JPH059144A - 高純度テトラキスキシレノールの製造方法、該高純度化合物を用いるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びそれらの製造方法 - Google Patents

高純度テトラキスキシレノールの製造方法、該高純度化合物を用いるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びそれらの製造方法

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JPH059144A
JPH059144A JP3305996A JP30599691A JPH059144A JP H059144 A JPH059144 A JP H059144A JP 3305996 A JP3305996 A JP 3305996A JP 30599691 A JP30599691 A JP 30599691A JP H059144 A JPH059144 A JP H059144A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明により、2分子のビス(3,5−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下
で脱水素縮合させることを特徴とする1,1,2,2−
テトラキス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)エタン(以下、TKXEという)の製造方法、およ
び、該方法により得られたTKXEをエポキシ化したエ
ポキシ樹脂、該方法により得られたTKXEを硬化剤と
するエポキシ樹脂組成物並びにそれらの製造方法が提供
される。 【効果】 本発明の方法によれば、高純度のTKXEが
結晶として得られる。また、本発明のエポキシ樹脂およ
びエポキシ樹脂組成物は、優れた耐熱性、機械的特性等
を有する硬化物を与える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高純度の1,1,2,
2−テトラキス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)エタンの製造方法、該製造方法により得られた
高純度の1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)エタンから誘導されるエ
ポキシ樹脂、該製造方法により得られた高純度の1,
1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)エタンを硬化剤として含有するエポキ
シ樹脂組成物、該エポキシ樹脂の製造方法、及び、該エ
ポキシ樹脂組成物の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン(以下、テト
ラキスキシレノールエタン;TKXEと略称する)はフ
ェノール樹脂およびエポキシ樹脂の製造原料、または、
エポキシ樹脂用の硬化剤等として使用されている。
【0003】たとえば、特開昭64−74213号公報
には、TKXEをエポキシ化したエポキシ化合物と硬化
剤としてTKXEとを特定の組成比で混合したエポキシ
樹脂組成物が開示されている。該エポキシ樹脂組成物に
用いられるTKXEは、2,6−キシレノールとグリオ
キザールを酸性触媒の存在下で縮合させて得られたもの
とされている。
【0004】グリオキザールは無水の状態では非常に不
安定であり、通常、40〜50重量%の水溶液として市
販されている。2,6−キシレノールとグリオキザール
との縮合にこのような水溶液状のグリオキザールを用い
ることは水の存在下での縮合反応となる。水の存在下で
2,6−キシレノールとグリオキザールとを縮合反応さ
せると、TKXEの他、グリオキザールの縮合物等の低
分子量物質が多量に副生し、しかもこの低分子量物質は
TKXEから分離することが困難であるため、高純度の
TKXEを得ることができない。
【0005】従って、2,6−キシレノールとグリオキ
ザールとを酸性触媒の存在下で縮合させて得られたTK
XEをエポキシ樹脂の製造原料、または、エポキシ樹脂
用の硬化剤として用いる場合は、低分子量物質等を含ん
だ低純度のTKXEを用いざるを得ない。
【0006】グリオキザールの縮合物等の低分子量物質
を多量に含有するTKXEをエポキシ樹脂の製造原料、
または、エポキシ樹脂用の硬化剤等として用いると、そ
れらより得られる硬化物の耐熱性、機械的特性等が低下
するので、特に、該硬化物をIC封止材等の電気・電子
分野の資材として用いる場合に問題がある。
【0007】特開昭63−223020号公報には、酸
触媒の存在下でフェノール類とグリオキザール、グルタ
ルアルデヒド等のジアルデヒド類とを縮合反応させる際
に、反応系の水の濃度を2重量%以下に保持することを
特徴とするポリフェノール類の製造方法が開示されてい
る。
【0008】しかし、該方法は、反応系の水の濃度を2
重量%以下に特定しただけのものであり、ジアルデヒド
類を水溶液として用いる点では従来の方法と変わりがな
い。従って、反応系に装入された多量の水を縮合反応に
先立ち留出等により除去し、反応系の水量を2重量%以
下に調節する必要がある。そのため、操作が煩雑である
ばかりでなく、その多量の水を留出除去するために余分
なエネルギーを消費する。その上、反応系から除去した
水は、多量の有機物を含有するので未処理のままでプラ
ント外に放流することができない。そのため、例えば、
活性汚泥処理装置等の水浄化装置が必要となる。さら
に、2重量%以下とはいえ依然として水の存在下で、フ
ェノール類とジアルデヒド類とを縮合反応させているの
で、グリオキザールの縮合物等の低分子量物質の生成を
完全には抑えることができず、高純度のTKXEを製造
する方法としては必ずしも満足できる方法とはいえな
い。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような煩雑な操作や余分なエネルギーを必要とせず、
有機物を含有する多量の排水を発生することのない、高
純度の1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)エタン(TKXE)の製造
方法を提供することにある。本発明の他の目的は、耐熱
性、機械的特性等に優れた硬化物を与えることのできる
エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびそれらの製造
方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記目的を
達成するため鋭意検討した結果、2分子のビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン(以下、
ビスキシレノールF;BXFと略称する)を脱水素縮合
することにより高純度のTKXEが得られることを見出
し本発明を完成した。また、上記のようにして得られた
高純度のTKXEをエポキシ化して得たエポキシ樹脂の
硬化物、並びに、上記のようにして得られた高純度のT
KXEを硬化剤として含むエポキシ樹脂組成物の硬化物
が優れた耐熱性および機械的特性を有することを見出し
本発明を完成した。
【0011】すなわち、本発明の第一の態様は、2分子
のBXFを酸化性条件下で脱水素縮合させることを特徴
とするTKXEの製造方法である。
【0012】本発明のTKXEの製造方法は、従来の製
造方法と異なりTKXEを高純度の結晶として得られる
ことに特徴がある。そのため、これをエポキシ樹脂の製
造原料、または、エポキシ樹脂用の硬化剤として用いた
場合には、優れた耐熱性、機械的強度、電気的特性等を
有する硬化物が得られ、該硬化物は電気・電子部品関係
の用途に適するものである。本発明の方法で得られたT
KXEは、フェノール樹脂の原料としても用いることが
できる。
【0013】本発明の第二の態様は、2分子のBXFを
酸化性条件下で脱水素縮合させて得られた高純度TKX
Eをエポキシ化して得られたエポキシ樹脂、並びに、2
分子のBXFを酸化性条件下で脱水素縮合させて高純度
TKXEを生成させ、該生成物をハロゲン化水素アクセ
プターの存在下、40〜120℃の温度でエピハロヒド
リンでエポキシ化することを特徴とするエポキシ樹脂の
製造方法である。
【0014】本発明の第三の態様は、2分子のBXFを
酸化性条件下で脱水素縮合させて得られた高純度TKX
E(A)およびエポキシ樹脂(B)を含み、(A)およ
び(B)の量が(B)のエポキシ基1モルに対して
(A)の水酸基が0.5〜2モルであるエポキシ樹脂組
成物、並びに、2分子のBXFを酸化性条件下で脱水素
縮合させて高純度TKXE(A)を生成させ、(A)と
エポキシ樹脂(B)とを(B)のエポキシ基1モルに対
して(A)の水酸基が0.5〜2モルとなる量で混合す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物の製造方法であ
る。
【0015】本発明のTKXEの製造方法においては、
酸化性条件下において2分子の式(1)〔化1〕
【0016】
【化1】 で表されるBXFが脱水素縮合して式(2)〔化2〕
【0017】
【化2】 で表されるTKXEと水をそれぞれ1分子生成する。
【0018】本発明の製造方法で用いるBXFについて
は特に制限はなく、公知の方法により製造されたもので
差支えない。例えば、n−ブタノールの存在下、リン酸
を触媒として2,6−キシレノールとホルマリンとを8
0〜90℃において縮合反応させることにより得られ
る。この場合、ホルマリンの縮合物等の低分子量物が副
生してもこれらはTKXEを製造する際にBXFと共に
TKXEから簡単に分離できるので、TKXEの純度を
低下させることがない。
【0019】本発明において、2分子のBXFの脱水素
縮合は、酸化作用のある条件下ならば、いかなる状態で
も進行する。加圧下、減圧下または常圧下いずれでもよ
い。好ましい製造方法は、酸素含有ガス、例えば空気ま
たは酸素の雰囲気下で2分子のBXFの脱水素縮合を行
なう方法である。反応速度を速くするためには、反応系
に空気または酸素を強制的に吹き込むことが好ましい。
吹き込む空気の量には特に制限はなく、反応温度、触媒
の有無等により変わるが、一般的にはBXF1gに対
し、10〜1000ml/min.程度である。酸素を
用いる場合は、その四分の一程度で充分である。反応系
に吹き込んだ空気または酸素は還流冷却器等を通過させ
て系外に排気する。
【0020】すなわち、本発明においては、触媒の不存
在下、通常の空気雰囲気下でBXFを加熱することによ
り脱水素縮合反応が進行し、TKXEが得られる。ま
た、BXFを加熱して溶融状態とし、該溶融物中に強制
的に空気または酸素を吹き込みながら脱水素縮合反応を
行ってもよい。さらに、酸化触媒の存在下で空気または
酸素を吹き込みながら脱水素縮合反応を行うことにより
反応速度を速くすることができる。
【0021】本発明における脱水素縮合反応は室温〜3
10℃の範囲で行うことが好ましい。酸化触媒の存在下
であれば、室温より低温においても脱水素縮合反応が進
行するが、反応速度が遅いので好ましくない。また、3
10℃を越えるとTKXEが分解するので好ましくな
い。
【0022】触媒の不存在下で脱水素縮合反応を行なう
場合は、150〜310℃の範囲が好ましい。150℃
より低いと反応速度が遅いので好ましくない。触媒の不
存在下で脱水素縮合反応を行なう場合の最も好ましい方
法は、180〜300℃において、溶融状態のBXFに
空気または酸素を吹き込みながら脱水素縮合反応を行う
方法である。この場合、生成したTKXEは結晶として
析出する。そのため、反応終了後、反応混合物を反応温
度に保ったまま濾別することにより、TKXEを結晶と
して得ることができる。得られたTKXEの結晶を、B
XFを溶解し、TKXEを溶解しない溶媒を用いて洗浄
することにより、一層純度の高いTKXEを得ることが
できる。同様の溶媒にBXFを溶解して溶液とし、該溶
液に空気または酸素を吹き込みながら脱水素縮合反応を
行ってもよい。
【0023】酸化触媒を用いて脱水素縮合反応を行なう
場合は、原料BXFと該酸化触媒を溶媒中に溶解して溶
液とし、該溶液中に空気または酸素を吹き込みながら縮
合反応を行う。この場合の反応温度は、室温〜150℃
の温度範囲が好ましい。用いる酸化触媒には特に制限が
なく、通常酸化触媒として用いられるものであれば使用
することができる。例えば、酸化銅、酸化モリブデン、
酸化亜鉛、酸化コバルト、五酸化バナジウム等の金属酸
化物、四塩化バナジウム、塩化鉛、四酢酸鉛等が挙げら
れる。
【0024】その他、過マンガン酸カリウム、重クロム
酸カリウム等の酸化剤の存在下でもBXFからTKXE
が生成するが、BXF自身が酸化され収率が低下する傾
向があるので好ましくない。
【0025】上記のいずれの条件における脱水素縮合反
応も、例えば、反応器に還流冷却器を設置する等して、
脱水素縮合反応により生成する水を逐次系外に排出、除
去することが好ましい。
【0026】脱水素縮合反応の際に用いることのできる
溶媒、または、得られたTKXEの洗浄に用いることの
できる溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタ
ノールまたはノナノール等の脂肪族アルコール類、ベン
ジルアルコール等の芳香族アルコール類、ベンゼン、ト
ルエンまたはキシレン等の芳香族化合物、ジメチルエー
テル、メチルエチルエーテルまたはジエチルエーテル等
のエーテル類およびアセトニトリル等が挙げられる。こ
れらは、単独で用いてもよいし、混合物として用いても
よい。これらの内、好ましく用いられるものは反応温度
および/または洗浄温度において、液体である溶媒であ
る。反応温度において液体である溶媒を用いると、反応
を常圧で行うことができるので好ましい。
【0027】脱水素縮合反応の際に用いることのできる
溶媒の量は、BXFを完全に溶解できる量であればよ
く、一般的には、BXFと同重量〜10倍重量程度がよ
い。また、得られたTKXEの洗浄に用いる溶媒の量
は、TKXEと同重量〜100倍重量程度がよい。ま
た、TKXEを溶媒を用いて洗浄する方法には特に制限
はない。例えば、ソックスレー抽出器等を用いて抽出処
理を行なってもよいし、溶媒中にTKXEを懸濁させて
室温から該溶媒の沸点未満の温度において撹拌してもよ
い。
【0028】本発明により得られたTKXEはフェノー
ル樹脂およびエポキシ樹脂の製造原料として用いられ
る。また、エポキシ樹脂用の硬化剤としても好適に用い
られる。
【0029】本発明により得られたTKXEは、公知の
方法によりエポキシ樹脂とすることができる。すなわ
ち、ハロゲン化水素アクセプターの存在下、40〜12
0℃の温度範囲において、本発明により得られたTKX
Eをエピハロヒドリン,好ましくはエピクロルヒドリン
を用いてエポキシ化することによりエポキシ樹脂が得ら
れる。
【0030】ハロゲン化水素アクセプターの例として
は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金
属水酸化物を挙げることができる。ハロゲン化水素アク
セプターを該TKXEとエピハロヒドリンとの加熱され
た混合物に徐々に添加し、反応混合物のpHを約6.5
〜10に維持することが望ましい。
【0031】エポキシ化反応に使用されるエピハロヒド
リンは該TKXEのOH基1当量に対して、2.0〜3
0当量、好ましくは2.0〜10当量の過剰量のエピハ
ロヒドリンとなる量で使用される。反応生成物から過剰
のアクセプター物質および副生する塩を除去する方法
は、通常、水洗等の手段によって行われる。
【0032】本発明により得られたTKXEは、上記の
エポキシ樹脂用の硬化剤としてはもとより、他のエポキ
シ樹脂用の硬化剤として用いることができる。他のエポ
キシ樹脂として、フェノールノボラック型、フェノール
アラルキル型、ジシクロペンタジエン変性フェノール
型、レゾール系フェノール型等のフェノール系グリシジ
ルエーテル型エポキシ樹脂、ブタンジオール型、ポリエ
チレングリコール型、ポリプロピレングリコール型等の
アルコール系グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フタ
ル酸型、イソフタル酸型、テレフタル酸型、テトラヒド
ロフタル酸型等のカルボン酸系グリシジルエステル型エ
ポキシ樹脂、アニリン型、イソシアヌール酸型等の窒素
原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したエポ
キシ樹脂、分子内オレフィンをエポキシ化した脂環型エ
ポキシ樹脂等が挙げられる。
【0033】エポキシ樹脂および硬化剤であるTKXE
はエポキシ樹脂のエポキシ基1モル当たりTKXEのフ
ェノール性水酸基が0.5〜2モルとなるような混合比
率で用いるのが好ましい。0.5モル未満であっても、
また、2モルを越えても得られる硬化物の耐熱性、機械
的強度等が低下する傾向があるので好ましくない。
【0034】また、上述のエポキシ樹脂と本発明により
得られたTKXEからなるエポキシ樹脂組成物には、エ
ポキシ樹脂とフェノール性水酸基との硬化反応時間を短
縮するために硬化促進剤を添加することができる。硬化
促進剤としては、例えば2−メチルイミダゾール、2−
エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダ
ゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイ
ミダゾール類、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン
等の3級アミン、トリフェニルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、メチルジ
フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、1,8−ジ
アザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等のジアザ
ビシクロアルケン類等が挙げられる。これらの硬化促進
剤の添加量は、エポキシ樹脂に対し0.001〜5重量
%が好ましい。添加量が上記の範囲を外れると得られる
硬化物の耐熱性、機械的特性等が低下する傾向があるの
で好ましくない。
【0035】また、本発明のエポキシ樹脂組成物には無
機充填剤として、結晶性シリカ、溶融シリカ、アルミ
ナ、クレー、チタンホワイト、ジルコン、ベリリア、マ
グネシア、ジルコニア、フォーステライト、ステアタイ
ト、スピネル、ムライト、チタニア、硫酸バリウム、石
英ガラス、水酸化アルミニウム、チタン酸カリウム、炭
化珪素、窒化珪素、アルミナ、ガラス繊維等を単独また
は2種以上の混合物として添加することができる。
【0036】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物には
必要に応じて、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステ
ル類、天然ワックス類、合成ワックス類、酸アミド類、
パラフィン等の離型剤、ブロム化合物、アンチモン、リ
ン等の難燃化剤、カーボンブラック等の着色剤、エポキ
シシラン、アミノシラン、ビニルシラン、アルキルシラ
ン、有機チタネート等のシランカップリング剤、その
他、可撓性付与剤等の添加剤を適宜配合してもよい。
【0037】上記の原材料を用いて本発明のエポキシ樹
脂組成物を製造する方法には特に制限はない。一般的な
方法としては、所定の配合量の各原材料をミキサー等に
よって充分混合したのち、熱ロール、スクリュウ式押出
機等を用いて混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げるこ
とができる。
【0038】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。
【0039】実施例1 撹拌機、還流冷却器および温度調節装置を備えた耐熱ガ
ラス製容器にBXF2.0gおよび2−エチルヘキサノ
ール5.0gを装入し、撹拌してBXFを2−エチルヘ
キサノールに溶解させた。150℃において、この溶液
に空気を30ml/min.の速度で吹き込みながら脱
水素縮合反応を行なった。反応系に吹き込んだ空気は、
生成した水と共に還流冷却器を通して系外に排出した。
約1時間経過した時点でTKXEの結晶が析出し始め
た。約6時間で反応を終了した。
【0040】室温まで冷却し、反応混合物をろ過して、
TKXEの結晶を得た。得られたTKXEの結晶を10
gのメタノール中に投入し、60℃において5分間撹拌
下で洗浄し、未反応のBXFおよび副生物を除去した。
これをろ過し、100℃において2時間乾燥し、TKX
Eの白色結晶0.18gを得た。
【0041】得られた白色結晶を高速液体クロマトグラ
フ(HPLC)を用いて分析したところ純度が99.5
重量%であった。また、核磁気共鳴スペクトルおよび質
量分析スペクトルによる分析の結果、TKXEであるこ
とを確認した。元素分析を行なった結果、理論値がC:
80%、H:7.5%であるのに対し、実測値はC:7
9%、H:8.0%であった。また、熱天秤を用いてT
KXEの分解温度を測定した結果313℃であった。T
KXEの赤外線吸収スペクトルを図1に、核磁気共鳴ス
ペクトルを図2に示す。図2において、曲線Aは核磁気
共鳴スペクトルを示し、曲線Bは核磁気共鳴スペクトル
の積分曲線を示す。
【0042】実施例2 実施例1と同様の容器にBXF2.0gを装入し180
℃に加熱し、該BXFを溶融させた。この溶融液に空気
を30ml/min.の速度で吹き込みながら脱水素縮
合反応を行なった。反応中に生成した水は還流冷却器を
通して系外に排出した。約1時間でTKXEの結晶が析
出し始めた。約3時間後に反応を終了した。次いで、反
応温度において得られた反応混合物をろ過して、溶融状
の原料BXFを濾別した。得られたTKXEの結晶を室
温まで冷却した後、10gのメタノール中に入れ、60
℃において5分間撹拌下で洗浄し、僅かに付着している
未反応のBXFおよび副生物を除去した。これをろ過・
乾燥し、TKXEの白色結晶0.18gを得た。
【0043】実施例3〜6 〔表1〕に示す条件に従った以外、実施例2と同様にし
てTKXEを得た。得られた結果を〔表1〕に示す。
【0044】実施例7 実施例1における ”空気吹き込み”を ”酸素吹き込
み" 方法とした以外は実施例1と同様にしてTKXEを
得た。得られた結果を〔表1〕に示す。
【0045】実施例8〜12 実施例2における”空気吹き込み”を ”酸素吹き込
み" 方法とした以外は実施例2と同様に行った。得られ
た結果を〔表1〕に示す。
【0046】実施例13 実施例1と同様の容器にBXF10g、メタノール50
gおよび四塩化バナジウム7.5gを加え、40℃にお
いて撹拌し、メタノール溶液とした。空気雰囲気下40
℃において2時間脱水素縮合反応を行った。反応混合物
をろ過し、得られた結晶をメタノール/アセトニトリル
の混合液(重量比1:1)200g中に入れ、60℃に
おいて5分間撹拌下で洗浄した。これをろ過・乾燥し、
4.1gのTKXEの結晶を得た。得られた結果を〔表
1〕に示す。
【0047】
【表1】
【0048】比較例1 撹拌装置、温度調節器、水分離器および滴下ロートを備
えた100mlのフラスコに2,6−キシレノール61
g、40%グリオキザール水溶液11.5gを装入し、
100〜105℃、700mmHgにおいて反応系内の
水6gを系外に留出させた。反応系内の水の濃度が1.
7重量%になった時点で5%p−トルエンスルホン酸水
溶液1.9gを滴下ロートから徐々に添加し、縮合反応
によって生成する水を連続的に留出させながら反応系の
水の濃度を0.9〜1.9重量%に保持し、110℃に
おいて2時間反応させた。
【0049】反応後、0.4%苛性ソーダ水溶液5.4
gを添加して中和した。さらに、減圧下で180℃に加
熱し、水および未反応2,6−キシレノール等を留出さ
せ、反応生成物29gを得た。(以下、この反応生成物
をポリフェノールという)得られたポリフェノールを高
速液体クロマトグラフ(HPLC)を用いて分析したと
ころTKXEの含有率(純度)が51重量%であった。
不純物として、低分子物が約10重量%、高次縮合物が
約39重量%含有されていた。テトラヒドロフラン/メ
タノール系による溶解/再結晶を試みたが不純物の分離
は困難であった。また、メタノール、トルエンおよびア
セトニトリルを用いて洗浄したが不純物の除去は不可能
であった。
【0050】実施例14 実施例1と同様の方法で得られたTKXE30重量部、
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
(株)製、EOCN−102S、エポキシ当量214、
軟化点75℃)100重量部、および、2−エチル−4
−メチルイミダゾール0.5重量部を混合し、混練温度
100〜110℃、混練時間5分の条件でロール混練を
行なった。シート状の混練物を冷却した後、粉砕しエポ
キシ樹脂組成物を得た。次いで、該組成物を200kg
/cm2 、170℃において5分間圧縮成形することに
より所定の形状の成形品を作成し、さらに、175℃の
オーブン中で、4.5時間加熱してエポキシ樹脂硬化物
を得た。該硬化物のガラス転移温度は192℃であっ
た。
【0051】尚、エポキシ樹脂硬化物の特性値の評価
は、下記方法によった。ガラス転移温度(単位:℃);
理学電機製TMA装置を用いて測定した成形品の温度−
線膨張曲線から、その屈曲点の温度をガラス転移温度と
した。温度測定は常温から250℃まで、昇温速度は2
℃/分とした。
【0052】比較例2 実施例14において、実施例1と同様の方法で得られた
TKXEに代えて、比較例1と同様の方法で得られたポ
リフェノール30重量部を用いた以外、実施例14と同
様にしてエポキシ樹脂硬化物を得た。該硬化物のガラス
転移温度は173℃であった。
【0053】実施例15 実施例2と同様の方法で得られたTKXE25.5g、
エピクロルヒドリン255.0gを混合し100℃に保
ち、50重量%NaOH水溶液19gを3時間で滴下し
た後、さらに100℃で2時間熟成した。塩酸で中和し
た後水洗を2回繰り返して行った。次いで,50℃、4
0mmHgでエピクロルヒドリンを取り除き、160
℃、7mmHgで乾燥させ、目的のエポキシ樹脂を2
8.4g得た。エポキシ当量は263g/eq.であっ
た。
【0054】次いで、得られたエポキシ樹脂100重量
部、実施例2と同様の方法で得られたTKXE30重量
部、および、2−エチル−4−メチルイミダゾール0.
5重量部を混合した。この混合物を用いて、実施例14
と同様にしてエポキシ樹脂硬化物を得た。得られた硬化
物の特性評価を実施例14と同様にして行なった。該硬
化物のガラス転移温度は202℃であった。
【0055】比較例3 実施例15において、実施例2と同様の方法で得られた
TKXEに代えて、比較例1と同様の方法で得られたポ
リフェノールを用いた以外、実施例15と同様にしてエ
ポキシ樹脂硬化物を得た。該硬化物のガラス転移温度は
182℃であった。
【0056】
【発明の効果】本発明のTKXEの製造方法によれば、
高純度のTKXEが結晶として得られる。この方法は有
機物を含有する多量の排水を発生することがない。
【0057】また、本発明のエポキシ樹脂およびエポキ
シ樹脂組成物は、優れた耐熱性、機械的特性、電気的特
性等を有する硬化物を与える。
【図面の簡単な説明】
【図1】は、実施例1で得られたTKXEの赤外線吸収
スペクトルを示す。
【図2】は、実施例1で得られたTKXEの核磁気共鳴
スペクトルを示す。
【符号の説明】
〔図2〕において、曲線Aは核磁気共鳴スペクトルを示
し、曲線Bは核磁気共鳴スペクトルの積分曲線を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 59/06 NHJ 8416−4J 59/62 NJF 8416−4J // C07B 61/00 300

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2分子のビス(3,5−ジメチル−4−
    ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素縮
    合させることを特徴とする1,1,2,2−テトラキス
    (4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 室温〜310℃の温度で前記の脱水素縮
    合を実施する請求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 触媒の不存在下、180〜300℃の温
    度で溶融状態のビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
    シフェニル)メタンに酸素含有ガスを吹き込みながら前
    記の脱水素縮合を実施する請求項1記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 脱水素縮合反応の後、反応温度において
    反応混合物をろ過して、1,1,2,2−テトラキス
    (4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン
    の結晶を分離する請求項3記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
    シフェニル)メタンおよび酸化触媒を溶媒中に溶解させ
    て、室温〜150℃の温度で酸素含有ガスを吹き込みな
    がら前記の脱水素縮合を実施する請求項1記載の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 酸化触媒が四塩化バナジウムである請求
    項5記載の製造方法。
  7. 【請求項7】 脱水素縮合反応の後、反応混合物から
    1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシ−3,5
    −ジメチルフェニル)エタンを分離し、次いで溶媒を用
    いて洗浄する請求項1記載の製造方法。
  8. 【請求項8】 2分子のビス(3,5−ジメチル−4−
    ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素縮
    合させて得られた高純度1,1,2,2−テトラキス
    (4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン
    をエポキシ化して得られたエポキシ樹脂。
  9. 【請求項9】 2分子のビス(3,5−ジメチル−4−
    ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素縮
    合させて高純度1,1,2,2−テトラキス(4−ヒド
    ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタンを生成さ
    せ、該生成物をハロゲン化水素アクセプターの存在下、
    40〜120℃の温度でエピハロヒドリンでエポキシ化
    することを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。
  10. 【請求項10】 2分子のビス(3,5−ジメチル−4
    −ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素
    縮合させて得られた高純度1,1,2,2−テトラキス
    (4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン
    (A)およびエポキシ樹脂(B)を含み、(A)および
    (B)の量が(B)のエポキシ基1モルに対して(A)
    の水酸基が0.5〜2モルであるエポキシ樹脂組成物。
  11. 【請求項11】 2分子のビス(3,5−ジメチル−4
    −ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素
    縮合させて高純度1,1,2,2−テトラキス(4−ヒ
    ドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン(A)を
    生成させ、(A)とエポキシ樹脂(B)とを(B)のエ
    ポキシ基1モルに対して(A)の水酸基が0.5〜2モ
    ルとなる量で混合することを特徴とするエポキシ樹脂組
    成物の製造方法。
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