
プロパン１１．４ｇ（５０モル％）、２，２−ビス（４
−ヒドロキシ−３−ターシャリーブチルフェニル）プロ
パン１７．０ｇ（５０モル％）、イミダゾール０．０６
８ｇ（１０-3モル），酢酸カリウム０．０１９６ｇ（２
×１０-4モル）、４，４´−ジイソプロピリデンジフェ
ノールジメタクリレート０．３６４ｇ（１０-3モル）を
窒素下、２時間撹拌後、実施例１と同様の方法で重縮合
反応を行い無色透明のポリカーボネートを得た。このポ
リカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖ＝２５，０００、
ガラス転移温度は１２８℃であった。末端水酸基濃度は
４モル％であり、ナトリウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素
含量は０．７ｐｐｍであった。
【００２７】
【比較例１】実施例１と全く同様の条件下で酢酸カリウ
ムを加えず、２−メチルイミダゾールの代わりにピリジ
ンを用いて同様の処理を行ったが、得られたポリカーボ
ネートの粘度平均分子量Ｍｖ＝４，０００であり、ポリ
カーボネートとしての形態はなしているものの実用には
適していない低分子量であった。さらに、末端水酸基濃
度は５２モル％であった。
ムを加えず、２−メチルイミダゾールの代わりにピリジ
ンを用いて同様の処理を行ったが、得られたポリカーボ
ネートの粘度平均分子量Ｍｖ＝４，０００であり、ポリ
カーボネートとしての形態はなしているものの実用には
適していない低分子量であった。さらに、末端水酸基濃
度は５２モル％であった。
【００２８】
【比較例２】実施例１と全く同様の条件下で、４，４´
−ジイソプロピリデンジフェノールジメタクリレートを
加えずに重合を行った。得られた無色透明のポリカーボ
ネートの粘度平均分子量はＭｖ＝２６，５００，ガラス
転移温度は１５０℃，末端水酸基濃度は５モル％であ
り、ナトリウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素含量は０．５
ｐｐｍであった。
−ジイソプロピリデンジフェノールジメタクリレートを
加えずに重合を行った。得られた無色透明のポリカーボ
ネートの粘度平均分子量はＭｖ＝２６，５００，ガラス
転移温度は１５０℃，末端水酸基濃度は５モル％であ
り、ナトリウム含量は０．１ｐｐｍ、塩素含量は０．５
ｐｐｍであった。
【００２９】以上の実施例１〜３，比較例２から得られ
たポリカーボネートの１６０℃下，３０日後の分子量の
低下率を下記の表にまとめる。
たポリカーボネートの１６０℃下，３０日後の分子量の
低下率を下記の表にまとめる。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【発明の効果】触媒として塩素性窒素化合物とアルカリ
金属またはアルカリ土類金属化合物の二元系を用いるこ
とにより毒性のホスゲンを用いずに実質的にナトリウム
イオンや塩素イオンを含まない高温時に分子量低下を起
こさない高分子量で無色透明なポリカーボネートを得る
ことができた。
金属またはアルカリ土類金属化合物の二元系を用いるこ
とにより毒性のホスゲンを用いずに実質的にナトリウム
イオンや塩素イオンを含まない高温時に分子量低下を起
こさない高分子量で無色透明なポリカーボネートを得る
ことができた。
Claims (7)
- 【請求項１】エステル交換触媒の存在下で２価フェノー
ルと炭酸ジエステルとを重縮合させる際に、両末端エチ
レン性化合物を添加することを特徴とするポリカーボネ
ートの製造法。 - 【請求項２】エステル交換触媒が塩基性窒素化合物から
選択された触媒及びアルカリ金属化合物またはアルカリ
土類金属化合物から選択された触媒であることを特徴と
する請求項１記載のポリカーボネートの製造法。 - 【請求項３】２価フェノールが化学式１，２，３，４で
表される請求項１，２記載のポリカーボネートの製造
法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 （Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 は水素または炭素数１〜８の
直鎖または枝分かれを含むアルキル基、またはフェニル
基でありＸはハロゲン原子でｎ＝０〜４，ｍ＝１〜４） - 【請求項４】エチレン性化合物が化学式５で表される請
求項１，２，３記載のポリカーボネートの製造法。
Ｒ5 ，Ｒ7 は水素または炭素数１〜８の直鎖または枝分
かれまたは環状のアルキル基またはフェニル基であり、
同一でも異なっていてもよい。Ｒ6 は炭素数１〜３０の
直鎖または枝分かれまたは環状のアルキル基、またはフ
ェニル基、 【化６】 【化７】 （Ｒ8 ，Ｒ9 は炭素数１〜１０の直鎖状または枝分か
れ、または環状のアルキル基、またはフェニル基であ
る）である。 - 【請求項５】請求項３記載の２価フェノールから選ばれ
る２種または３種以上を用いてなる請求項１，２，３，
４記載の共重合ポリカーボネートの製造法。 - 【請求項６】ポリカーボネートの全末端のうち、水酸基
末端が２０モル％以下である事を特徴とする請求項１，
２，３，４，５記載のポリカーボネートの製造法。 - 【請求項７】ポリカーボネート中のナトリウムイオン含
量が１ｐｐｍ以下であり、かつ塩素イオン含量が１０ｐ
ｐｍ以下であることを特徴とする請求項１，２，３，
４，５，６記載のポリカーボネートの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26207491A JPH0597993A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ポリカーボネートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26207491A JPH0597993A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ポリカーボネートの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597993A true JPH0597993A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17370670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26207491A Pending JPH0597993A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ポリカーボネートの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0597993A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995002624A1 (fr) * | 1993-07-14 | 1995-01-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Procede de production de polycarbonate |
| WO1995004770A1 (fr) * | 1993-08-09 | 1995-02-16 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Procede permettant de produire un polycarbonate |
| JP2003138125A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
-
1991
- 1991-10-09 JP JP26207491A patent/JPH0597993A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995002624A1 (fr) * | 1993-07-14 | 1995-01-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Procede de production de polycarbonate |
| WO1995004770A1 (fr) * | 1993-08-09 | 1995-02-16 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Procede permettant de produire un polycarbonate |
| JP2003138125A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
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