JPH0581386A - 半導体シミユレーシヨン装置 - Google Patents

半導体シミユレーシヨン装置

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Publication number
JPH0581386A
JPH0581386A JP27024291A JP27024291A JPH0581386A JP H0581386 A JPH0581386 A JP H0581386A JP 27024291 A JP27024291 A JP 27024291A JP 27024291 A JP27024291 A JP 27024291A JP H0581386 A JPH0581386 A JP H0581386A
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JP
Japan
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mask
pair
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process data
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP27024291A
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Takaaki Tatsumi
孝明 巽
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 マスクデータおよびプロセスデータの矛盾す
る組み合わせでの使用を防止できるとともに、一方のデ
ータのみの書き換えおよび使用を可能ににする。 【構成】 マスクデータを記憶するマスクデータベース
14と、プロセスデータを記憶するプロセスデータベー
ス10と、マスクデータとプロセスデータとの対を示す
ペアデータを記憶するペアデータベース6とを備え、さ
らに、マスクデータおよびプロセスデータの少なくとも
一方に対する編集要求(例えば、内容変更、削除、コピ
ー、名前の変更等)に応じて、ペアデータベース6の記
憶内容を書き換えるペア取扱いモジュール4をさらに備
える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マスクに関するマスク
データおよび製造工程に関するプロセスデータとに基づ
いて半導体シミュレーションを行う半導体シミュレーシ
ョン装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体シミュレーションプログラ
ムのマスクに関するマスクデータおよび製造行程に関す
るプロセスデータは、完全に一体化して取り扱われる
か、または全く別個に取り扱われれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】マスクデータとプロセ
スデータとを完全に一体化すると、両データのうち一方
のデータのみの変更のために両データを処理する必要が
あり、一方のデータのみを使用することができない。
【0004】マスクデータとプロセスデータとを全く別
個に取り扱うと、ユーザが矛盾する組み合わせでシミュ
レーションを行ってしまう可能性があり、どの組み合わ
せでシミュレーションしたかの記録を行うのが困難とな
る。
【0005】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、マスクデータおよびプロセスデータの矛
盾する組み合わせでの使用を防止できるとともに、一方
のデータのみの書き換えおよび使用を可能にする半導体
シミュレーション装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の半導体
シミュレーション装置は、マスクに関するマスクデータ
および製造工程に関するプロセスデータとに基づいて半
導体シミュレーションを行う半導体シミュレーション装
置であって、マスクデータを記憶するマスクデータ記憶
手段(例えば、図1のマスクデータベース14)と、プ
ロセスデータを記憶するプロセスデータ記憶手段(例え
ば、図1のプロセスデータベース10)と、マスクデー
タとプロセスデータとの対を示すペアデータを記憶する
ペアデータ記憶手段(例えば、図1のペアデータベース
6)とを備えることを特徴とする。
【0007】請求項2に記載の半導体シミュレーション
装置は、マスクデータおよびプロセスデータの少なくと
も一方に対する編集要求(例えば、内容変更、削除、コ
ピー、名前の変更等)に応じて、ペアデータ記憶手段の
記憶内容を書き換えるペア取扱い手段(例えば、図1の
ペア取扱いモジュール4)をさらに備えることを特徴と
する。
【0008】請求項3に記載の半導体シミュレーション
装置は、マスクデータおよびプロセスデータの少なくと
も一方に対する編集要求に応じて、ペアデータ記憶手段
の記憶内容を書き換えるとともに編集命令を発するペア
取扱い手段(例えば、図1のペア取扱いモジュール4)
と、編集命令を受けたときに、外部からの入力に応じて
マスクデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるマスクデ
ータ編集手段(例えば、図1のマスクエディタ)と、編
集命令を受けたときに、外部からの入力に応じてプロセ
スデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるプロセスデー
タ編集手段(例えば、図1のプロセスエディタ8)とを
さらに備えることを特徴とする。
【0009】
【作用】請求項1の構成の半導体シミュレーション装置
においては、ペアデータ記憶手段が、マスクデータとプ
ロセスデータとの対を示すペアデータを記憶しているの
で、マスクデータおよびプロセスデータの矛盾する組み
合わせでの使用を防止できる。また、マスクデータとプ
ロセスデータとをそれぞれ別個の記憶手段に記憶させて
おくので、一方のデータのみの書き換えおよび使用が可
能になる。
【0010】請求項2の構成の半導体シミュレーション
装置においては、マスクデータおよびプロセスデータの
少なくとも一方に対する編集要求に応じて、ペアデータ
記憶手段に記憶されたペアデータが書き換えられる(例
えば、新たなペアデータが書き込まれる、ペアデータが
変更される、ペアデータが削除される)。従って、編集
がおこなわれても常にマスクデータとペアデータとの対
関係が維持されるので、マスクデータおよびプロセスデ
ータの矛盾する組み合わせでの使用を防止できるととも
に、どの組み合わせでシミュレーションしたかの記録が
容易となる。
【0011】請求項3の構成の半導体シミュレーション
装置においては、マスクデータおよびプロセスデータの
少なくとも一方に対する編集要求に応じて、ペアデータ
記憶手段の記憶内容が書き換えるとともに編集命令が発
せられる。そして、編集命令が発せられると、外部から
の入力に応じて、マスクデータ記憶手段およびプロセス
データ記憶手段の一方または双方の記憶内容が書き換え
る。従って、マスクデータおよびプロセスデータの一方
のデータのみの書き換えが可能となる。
【0012】
【実施例】図1は、本発明の半導体シミュレーション装
置の一実施例の構成を示す。インターフェース装置2
は、半導体シミュレーション装置からユーザに対する出
力装置であるCRTまたはLCDからなるディスプレイ
装置と、ユーザから半導体シミュレーション装置に対す
る入力装置であるマウスおよびキーボードとから構成さ
れる。マスクデータベース(以下、「マスクDB」と略
称)14は、マスクに関するマスクデータを記憶する。
プロセスデータベース(以下、「プロセスDB」と略
称)10は、製造工程に関するプロセスデータを記憶す
る。ペアデータベース(以下、「ペアDB」と略称)6
は、マスクデータとプロセスデータとの対を示すペアデ
ータを記憶する。
【0013】ユーザは、マスクデータおよびプロセスデ
ータの少なくとも一方を編集(例えば、内容変更、削
除、コピー、名前の変更等)したいときには、インター
フェース装置2のマウスまたはキーボードを使用してペ
ア取扱いモジュール4にアクセスする。ペア取扱いモジ
ュール4は、ペアD6からペアデータを読み出して、イ
ンターフェース装置2のデイスプレイ装置にペアデータ
のリストを表示させる。ユーザは、編集を行いたいマス
クデータもしくはプロセスデータまたはその双方を示す
ペアデータをマウスによって選択する。図2は、インタ
ーフェース装置2のディスプレイ装置に3つのペアデー
タ(Proc1,Mask1)、(Proc2,Mas
k5)、(Proc3,Mask3)が表示され、破線
22で示されたペアデータ(Proc1,Mask1)
がユーザのマウス操作によってカーソル20で指示され
選択されたところが示されている。
【0014】ペア取扱いモジュール4は、上述のユーザ
によるペアデータ選択に応じて、ペアDB6に記憶され
たペアデータを書き換える(例えば、新たなペアデータ
を書き込む、ペアデータを変更する、ペアデータを削除
する)とともに編集命令(更新命令、新データ命令、削
除命令、コピー命令、または名前変更命令)を発する。
プロセスエディタ8は、編集命令を受けると、インター
フェース装置2を介して供給されるユーザ入力に応じて
プロセスDB10の記憶内容を書き換える。マスクエデ
ィタ12は、編集命令を受けると、インターフェース装
置2を介して供給されるユーザ入力に応じてマスクDB
14の記憶内容を書き換える。図3は、図1の実施例、
特にペア取扱いモジュール4の動作を示すフローチャー
トである。以下、この図を参照して図1の実施例の動作
について説明する。まず、ユーザ入力があると(ステッ
プS1)、ペア取扱いモジュール4は、それが、内容更
新要求、削除要求、コピー要求および名前変更要求のい
ずれか判断する。
【0015】内容更新要求の場合(ステップS10)、
ペア取扱いモジュール4は、データAを変更してデータ
A’に変更する更新要求か、データAを変更して新たな
データBを作る新データ要求か判断する。更新要求の場
合(ステップS11)、ペア取扱いモジュール4は、ユ
ーザによって選択されたペアデータ(Proc‐A,M
ask‐A)のうちプロセスデータを特定するProc
‐Aおよび更新命令をプロセスエディタ8に出力し、マ
スクデータを特定するMask‐Aおよび更新命令をマ
スクエディタ12に出力する。これに応じて、プロセス
エディタ8およびマスクエディタ12は、それぞれ、P
roc‐AおよびMask‐Aに対応したデータAをプ
ロセスDB10およびマスクDB14から読み出し、デ
ィスプレイ装置に表示する。ユーザは、マウスおよびキ
ーボードを使用してデータAをデータA’に変更し、プ
ロセスエディタ8およびマスクエディタ12は、変更後
のデータA’をプロセスDB10およびマスクDB14
に記憶させる(ステップS12)。更新の場合、ペアデ
ータ(Proc‐A,Mask‐A)は変更されないの
で、ペア取扱いモジュール4は、ペアDB14の書き換
えは行わない。
【0016】新データ要求の場合(ステップS14)、
ペア取扱いモジュール4は、ユーザによって選択された
ペアデータ(Proc‐A,Mask‐A)のうちプロ
セスデータを特定するProc‐Aおよび新データ命令
をプロセスエディタ8に出力し、マスクデータを特定す
るMask‐Aおよび新データ命令をマスクエディタ1
2に出力する。これに応じて、プロセスエディタ8およ
びマスクエディタ12は、それぞれ、Proc‐Aおよ
びMask‐Aに対応したデータAをプロセスDB10
およびマスクDB14から読み出し、ディスプレイ装置
に表示する。ユーザは、マウスおよびキーボードを使用
してデータAをデータBに変更し、プロセスエディタ8
およびマスクエディタ12は、変更後のデータBをプロ
セスDB10およびマスクDB14に記憶させる(ステ
ップS15)。そして、プロセスエディタ8およびマス
クエディタ12は、それぞれ新たな名前Proc‐Bお
よびMask‐Bを付ける(ステップS16)。ペア取
扱いモジュール4は、これらの名前を受けて、ペアデー
タ(Proc‐B,Mask‐B)としてペアDB14
に書き込む(ステップS13)。
【0017】削除要求の場合(ステップS20)、ペア
取扱いモジュール4は、ペアデータ(Proc‐A,M
ask‐A)で特定されるデータが他のペアで使用され
ていなければ、プロセスエディタ8およびマスクエディ
タ12に削除命令を出力し、プロセスエディタ8および
マスクエディタ12は、ペアデータ(Proc‐A,M
ask‐A)で特定されるデータをプロセスDB10お
よびマスクDB14から削除する。また、ペア取扱いモ
ジュール4は、ユーザによって選択されたペアデータ
(Proc‐A,Mask‐A)をペアDB14から削
除する(ステップS21)。
【0018】コピー要求の場合(ステップS30)、ペ
ア取扱いモジュール4は、ユーザによって選択されたペ
アデータ(Proc‐A,Mask‐A)のうちプロセ
スデータを特定するProc‐Aおよびコピー命令をプ
ロセスエディタ8に出力し、マスクデータを特定するM
ask‐Aおよびコピー命令をマスクエディタ12に出
力する(ステップS31)。これに応じて、プロセスエ
ディタ8およびマスクエディタ12は、それぞれ、Pr
oc‐AおよびMask‐Aに対応したデータAをプロ
セスDB10およびマスクDB14から読み出し、新た
なデータ例えばデータCとしてプロセスDB10および
マスクDB14に記憶させる。そして、プロセスエディ
タ8およびマスクエディタ12は、それぞれ新たな名前
例えばProc‐CおよびMask‐Cを付ける。ペア
取扱いモジュール4は、これらの名前を受けて、ペアデ
ータ(Proc‐C,Mask‐C)としてペアDB1
4に書き込む(ステップS32)。
【0019】名前変更要求の場合(ステップS40)、
ペア取扱いモジュール4は、ユーザによって選択された
ペアデータ(Proc‐A,Mask‐A)のうちプロ
セスデータを特定するProc‐Aおよび名前変更命令
をプロセスエディタ8に出力し、マスクデータを特定す
るMask‐Aおよび名前変更命令をマスクエディタ1
2に出力する(ステップS41)。これに応じて、プロ
セスエディタ8およびマスクエディタ12は、それぞれ
新たな名前例えばProc‐DおよびMask‐Dを付
ける(ステップS42)。ペア取扱いモジュール4は、
これらの名前を受けて、ペアデータ(Proc‐D,M
ask‐D)としてペアDB14に書き込む(ステップ
S43)。
【0020】上述のように、マスクデータおよびプロセ
スデータは、常にペアで取り扱われるので、ユーザが矛
盾する組み合わせを選択するおそれはない。また、両デ
ータは、別個に編集可能なので、フレキシブルにデータ
の変更等を行うことができる。
【0021】なお、上記実施例においては、ユーザ入力
に応じて編集を行ったが、別の装置からの入力に応じて
行っても良い。要するに、外部からの入力があればよ
い。
【0022】
【発明の効果】以上の説明から明かなように、請求項1
の半導体シミュレーション装置によれば、ペアデータ記
憶手段が、マスクデータとプロセスデータとの対を示す
ペアデータを記憶するペアデータ記憶手段を設けたの
で、マスクデータおよびプロセスデータの矛盾する組み
合わせでの使用を防止できる。また、マスクデータとプ
ロセスデータとをそれぞれ別個の記憶手段に記憶させて
おくので、一方のデータのみの書き換えおよび使用が可
能になる。
【0023】請求項2の半導体シミュレーション装置に
よれば、マスクデータおよびプロセスデータの少なくと
も一方に対する編集要求に応じて、ペアデータ記憶手段
に記憶されたペアデータが書き換えるようにしたので、
編集が行われても、マスクデータとペアデータとの対関
係が常に維持されるから、マスクデータおよびプロセス
データの矛盾する組み合わせでの使用を防止できるとと
もに、どの組み合わせでシミュレーションしたかの記録
が容易となる。
【0024】請求項3の半導体シミュレーション装置に
よれば、編集要求があると、外部からの入力に応じて、
マスクデータ記憶手段およびプロセスデータ記憶手段を
それぞれ別個に書き換える編集手段を設けたので、マス
クデータおよびプロセスデータの一方のデータのみの書
き換えが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体シミュレーション装置の一実施
例の構成を示すブロック図である。
【図2】ディスプレイ装置に3つのペアデータが表示さ
れ、1つのペアデータがユーザのマウス操作によって選
択されたところを示す図である。
【図3】図1の実施例、特にペア取扱いモジュール4の
動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
4 ペア取扱いモジュール 6 ペアデータベース 8 プロセスエディタ 10 プロセスベータベース 12 マスクエディタ 14 マスクデータベース

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクに関するマスクデータおよび製造
    工程に関するプロセスデータとに基づいて半導体シミュ
    レーションを行う半導体シミュレーション装置におい
    て、 前記マスクデータを記憶するマスクデータ記憶手段と、 前記プロセスデータを記憶するプロセスデータ記憶手段
    と、 前記マスクデータと前記プロセスデータとの対を示すペ
    アデータを記憶するペアデータ記憶手段とを備えること
    を特徴とする半導体シミュレーション装置。
  2. 【請求項2】 前記マスクデータおよび前記プロセスデ
    ータの少なくとも一方に対する編集要求に応じて、前記
    ペアデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるペア取り扱
    い手段をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の
    半導体シミュレーション装置。
  3. 【請求項3】 前記マスクデータおよび前記プロセスデ
    ータの少なくとも一方に対する編集要求に応じて、前記
    ペアデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるとともに編
    集命令を発するペア取り扱い手段と、 前記編集命令を受けたときに、外部からの入力に応じて
    前記マスクデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるマス
    クデータ編集手段と、 前記編集命令を受けたときに、外部からの入力に応じて
    前記プロセスデータ記憶手段の記憶内容を書き換えるプ
    ロセスデータ編集手段とをさらに備えることを特徴とす
    る請求項1記載の半導体シミュレーション装置。
JP27024291A 1991-09-20 1991-09-20 半導体シミユレーシヨン装置 Withdrawn JPH0581386A (ja)

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JP27024291A Withdrawn JPH0581386A (ja) 1991-09-20 1991-09-20 半導体シミユレーシヨン装置

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Effective date: 19981203