JPH0595266A - 伝送ゲート - Google Patents
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- JPH0595266A JPH0595266A JP3278738A JP27873891A JPH0595266A JP H0595266 A JPH0595266 A JP H0595266A JP 3278738 A JP3278738 A JP 3278738A JP 27873891 A JP27873891 A JP 27873891A JP H0595266 A JPH0595266 A JP H0595266A
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 8
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- 101001079904 Homo sapiens Hyaluronan and proteoglycan link protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 102100028084 Hyaluronan and proteoglycan link protein 1 Human genes 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】並列トランジスタによる合成抵抗の特性を改善
し、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲートを実現する。 【構成】入力信号線と出力信号線との間にN型MOSト
ランジスタとP型MOSトランジスタとを並列に接続
し、N型MOSトランジスタの領域の下方に埋め込み分
離層を設け、並列接続されたP型MOSトランジスタと
N型MOSトランジスタとがともに、導通時に入力信号
をバックゲートに受けることにより、いわゆるサブスト
レート変調を受ける。
し、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲートを実現する。 【構成】入力信号線と出力信号線との間にN型MOSト
ランジスタとP型MOSトランジスタとを並列に接続
し、N型MOSトランジスタの領域の下方に埋め込み分
離層を設け、並列接続されたP型MOSトランジスタと
N型MOSトランジスタとがともに、導通時に入力信号
をバックゲートに受けることにより、いわゆるサブスト
レート変調を受ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、伝送ゲートに関し、
詳しくは、伝送信号の歪みを小さくするためのサブスト
レート変調を受ける伝送ゲートの構成に関する。
詳しくは、伝送信号の歪みを小さくするためのサブスト
レート変調を受ける伝送ゲートの構成に関する。
【0002】
【従来の技術】伝送ゲートは、トランスミッションゲー
ト、あるいはアナログスイッチなどとも呼ばれ、入力信
号線と出力信号線との間を導通又は非導通状態に、制御
信号に応じて設定するスイッチ回路の一種である。この
伝送ゲートは、導通時には、入力信号を歪ませることな
く伝送し、入力信号をそのまま出力信号として出力する
ことが、要求される。これに対し、トランジスタ単体で
伝送ゲートを構成した場合には、入力信号の電圧に応じ
て伝送ゲートの抵抗値が非線形に変化するため、伝送信
号が著しく歪んでしまう。このような伝送歪みを小さく
する手段として、導通時の伝送ゲートの抵抗値を線形化
させるために、従来は、P型MOSトランジスタとN型
MOSトランジスタとを並列にした、図7や図8の如き
回路構成が、伝送ゲートとして用いられてきた。
ト、あるいはアナログスイッチなどとも呼ばれ、入力信
号線と出力信号線との間を導通又は非導通状態に、制御
信号に応じて設定するスイッチ回路の一種である。この
伝送ゲートは、導通時には、入力信号を歪ませることな
く伝送し、入力信号をそのまま出力信号として出力する
ことが、要求される。これに対し、トランジスタ単体で
伝送ゲートを構成した場合には、入力信号の電圧に応じ
て伝送ゲートの抵抗値が非線形に変化するため、伝送信
号が著しく歪んでしまう。このような伝送歪みを小さく
する手段として、導通時の伝送ゲートの抵抗値を線形化
させるために、従来は、P型MOSトランジスタとN型
MOSトランジスタとを並列にした、図7や図8の如き
回路構成が、伝送ゲートとして用いられてきた。
【0003】ここで、図7は、従来の伝送ゲートの基本
的な構成を示す図であり、1はN型MOSトランジス
タ、2はP型MOSトランジスタであり、これらが並列
に接続されてスイッチ機能を果たすものである。つま
り、制御信号C及びその反転信号*Cがないときには、
トランジスタ1,2ともにオフ(非導通)状態であり、
入力信号Aと出力信号fとは切り離されている。そし
て、制御信号C及び反転信号*Cをそのゲートに受ける
と、トランジスタ1,2はともにオン(導通)状態とな
り、入力信号Aは伝送されて、出力信号fとして出力さ
れる。このとき、N型MOSトランジスタ1とP型MO
Sトランジスタ2とが入力信号Aの電圧に対して反対特
性の抵抗値を示すので、これらの合成抵抗は、トランジ
スタ単体のときに較べ、線形性が改善される。
的な構成を示す図であり、1はN型MOSトランジス
タ、2はP型MOSトランジスタであり、これらが並列
に接続されてスイッチ機能を果たすものである。つま
り、制御信号C及びその反転信号*Cがないときには、
トランジスタ1,2ともにオフ(非導通)状態であり、
入力信号Aと出力信号fとは切り離されている。そし
て、制御信号C及び反転信号*Cをそのゲートに受ける
と、トランジスタ1,2はともにオン(導通)状態とな
り、入力信号Aは伝送されて、出力信号fとして出力さ
れる。このとき、N型MOSトランジスタ1とP型MO
Sトランジスタ2とが入力信号Aの電圧に対して反対特
性の抵抗値を示すので、これらの合成抵抗は、トランジ
スタ単体のときに較べ、線形性が改善される。
【0004】さらに、図8は、従来のサブストレート変
調を受ける伝送ゲートの構成を示す図である。この回路
では、図7の基本構成に対し、制御信号C及び反転信号
*Cがないときにトランジスタ2のバックゲートを電源
Vcc(+)に繋ぐスイッチ回路4と、制御信号C及び反
転信号*Cを受けるとトランジスタ2のバックゲートを
入力信号Aに繋ぐスイッチ回路3と、が設けられてい
る。これらのスイッチ回路3,4の働きにより、トラン
ジスタ2のバックゲートが入力信号Aによる変調を受け
て、伝送ゲートの抵抗値の線形性がさらに改善される。
調を受ける伝送ゲートの構成を示す図である。この回路
では、図7の基本構成に対し、制御信号C及び反転信号
*Cがないときにトランジスタ2のバックゲートを電源
Vcc(+)に繋ぐスイッチ回路4と、制御信号C及び反
転信号*Cを受けるとトランジスタ2のバックゲートを
入力信号Aに繋ぐスイッチ回路3と、が設けられてい
る。これらのスイッチ回路3,4の働きにより、トラン
ジスタ2のバックゲートが入力信号Aによる変調を受け
て、伝送ゲートの抵抗値の線形性がさらに改善される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このようにトランジス
タのバックゲートに対し入力信号による変調を施すこと
で、伝送ゲートにおける伝送歪みが、ある程度までは改
善される。しかし、従来は、サブストレート変調の呼び
名が示す通り、バックゲートに変調を施すのに、そのバ
ックゲートに直結しているサブストレートに変調をかけ
ることで、サブストレート変調を行っていた。このた
め、並列接続されたトランジスタの何れか一方にしか、
変調を施すことができなかった。すなわち、伝送ゲート
がP型サブストレート上に作られた場合にはN型MOS
トランジスタに対してのみサブストレート変調が可能で
あり、伝送ゲートがN型サブストレート上に作られた場
合にはP型MOSトランジスタに対してのみサブストレ
ート変調が可能であった。
タのバックゲートに対し入力信号による変調を施すこと
で、伝送ゲートにおける伝送歪みが、ある程度までは改
善される。しかし、従来は、サブストレート変調の呼び
名が示す通り、バックゲートに変調を施すのに、そのバ
ックゲートに直結しているサブストレートに変調をかけ
ることで、サブストレート変調を行っていた。このた
め、並列接続されたトランジスタの何れか一方にしか、
変調を施すことができなかった。すなわち、伝送ゲート
がP型サブストレート上に作られた場合にはN型MOS
トランジスタに対してのみサブストレート変調が可能で
あり、伝送ゲートがN型サブストレート上に作られた場
合にはP型MOSトランジスタに対してのみサブストレ
ート変調が可能であった。
【0006】したがって、入力信号により変調しない方
のトランジスタの抵抗値は改善されないので、並列トラ
ンジスタの導通時の合成抵抗の値の線形性も劣る。その
ために、伝送ゲート全体の伝送歪みが、十分には抑制さ
れない。この発明の目的は、このような従来技術の問題
点を解決するものであって、並列トランジスタによる合
成抵抗の特性を改善し、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲ
ートを実現することである。
のトランジスタの抵抗値は改善されないので、並列トラ
ンジスタの導通時の合成抵抗の値の線形性も劣る。その
ために、伝送ゲート全体の伝送歪みが、十分には抑制さ
れない。この発明の目的は、このような従来技術の問題
点を解決するものであって、並列トランジスタによる合
成抵抗の特性を改善し、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲ
ートを実現することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るこの発明の伝送ゲートの構成は、入力信号線と出力信
号線との間にN型MOSトランジスタとP型MOSトラ
ンジスタとが並列に接続されて成る伝送ゲートであっ
て、前記P型MOSトランジスタと前記N型MOSトラ
ンジスタとがともに、導通時に前記入力信号線からの信
号をバックゲートに受けることにより、サブストレート
変調されるものである。
るこの発明の伝送ゲートの構成は、入力信号線と出力信
号線との間にN型MOSトランジスタとP型MOSトラ
ンジスタとが並列に接続されて成る伝送ゲートであっ
て、前記P型MOSトランジスタと前記N型MOSトラ
ンジスタとがともに、導通時に前記入力信号線からの信
号をバックゲートに受けることにより、サブストレート
変調されるものである。
【0008】また、この発明の他の伝送ゲートの構成
は、入力信号線と出力信号線との間にN型MOSトラン
ジスタとP型MOSトランジスタとが並列に接続されて
成る伝送ゲートであって、前記N型MOSトランジスタ
(又は前記P型MOSトランジスタ)の領域の下方に埋
め込み分離層が設けられ、前記P型MOSトランジスタ
と前記N型MOSトランジスタとがともに、導通時に前
記入力信号線からの信号をバックゲートに受けることに
より、サブストレート変調されるものである。
は、入力信号線と出力信号線との間にN型MOSトラン
ジスタとP型MOSトランジスタとが並列に接続されて
成る伝送ゲートであって、前記N型MOSトランジスタ
(又は前記P型MOSトランジスタ)の領域の下方に埋
め込み分離層が設けられ、前記P型MOSトランジスタ
と前記N型MOSトランジスタとがともに、導通時に前
記入力信号線からの信号をバックゲートに受けることに
より、サブストレート変調されるものである。
【0009】さらに、この発明の伝送ゲートの具体的な
構成は、ソース及びドレインの何れか一方が入力信号線
に接続されソース及びドレインの何れか他方が出力信号
線に接続されゲートが制御信号(又はその反転信号)を
受けるN型MOSトランジスタと、ソース及びドレイン
の何れか一方が前記入力信号線に接続されソース及びド
レインの何れか他方が前記出力信号線に接続されゲート
が前記制御信号の反転信号(又は前記制御信号)を受け
るP型MOSトランジスタと、を具備する伝送ゲートで
あって、前記N型MOSトランジスタ及び前記P型MO
Sトランジスタの何れか一方の領域の下方の埋め込み分
離層と、前記制御信号(又はその反転信号)を受けると
前記P型MOSトランジスタのバックゲートを正の基準
電圧線に導通させる第1のスイッチ回路と、前記制御信
号の反転信号(又は前記制御信号)を受けると前記P型
MOSトランジスタのバックゲートを前記入力信号線に
導通させる第2のスイッチ回路と、前記制御信号の反転
信号(又は前記制御信号)を受けると前記N型MOSト
ランジスタのバックゲートを負の基準電圧線に導通させ
る第3のスイッチ回路と、前記制御信号(又はその反転
信号)を受けると前記N型MOSトランジスタのバック
ゲートを前記入力信号線に導通させる第4のスイッチ回
路と、を備える伝送ゲートである。
構成は、ソース及びドレインの何れか一方が入力信号線
に接続されソース及びドレインの何れか他方が出力信号
線に接続されゲートが制御信号(又はその反転信号)を
受けるN型MOSトランジスタと、ソース及びドレイン
の何れか一方が前記入力信号線に接続されソース及びド
レインの何れか他方が前記出力信号線に接続されゲート
が前記制御信号の反転信号(又は前記制御信号)を受け
るP型MOSトランジスタと、を具備する伝送ゲートで
あって、前記N型MOSトランジスタ及び前記P型MO
Sトランジスタの何れか一方の領域の下方の埋め込み分
離層と、前記制御信号(又はその反転信号)を受けると
前記P型MOSトランジスタのバックゲートを正の基準
電圧線に導通させる第1のスイッチ回路と、前記制御信
号の反転信号(又は前記制御信号)を受けると前記P型
MOSトランジスタのバックゲートを前記入力信号線に
導通させる第2のスイッチ回路と、前記制御信号の反転
信号(又は前記制御信号)を受けると前記N型MOSト
ランジスタのバックゲートを負の基準電圧線に導通させ
る第3のスイッチ回路と、前記制御信号(又はその反転
信号)を受けると前記N型MOSトランジスタのバック
ゲートを前記入力信号線に導通させる第4のスイッチ回
路と、を備える伝送ゲートである。
【0010】
【作用】このような構成の、この発明の伝送ゲートにあ
っては、MOSトランジスタの領域の下方に埋め込み分
離層を設けて、トランジスタのバックゲートをサブスト
レートから切り離したことにより、P型MOSトランジ
スタとN型MOSトランジスタのそれぞれのバックゲー
トに対し、独立に、従来のサブストレート変調と全く同
様の変調すなわち入力信号による変調を、施すことが可
能である。したがって、並列に接続されたP型MOSト
ランジスタおよびN型MOSトランジスタが、共にその
バックゲートに、入力信号による変調すなわち従来のサ
ブストレート変調を受けるので、共にその抵抗特性が改
善される。その結果、伝送ゲート全体の合成抵抗の線形
性がよくなり、入力信号をほとんど歪ませることなく伝
送して出力信号とすることができる。
っては、MOSトランジスタの領域の下方に埋め込み分
離層を設けて、トランジスタのバックゲートをサブスト
レートから切り離したことにより、P型MOSトランジ
スタとN型MOSトランジスタのそれぞれのバックゲー
トに対し、独立に、従来のサブストレート変調と全く同
様の変調すなわち入力信号による変調を、施すことが可
能である。したがって、並列に接続されたP型MOSト
ランジスタおよびN型MOSトランジスタが、共にその
バックゲートに、入力信号による変調すなわち従来のサ
ブストレート変調を受けるので、共にその抵抗特性が改
善される。その結果、伝送ゲート全体の合成抵抗の線形
性がよくなり、入力信号をほとんど歪ませることなく伝
送して出力信号とすることができる。
【0011】また、制御信号がないときには、それぞれ
のバックゲートが正の基準電圧及び負の基準電圧に繋が
るので、並列に接続されたP型MOSトランジスタおよ
びN型MOSトランジスタがともに、高いオフ抵抗を示
し、入力信号と出力信号とは完全に切り離されて、スイ
ッチ機能が実行される。
のバックゲートが正の基準電圧及び負の基準電圧に繋が
るので、並列に接続されたP型MOSトランジスタおよ
びN型MOSトランジスタがともに、高いオフ抵抗を示
し、入力信号と出力信号とは完全に切り離されて、スイ
ッチ機能が実行される。
【0012】
【実施例】以下、この発明の構成の伝送ゲートの一実施
例を、図を参照しながら詳しく説明する。図1は、この
発明の伝送ゲートの具体的構成を示す一実施例である。
1はN型MOSトランジスタ、2はP型MOSトランジ
スタであり、並列に接続されてスイッチ機能を果たす。
スイッチ回路4は、制御信号Cがないときに、トランジ
スタ2のバックゲート2aを電源Vcc(+)に繋ぐもの
であり、スイッチ回路3は、反転信号*Cを受けるとト
ランジスタ2のバックゲート2aを入力信号Aに繋ぐも
のであり、トランジスタ2に対して従来のいわゆるサブ
ストレート変調を行うためのものである。
例を、図を参照しながら詳しく説明する。図1は、この
発明の伝送ゲートの具体的構成を示す一実施例である。
1はN型MOSトランジスタ、2はP型MOSトランジ
スタであり、並列に接続されてスイッチ機能を果たす。
スイッチ回路4は、制御信号Cがないときに、トランジ
スタ2のバックゲート2aを電源Vcc(+)に繋ぐもの
であり、スイッチ回路3は、反転信号*Cを受けるとト
ランジスタ2のバックゲート2aを入力信号Aに繋ぐも
のであり、トランジスタ2に対して従来のいわゆるサブ
ストレート変調を行うためのものである。
【0013】さらに、ここでは、N型MOSトランジス
タの領域の下方に埋め込み分離層を設けて、トランジス
タ1のバックゲート1aとトランジスタ2のバックゲー
ト2aとを切り離したことにより、スイッチ回路10
3,104を設けてトランジスタ1に対しても入力信号
Aによる変調を行うことができるように構成されてい
る。詳述すると、スイッチ回路104は、反転信号*C
がないときに、トランジスタ1のバックゲート1aを電
源Vee(−)に繋ぎ、スイッチ回路103は、制御信号
Cを受けるとトランジスタ1のバックゲート1aを入力
信号Aに繋ぐことで、トランジスタ1に対しても従来の
いわゆるサブストレート変調を行うものである。
タの領域の下方に埋め込み分離層を設けて、トランジス
タ1のバックゲート1aとトランジスタ2のバックゲー
ト2aとを切り離したことにより、スイッチ回路10
3,104を設けてトランジスタ1に対しても入力信号
Aによる変調を行うことができるように構成されてい
る。詳述すると、スイッチ回路104は、反転信号*C
がないときに、トランジスタ1のバックゲート1aを電
源Vee(−)に繋ぎ、スイッチ回路103は、制御信号
Cを受けるとトランジスタ1のバックゲート1aを入力
信号Aに繋ぐことで、トランジスタ1に対しても従来の
いわゆるサブストレート変調を行うものである。
【0014】また、図2は、この発明の伝送ゲートの具
体的構成を示す他の実施例であり、図1の構成と異なる
のは、スイッチ回路3,103に代わるスイッチ回路1
13,123が、入力信号による変調の効果を高めるた
めに、P型MOSトランジスタとN型MOSトランジス
タとが並列に接続されて構成されていることである。こ
のように、スイッチ回路の構成は、トランジスタ1つに
より構成されるものに限られるわけではなく、複数のト
ランジスタから構成されていてもよい。
体的構成を示す他の実施例であり、図1の構成と異なる
のは、スイッチ回路3,103に代わるスイッチ回路1
13,123が、入力信号による変調の効果を高めるた
めに、P型MOSトランジスタとN型MOSトランジス
タとが並列に接続されて構成されていることである。こ
のように、スイッチ回路の構成は、トランジスタ1つに
より構成されるものに限られるわけではなく、複数のト
ランジスタから構成されていてもよい。
【0015】ここで、トランジスタの領域の下方に設け
られる埋め込み分離層について述べる。図3は、この発
明に用いられているN型MOSトランジスタの断面構造
を示す説明図であり、40はP型サブストレート(P−
SUB)、41はフィールド酸化膜、42はゲート、4
3はソース配線、44はドレイン配線、46はバックゲ
ートであり、以上は通常のN型MOSトランジスタと同
様であるが、さらに、39はN型の埋め込み分離層、4
5は、バックゲート46に通じており、バックゲート4
6を他へ接続するための配線である。比較のために、図
4に通常のN型MOSトランジスタの断面構造を示す
が、この場合には、P型サブストレート40とバックゲ
ート46とが直結している。
られる埋め込み分離層について述べる。図3は、この発
明に用いられているN型MOSトランジスタの断面構造
を示す説明図であり、40はP型サブストレート(P−
SUB)、41はフィールド酸化膜、42はゲート、4
3はソース配線、44はドレイン配線、46はバックゲ
ートであり、以上は通常のN型MOSトランジスタと同
様であるが、さらに、39はN型の埋め込み分離層、4
5は、バックゲート46に通じており、バックゲート4
6を他へ接続するための配線である。比較のために、図
4に通常のN型MOSトランジスタの断面構造を示す
が、この場合には、P型サブストレート40とバックゲ
ート46とが直結している。
【0016】このように、N型MOSトランジスタの領
域の下方に、N型の埋め込み分離層39が設けられて、
P型サブストレート40とバックゲート46とが分離さ
れているので、N型MOSトランジスタとP型MOSト
ランジスタのそれぞれのバックゲートを独立に変調する
ことができる。なお、N型サブストレートを採用した場
合には、P型MOSトランジスタの領域の下方にP型の
埋め込み分離層を設ければよいし、絶縁物による埋め込
み分離層を形成すれば、P型サブストレートとN型サブ
ストレートのどちらでも同様である。また、埋め込み分
離層は、高電圧による加速が可能なイオン注入装置によ
るチャネリング効果等を利用して形成可能であり、いわ
ゆるゲッタリング機能等を兼用させてもよい。
域の下方に、N型の埋め込み分離層39が設けられて、
P型サブストレート40とバックゲート46とが分離さ
れているので、N型MOSトランジスタとP型MOSト
ランジスタのそれぞれのバックゲートを独立に変調する
ことができる。なお、N型サブストレートを採用した場
合には、P型MOSトランジスタの領域の下方にP型の
埋め込み分離層を設ければよいし、絶縁物による埋め込
み分離層を形成すれば、P型サブストレートとN型サブ
ストレートのどちらでも同様である。また、埋め込み分
離層は、高電圧による加速が可能なイオン注入装置によ
るチャネリング効果等を利用して形成可能であり、いわ
ゆるゲッタリング機能等を兼用させてもよい。
【0017】さらに、図5は、この発明の伝送ゲートを
4個用いた応用例であり、オーディオ装置の入力信号選
択回路の一例である。この回路では、コード化された選
択信号CRTL1,CTRL2をデコーダ55がデコー
ドして4つのうち1つの制御信号を出力する。この制御
信号により伝送ゲート51,52,53,54のうちか
ら1つが選択されて導通し、この選択された伝送ゲート
に入力されている入力信号のみが、出力信号OUTとし
て出力される。
4個用いた応用例であり、オーディオ装置の入力信号選
択回路の一例である。この回路では、コード化された選
択信号CRTL1,CTRL2をデコーダ55がデコー
ドして4つのうち1つの制御信号を出力する。この制御
信号により伝送ゲート51,52,53,54のうちか
ら1つが選択されて導通し、この選択された伝送ゲート
に入力されている入力信号のみが、出力信号OUTとし
て出力される。
【0018】図6は、この発明の構成の伝送ゲート及び
従来の構成の伝送ゲートにおける伝送特性を測定したも
のであり、横軸が入力信号の振幅の対数軸、縦軸が出力
信号に現れた歪みの大きさの対数軸である。測定結果6
4は、P型MOSトランジスタとN型MOSトランジス
タとを並列に接続しただけの従来の回路構成(図7参
照)における伝送特性であり、測定結果62,62は、
P型MOSトランジスタとN型MOSトランジスタとを
並列に接続し、何れか一方のみをサブストレート変調し
た従来の回路構成(図8参照)における伝送特性であ
る。そして、測定結果61は、P型MOSトランジスタ
とN型MOSトランジスタとを並列に接続し、これらを
共に入力信号により変調した、この発明の回路構成(図
8参照)における伝送特性であり、従来のものの測定結
果62〜64に較べて、1/2〜1/10にまで、歪み
が抑制されていることが判る。
従来の構成の伝送ゲートにおける伝送特性を測定したも
のであり、横軸が入力信号の振幅の対数軸、縦軸が出力
信号に現れた歪みの大きさの対数軸である。測定結果6
4は、P型MOSトランジスタとN型MOSトランジス
タとを並列に接続しただけの従来の回路構成(図7参
照)における伝送特性であり、測定結果62,62は、
P型MOSトランジスタとN型MOSトランジスタとを
並列に接続し、何れか一方のみをサブストレート変調し
た従来の回路構成(図8参照)における伝送特性であ
る。そして、測定結果61は、P型MOSトランジスタ
とN型MOSトランジスタとを並列に接続し、これらを
共に入力信号により変調した、この発明の回路構成(図
8参照)における伝送特性であり、従来のものの測定結
果62〜64に較べて、1/2〜1/10にまで、歪み
が抑制されていることが判る。
【0019】
【発明の効果】以上の説明から理解できるように、この
発明の伝送ゲートにあっては、並列トランジスタのそれ
ぞれのバックゲートを入力信号により変調することで、
導通時の合成抵抗の値の線形性が飛躍的に改善される。
その結果、伝送ゲート全体の伝送歪みが十分に抑制さ
れ、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲートを実現すること
ができる。
発明の伝送ゲートにあっては、並列トランジスタのそれ
ぞれのバックゲートを入力信号により変調することで、
導通時の合成抵抗の値の線形性が飛躍的に改善される。
その結果、伝送ゲート全体の伝送歪みが十分に抑制さ
れ、伝送歪みの極めて小さい伝送ゲートを実現すること
ができる。
【図1】この発明の伝送ゲートの一実施例の具体的構成
を示す回路図である。
を示す回路図である。
【図2】この発明の伝送ゲートの他の実施例の具体的構
成を示す回路図である。
成を示す回路図である。
【図3】この発明の伝送ゲートを構成するN型MOSト
ランジスタの断面構造を示す説明図である。
ランジスタの断面構造を示す説明図である。
【図4】通常のN型MOSトランジスタの断面構造を示
す説明図である。
す説明図である。
【図5】この発明の伝送ゲートを応用したオーディオ装
置の選択回路のブロック図である。
置の選択回路のブロック図である。
【図6】この発明の構成の伝送ゲート及び従来の構成の
伝送ゲートの伝送特性を測定したものである。
伝送ゲートの伝送特性を測定したものである。
【図7】従来の構成の伝送ゲートの回路図である。
【図8】従来の構成の伝送ゲートの回路図である。
1…N型MOSトランジスタ 2…P型MOSトランジスタ 3,4,103,104,113,123…スイッチ回
路 39…N型埋め込み分離層 40…P型サブストレート 41…フィールド酸化膜 42…ゲート 43…ソース配線 44…ドレイン配線 45…配線 46…バックゲート 51,52,53,54…伝送ゲート 55…デコーダ 61,62,63,64…測定結果
路 39…N型埋め込み分離層 40…P型サブストレート 41…フィールド酸化膜 42…ゲート 43…ソース配線 44…ドレイン配線 45…配線 46…バックゲート 51,52,53,54…伝送ゲート 55…デコーダ 61,62,63,64…測定結果
Claims (3)
- 【請求項1】入力信号線と出力信号線との間にN型MO
SトランジスタとP型MOSトランジスタとが並列に接
続されて成る伝送ゲートにおいて、 前記P型MOSトランジスタと前記N型MOSトランジ
スタとがともに、導通時に前記入力信号線からの信号を
バックゲートに受けることにより、サブストレート変調
されることを特徴とする伝送ゲート。 - 【請求項2】入力信号線と出力信号線との間にN型MO
SトランジスタとP型MOSトランジスタとが並列に接
続されて成る伝送ゲートにおいて、 前記N型MOSトランジスタ(又は前記P型MOSトラ
ンジスタ)の領域の下方に埋め込み分離層が設けられ、
前記P型MOSトランジスタと前記N型MOSトランジ
スタとがともに、導通時に前記入力信号線からの信号を
バックゲートに受けることにより、サブストレート変調
されることを特徴とする伝送ゲート。 - 【請求項3】ソース及びドレインの何れか一方が入力信
号線に接続されソース及びドレインの何れか他方が出力
信号線に接続されゲートが制御信号(又はその反転信
号)を受けるN型MOSトランジスタと、ソース及びド
レインの何れか一方が前記入力信号線に接続されソース
及びドレインの何れか他方が前記出力信号線に接続され
ゲートが前記制御信号の反転信号(又は前記制御信号)
を受けるP型MOSトランジスタと、を具備する伝送ゲ
ートにおいて、 前記N型MOSトランジスタ及び前記P型MOSトラン
ジスタの何れか一方の領域の下方の埋め込み分離層と、
前記制御信号(又はその反転信号)を受けると前記P型
MOSトランジスタのバックゲートを正の基準電圧線に
導通させる第1のスイッチ回路と、前記制御信号の反転
信号(又は前記制御信号)を受けると前記P型MOSト
ランジスタのバックゲートを前記入力信号線に導通させ
る第2のスイッチ回路と、前記制御信号の反転信号(又
は前記制御信号)を受けると前記N型MOSトランジス
タのバックゲートを負の基準電圧線に導通させる第3の
スイッチ回路と、前記制御信号(又はその反転信号)を
受けると前記N型MOSトランジスタのバックゲートを
前記入力信号線に導通させる第4のスイッチ回路と、を
設けることを特徴とする伝送ゲート。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3278738A JPH0595266A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 伝送ゲート |
US07/951,852 US5332916A (en) | 1991-09-30 | 1992-09-28 | Transmission gate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3278738A JPH0595266A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 伝送ゲート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0595266A true JPH0595266A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17601523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3278738A Pending JPH0595266A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 伝送ゲート |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5332916A (ja) |
JP (1) | JPH0595266A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008192106A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | インタフェース回路 |
JP2011254304A (ja) * | 2010-06-02 | 2011-12-15 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Cmosアナログスイッチ回路、負電圧サンプリング回路 |
JP2013165349A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Lapis Semiconductor Co Ltd | 増幅器及び半導体装置 |
JP2015041897A (ja) * | 2013-08-22 | 2015-03-02 | 株式会社東芝 | スイッチ回路 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0146082B1 (ko) * | 1995-09-22 | 1998-12-01 | 문정환 | 프로그래머블 아날로그 스위치 |
JPH1074843A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-03-17 | Toshiba Corp | 多電源集積回路および多電源集積回路システム |
US5767733A (en) * | 1996-09-20 | 1998-06-16 | Integrated Device Technology, Inc. | Biasing circuit for reducing body effect in a bi-directional field effect transistor |
JP3258930B2 (ja) * | 1997-04-24 | 2002-02-18 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | トランスミッション・ゲート |
US5872477A (en) * | 1997-06-13 | 1999-02-16 | Vtc Inc. | Multiplexer with CMOS break-before-make circuit |
US6396325B2 (en) * | 1999-12-03 | 2002-05-28 | Fairchild Semiconductor Corporation | High frequency MOSFET switch |
US20030227311A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-12-11 | Sumant Ranganathan | Analog CMOSFET switch with linear on resistance |
US6879190B2 (en) * | 2002-04-04 | 2005-04-12 | The Regents Of The University Of Michigan | Low-power driver with energy recovery |
DE102006053084A1 (de) * | 2006-11-10 | 2008-05-21 | Austriamicrosystems Ag | Transistoranordnung und Verfahren zu deren Entwurf |
US7973565B2 (en) * | 2007-05-23 | 2011-07-05 | Cyclos Semiconductor, Inc. | Resonant clock and interconnect architecture for digital devices with multiple clock networks |
US7924085B2 (en) * | 2009-06-19 | 2011-04-12 | Stmicroelectronics Asia Pacific Pte. Ltd. | Negative analog switch design |
KR20120093954A (ko) * | 2009-10-12 | 2012-08-23 | 사이클로스 세미컨덕터, 인크. | 인덕터 오버헤드 없이 공진 클록 분배 네트워크들에서 고유 주파수를 선택하는 방법 |
JP2013219503A (ja) * | 2012-04-06 | 2013-10-24 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
CN103594067B (zh) * | 2013-11-28 | 2016-08-17 | 矽创电子股份有限公司 | 显示面板的驱动电路 |
CN107786190B (zh) * | 2017-11-09 | 2021-05-28 | 中国电子科技集团公司第二十四研究所 | 一种带漏电流消除技术的低导通电阻平坦度模拟开关 |
WO2020056685A1 (zh) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 华为技术有限公司 | 一种传输门电路、矩阵开关以及电子设备 |
CN113300694B (zh) * | 2021-06-02 | 2021-10-22 | 哈尔滨工业大学 | 一种超宽带低损耗高隔离的全差分结构射频开关 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53136486A (en) * | 1977-05-02 | 1978-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Junction type field effect transistor and its manufacture |
JPS5928723A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Toshiba Corp | アナログスイツチ回路 |
JPS63293972A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04127467A (ja) * | 1990-06-04 | 1992-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
US5157282A (en) * | 1991-04-08 | 1992-10-20 | Cypress Semiconductor Corporation | Programmable output driver for integrated circuits |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP3278738A patent/JPH0595266A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-28 US US07/951,852 patent/US5332916A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53136486A (en) * | 1977-05-02 | 1978-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Junction type field effect transistor and its manufacture |
JPS5928723A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Toshiba Corp | アナログスイツチ回路 |
JPS63293972A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008192106A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | インタフェース回路 |
JP2011254304A (ja) * | 2010-06-02 | 2011-12-15 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Cmosアナログスイッチ回路、負電圧サンプリング回路 |
JP2013165349A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Lapis Semiconductor Co Ltd | 増幅器及び半導体装置 |
JP2015041897A (ja) * | 2013-08-22 | 2015-03-02 | 株式会社東芝 | スイッチ回路 |
US9136835B2 (en) | 2013-08-22 | 2015-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Switch circuit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5332916A (en) | 1994-07-26 |
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