JPH0578308A - ４−フエニルチオベンゼンチオールの製造方法 - Google Patents
４−フエニルチオベンゼンチオールの製造方法Info
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- JPH0578308A JPH0578308A JP3086164A JP8616491A JPH0578308A JP H0578308 A JPH0578308 A JP H0578308A JP 3086164 A JP3086164 A JP 3086164A JP 8616491 A JP8616491 A JP 8616491A JP H0578308 A JPH0578308 A JP H0578308A
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、ジフェニルモノスルフィドを溶媒
中、触媒の存在下で一塩化硫黄と反応させ、ビス（チオ
フェニルチオベンゼン）を得、次いで該ビス（チオフェ
ニルチオベンゼン）を還元することを特徴とする４−フ
ェニルチオベンゼンチオールの製造方法である。 【効果】本発明の製造方法によれば、溶媒中、触媒存在
下ジフェニルモノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、
次いで得られた反応生成物を還元するという極めて簡単
な操作で、かつ重金属を含む廃水の発生が少ない、４−
フェニルチオベンゼンチオールを簡易にかつ高収率で工
業的に有利に製造することができる。
中、触媒の存在下で一塩化硫黄と反応させ、ビス（チオ
フェニルチオベンゼン）を得、次いで該ビス（チオフェ
ニルチオベンゼン）を還元することを特徴とする４−フ
ェニルチオベンゼンチオールの製造方法である。 【効果】本発明の製造方法によれば、溶媒中、触媒存在
下ジフェニルモノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、
次いで得られた反応生成物を還元するという極めて簡単
な操作で、かつ重金属を含む廃水の発生が少ない、４−
フェニルチオベンゼンチオールを簡易にかつ高収率で工
業的に有利に製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、４−フェニルチオベン
ゼンチオールの製造方法に関する。４−フェニルチオベ
ンゼンチオールは医薬、農薬や電子工業薬品を製造する
際の原料として有用な化合物である。
ゼンチオールの製造方法に関する。４−フェニルチオベ
ンゼンチオールは医薬、農薬や電子工業薬品を製造する
際の原料として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】従来、４
−フェニルチオベンゼンチオールの製造方法としては、
例えばＡｎｎ．Ｃｈｉｍ．４６，１０６９（１９５６）
に記載されている反応式（Ａ）で表されるジアゾ化反応
を経る方法及び反応式（Ｂ）で表されるジフェニルモノ
スルフィドをスルホン化し、次いで塩素化して得られる
４−（フェニルチオ）ベンゼンスルホニルクロリド（特
開平２−１３８１６９号公報）を公知の還元方法、例え
ば亜鉛末で還元する方法が知られている。
−フェニルチオベンゼンチオールの製造方法としては、
例えばＡｎｎ．Ｃｈｉｍ．４６，１０６９（１９５６）
に記載されている反応式（Ａ）で表されるジアゾ化反応
を経る方法及び反応式（Ｂ）で表されるジフェニルモノ
スルフィドをスルホン化し、次いで塩素化して得られる
４−（フェニルチオ）ベンゼンスルホニルクロリド（特
開平２−１３８１６９号公報）を公知の還元方法、例え
ば亜鉛末で還元する方法が知られている。
【化３】
【化４】
【０００３】しかしながら、反応式（Ａ）で表される方
法は容積効率が悪く、多量のガスの発生を伴うためその
制御に細心の注意を要する。更に、原料である４−アミ
ノフェニルチオベンゼンは、一般的な原料とは言えず、
４−アミノフェニルチオベンゼンの合成工程も考える
と、反応式（Ａ）で表される方法は工程数が多く、工業
的に有利な方法とは言い難い。また反応式（Ｂ）で表さ
れる方法では、還元に際し亜鉛をフェニルチオベンゼン
スルホニルクロリドに対して理論上においても３モル倍
必要とするため、亜鉛を含む廃水が多量に発生するとい
う欠点を有している。
法は容積効率が悪く、多量のガスの発生を伴うためその
制御に細心の注意を要する。更に、原料である４−アミ
ノフェニルチオベンゼンは、一般的な原料とは言えず、
４−アミノフェニルチオベンゼンの合成工程も考える
と、反応式（Ａ）で表される方法は工程数が多く、工業
的に有利な方法とは言い難い。また反応式（Ｂ）で表さ
れる方法では、還元に際し亜鉛をフェニルチオベンゼン
スルホニルクロリドに対して理論上においても３モル倍
必要とするため、亜鉛を含む廃水が多量に発生するとい
う欠点を有している。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況に鑑み、上記従来法の種々の欠点を改善し、従来
法よりも少ない工程数で、高収率で、かつ重金属を含む
廃水の発生が少ない、工業的に有利な４−フェニルチオ
ベンゼンチオールの製造方法について鋭意検討を重ね
た。
な状況に鑑み、上記従来法の種々の欠点を改善し、従来
法よりも少ない工程数で、高収率で、かつ重金属を含む
廃水の発生が少ない、工業的に有利な４−フェニルチオ
ベンゼンチオールの製造方法について鋭意検討を重ね
た。
【０００５】その結果、以下の反応式（Ｃ）で表される
ように有機溶媒中、ある種の触媒の存在下ジフェニルモ
ノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、一旦、ビス（チ
オフェニルチオベンゼン）（式（２）で表される化合
物）を合成し、次いでこれを還元剤を用いて還元するこ
とにより４−フェニルチオベンゼンチオール（式（１）
で表される化合物）を製造できることを見いだし、本発
明に至った。
ように有機溶媒中、ある種の触媒の存在下ジフェニルモ
ノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、一旦、ビス（チ
オフェニルチオベンゼン）（式（２）で表される化合
物）を合成し、次いでこれを還元剤を用いて還元するこ
とにより４−フェニルチオベンゼンチオール（式（１）
で表される化合物）を製造できることを見いだし、本発
明に至った。
【化５】
【０００６】即ち、本発明の要旨は、ジフェニルモノス
ルフィドを溶媒中、触媒の存在下で一塩化硫黄と反応さ
せ、式（２）
ルフィドを溶媒中、触媒の存在下で一塩化硫黄と反応さ
せ、式（２）
【化６】 で表されるビス（チオフェニルチオベンゼン）を得、次
いで該ビス（チオフェニルチオベンゼン）を還元するこ
とを特徴とする式（１）
いで該ビス（チオフェニルチオベンゼン）を還元するこ
とを特徴とする式（１）
【化７】 で表される４−フェニルチオベンゼンチオールの製造方
法に関する。
法に関する。
【０００７】このように一旦生成したビス（チオフェニ
ルチオベンゼン）を還元して４−フェニルチオベンゼン
チオールを得る方法は従来にない新規な方法である。こ
の方法によれば、還元剤として、例えば亜鉛末を使用し
た場合、必要な亜鉛の理論値はビス（チオフェニルチオ
ベンゼン）に対して１モル倍であり、反応式（Ｂ）によ
る従来法より亜鉛の使用量を少なくすることができ、非
常に有利である。
ルチオベンゼン）を還元して４−フェニルチオベンゼン
チオールを得る方法は従来にない新規な方法である。こ
の方法によれば、還元剤として、例えば亜鉛末を使用し
た場合、必要な亜鉛の理論値はビス（チオフェニルチオ
ベンゼン）に対して１モル倍であり、反応式（Ｂ）によ
る従来法より亜鉛の使用量を少なくすることができ、非
常に有利である。
【０００８】本発明でジフェニルモノスルフィドと一塩
化硫黄との反応に使用する反応溶媒としては、モノクロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、
クロロホルム、塩化メチレン、エチレンジクロライド等
のハロゲン化炭化水素類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等の
エステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセ
トニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、スルホラン等が挙げられる。ま
た反応基材であるジフェニルモノスルフィドそのものを
反応溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、一塩化
硫黄に対して通常１〜１０重量倍であり、好ましくは
１．５〜８重量倍である。また、ここに挙げた溶媒は通
常、単独でまたは２種以上混合して使用される。
化硫黄との反応に使用する反応溶媒としては、モノクロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、
クロロホルム、塩化メチレン、エチレンジクロライド等
のハロゲン化炭化水素類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等の
エステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセ
トニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、スルホラン等が挙げられる。ま
た反応基材であるジフェニルモノスルフィドそのものを
反応溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、一塩化
硫黄に対して通常１〜１０重量倍であり、好ましくは
１．５〜８重量倍である。また、ここに挙げた溶媒は通
常、単独でまたは２種以上混合して使用される。
【０００９】ジフェニルモノスルフィドと一塩化硫黄と
の反応の際使用する反応触媒としては、塩化アルミニウ
ム、塩化第二鉄、塩化亜鉛、四塩化錫、二塩化錫、四塩
化チタン、塩化ビスマス、四塩化ジルコニウム、三塩化
アンチモン、五塩化アンチモン、塩化カドミウム、塩化
銅、塩化鉛等のルイス酸、アルミニウム、鉄、亜鉛、
錫、チタン、ビスマス、ジルコニウム、カドミウム、
銅、鉛等の金属末あるいは金属粒及びヨウ素が挙げら
れ、好ましくは塩化亜鉛、四塩化チタン、塩化アルミニ
ウム、塩化第二鉄、塩化ビスマス、四塩化ジルコニウ
ム、亜鉛、チタン、アルミニウム、鉄、ヨウ素等であ
る。触媒の使用量は原料ジフェニルモノスルフィドに対
して、通常０．００１〜１モル倍、好ましくは０．０１
〜０．２モル倍である。触媒量が０．００１モル倍より
も少ないと反応に長時間を要し、１モル倍よりも多くを
用いてもそれに見合う効果が得られず、得策でない。
の反応の際使用する反応触媒としては、塩化アルミニウ
ム、塩化第二鉄、塩化亜鉛、四塩化錫、二塩化錫、四塩
化チタン、塩化ビスマス、四塩化ジルコニウム、三塩化
アンチモン、五塩化アンチモン、塩化カドミウム、塩化
銅、塩化鉛等のルイス酸、アルミニウム、鉄、亜鉛、
錫、チタン、ビスマス、ジルコニウム、カドミウム、
銅、鉛等の金属末あるいは金属粒及びヨウ素が挙げら
れ、好ましくは塩化亜鉛、四塩化チタン、塩化アルミニ
ウム、塩化第二鉄、塩化ビスマス、四塩化ジルコニウ
ム、亜鉛、チタン、アルミニウム、鉄、ヨウ素等であ
る。触媒の使用量は原料ジフェニルモノスルフィドに対
して、通常０．００１〜１モル倍、好ましくは０．０１
〜０．２モル倍である。触媒量が０．００１モル倍より
も少ないと反応に長時間を要し、１モル倍よりも多くを
用いてもそれに見合う効果が得られず、得策でない。
【００１０】本発明で使用する一塩化硫黄の使用量はジ
フェニルモノスルフィドに対して、通常０．１〜１．５
モル倍、好ましくは０．５〜１．５モル倍である。一塩
化硫黄の使用量が０．１モル倍より少ないと、後で還元
して得られる目的物である４−フェニルチオベンゼンチ
オールの収率が低く、１．５モル倍を越えて使用した場
合には、目的物の他に反応式（Ｄ）の反応により得られ
る４，４’−チオビス（ベンゼンチオール）（式（３）
で表される化合物）が副生し、これを分離しなければな
らず、４−フェニルチオベンゼンチオールの収率が低く
なるため経済的に不利である。
フェニルモノスルフィドに対して、通常０．１〜１．５
モル倍、好ましくは０．５〜１．５モル倍である。一塩
化硫黄の使用量が０．１モル倍より少ないと、後で還元
して得られる目的物である４−フェニルチオベンゼンチ
オールの収率が低く、１．５モル倍を越えて使用した場
合には、目的物の他に反応式（Ｄ）の反応により得られ
る４，４’−チオビス（ベンゼンチオール）（式（３）
で表される化合物）が副生し、これを分離しなければな
らず、４−フェニルチオベンゼンチオールの収率が低く
なるため経済的に不利である。
【化８】
【００１１】本発明の反応温度としては、通常１０℃〜
１５０℃であり、好ましくは２０℃〜７０℃である。１
０℃より低い温度では反応に長時間を要し、１５０℃よ
り高い温度では副反応生成物が増加するため好ましくな
い。
１５０℃であり、好ましくは２０℃〜７０℃である。１
０℃より低い温度では反応に長時間を要し、１５０℃よ
り高い温度では副反応生成物が増加するため好ましくな
い。
【００１２】本発明では、ジフェニルモノスルフィドと
一塩化硫黄を反応させ、一旦、ビス（チオフェニルチオ
ベンゼン）（式（２）で表される化合物）を合成し、次
いでこれを還元剤を用いて還元することにより４−フェ
ニルチオベンゼンチオールを得るが、ここで用いられる
還元剤としては、芳香族ジスルフィドを還元することが
できる通常の還元剤が用いられ、通常の方法によって行
われる。例えば、亜鉛、鉄等の金属と塩酸、硫酸等の鉱
酸、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフ
ィン、硫化ナトリウム、硫化カリウム、水素化リチウム
アルミニウム等を用いることにより行われる。これらの
還元剤は一塩化硫黄との反応の終了後の反応液中に引続
き添加してもよく、また反応溶媒を留去し、溶媒置換の
後に添加してもよい。
一塩化硫黄を反応させ、一旦、ビス（チオフェニルチオ
ベンゼン）（式（２）で表される化合物）を合成し、次
いでこれを還元剤を用いて還元することにより４−フェ
ニルチオベンゼンチオールを得るが、ここで用いられる
還元剤としては、芳香族ジスルフィドを還元することが
できる通常の還元剤が用いられ、通常の方法によって行
われる。例えば、亜鉛、鉄等の金属と塩酸、硫酸等の鉱
酸、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフ
ィン、硫化ナトリウム、硫化カリウム、水素化リチウム
アルミニウム等を用いることにより行われる。これらの
還元剤は一塩化硫黄との反応の終了後の反応液中に引続
き添加してもよく、また反応溶媒を留去し、溶媒置換の
後に添加してもよい。
【００１３】還元剤の使用量はジフェニルモノスルフィ
ドに対し、通常０．０５〜５モル倍、好ましくは０．１
〜２．５モル倍である。還元反応の温度は２０〜１００
℃、好ましくは２０〜７０℃である。還元剤の添加は、
前記のように反応溶媒を置換することなく、あるいは置
換した後に行われる。
ドに対し、通常０．０５〜５モル倍、好ましくは０．１
〜２．５モル倍である。還元反応の温度は２０〜１００
℃、好ましくは２０〜７０℃である。還元剤の添加は、
前記のように反応溶媒を置換することなく、あるいは置
換した後に行われる。
【００１４】例えば、亜鉛末と鉱酸により還元反応を行
う場合、ジフェニルモノスルフィドと一塩化硫黄との反
応に際し、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の水不溶性溶媒を用いる場合
には還元反応終了後水層との分液に問題はないが、水溶
性溶媒を用いている場合に溶媒置換を行わずに還元反応
を行うと、還元反応後の目的物４−フェニルチオベンゼ
ンチオールを含む有機層と水層との分液が困難となるた
め、還元反応に先立ち反応溶媒を水不溶性溶媒に置換し
た後に行うのが好ましい。還元反応は、反応液にそのま
ま、あるいは溶媒を置換した後に塩酸をジフェニルモノ
スルフィドに対して通常０．１〜１０モル倍、好ましく
は２〜５モル倍加え、亜鉛末をジフェニルモノスルフィ
ドに対して通常０．０５〜５モル倍、好ましくは１〜
２．５モル倍加えて２０〜７０℃で行う。
う場合、ジフェニルモノスルフィドと一塩化硫黄との反
応に際し、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の水不溶性溶媒を用いる場合
には還元反応終了後水層との分液に問題はないが、水溶
性溶媒を用いている場合に溶媒置換を行わずに還元反応
を行うと、還元反応後の目的物４−フェニルチオベンゼ
ンチオールを含む有機層と水層との分液が困難となるた
め、還元反応に先立ち反応溶媒を水不溶性溶媒に置換し
た後に行うのが好ましい。還元反応は、反応液にそのま
ま、あるいは溶媒を置換した後に塩酸をジフェニルモノ
スルフィドに対して通常０．１〜１０モル倍、好ましく
は２〜５モル倍加え、亜鉛末をジフェニルモノスルフィ
ドに対して通常０．０５〜５モル倍、好ましくは１〜
２．５モル倍加えて２０〜７０℃で行う。
【００１５】このようにして得られた４−フェニルチオ
ベンゼンチオールの単離・精製は、通常の有機化合物に
おいて用いられる方法と同様にして行われ、例えば減圧
蒸留または再結晶などにより、目的化合物である４−フ
ェニルチオベンゼンチオールを得ることができる。
ベンゼンチオールの単離・精製は、通常の有機化合物に
おいて用いられる方法と同様にして行われ、例えば減圧
蒸留または再結晶などにより、目的化合物である４−フ
ェニルチオベンゼンチオールを得ることができる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ 温度計、冷却器、撹拌器、滴下ロートを備えたフラスコ
にモノクロロベンゼン９０ｇ、テトラヒドラフラン１０
ｇ、一塩化硫黄３２．４ｇ（０．２４モル）、塩化亜鉛
０．２７ｇ（０．００２モル）を常温で仕込み、撹拌し
ながら５０℃に加熱し、滴下ロートよりジフェニルモノ
スルフィド３７．３ｇ（０．２モル）を加え、その温度
で２時間撹拌を続け、２０℃まで冷却しビス（チオフェ
ニルチオベンゼン）を得た。次いで３５％濃塩酸７５ｇ
（０．７２モル）と亜鉛末２３．５ｇ（０．３６モル）
を加え、６０℃で１時間撹拌を続けた。その後反応液を
濾過し、有機層を分液した後濃縮し、１５０〜１５２℃
（２ｍｍＨｇ）で減圧蒸留し、４−フェニルチオベンゼ
ンチオール３４．１ｇを得た。収率７８．０％。結果を
まとめて表１に示す。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ 温度計、冷却器、撹拌器、滴下ロートを備えたフラスコ
にモノクロロベンゼン９０ｇ、テトラヒドラフラン１０
ｇ、一塩化硫黄３２．４ｇ（０．２４モル）、塩化亜鉛
０．２７ｇ（０．００２モル）を常温で仕込み、撹拌し
ながら５０℃に加熱し、滴下ロートよりジフェニルモノ
スルフィド３７．３ｇ（０．２モル）を加え、その温度
で２時間撹拌を続け、２０℃まで冷却しビス（チオフェ
ニルチオベンゼン）を得た。次いで３５％濃塩酸７５ｇ
（０．７２モル）と亜鉛末２３．５ｇ（０．３６モル）
を加え、６０℃で１時間撹拌を続けた。その後反応液を
濾過し、有機層を分液した後濃縮し、１５０〜１５２℃
（２ｍｍＨｇ）で減圧蒸留し、４−フェニルチオベンゼ
ンチオール３４．１ｇを得た。収率７８．０％。結果を
まとめて表１に示す。
【００１７】実施例２ 表１に示した量のジフェニルモノスルフィド、一塩化硫
黄、触媒及び溶媒を用いて所定の温度で反応を行った。
次いで溶媒を留去し、表１に示した溶媒に置換した後、
表１に示した量の亜鉛末と濃塩酸を用いて実施例１と同
じように還元を行い、４−フェニルチオベンゼンチオー
ルを得た。結果をまとめて表１に示す。
黄、触媒及び溶媒を用いて所定の温度で反応を行った。
次いで溶媒を留去し、表１に示した溶媒に置換した後、
表１に示した量の亜鉛末と濃塩酸を用いて実施例１と同
じように還元を行い、４−フェニルチオベンゼンチオー
ルを得た。結果をまとめて表１に示す。
【００１８】実施例３〜１２ 表１に示した量のジフェニルモノスルフィド、一塩化硫
黄、触媒及び溶媒を用いて所定の温度で反応を行い、引
続きまたは表１に示した溶媒に溶媒置換をした後、亜鉛
末と濃塩酸を用いて実施例１または実施例２と同じよう
に還元を行い、４−フェニルチオベンゼンチオールを得
た。結果をまとめて表１に示す。
黄、触媒及び溶媒を用いて所定の温度で反応を行い、引
続きまたは表１に示した溶媒に溶媒置換をした後、亜鉛
末と濃塩酸を用いて実施例１または実施例２と同じよう
に還元を行い、４−フェニルチオベンゼンチオールを得
た。結果をまとめて表１に示す。
【００１９】
【表１】
【表２】
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、溶媒中、触媒存在下ジ
フェニルモノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、次い
で得られた反応生成物を還元するという極めて簡単な操
作により、４−フェニルチオベンゼンチオールを簡易に
かつ高収率で工業的に有利に製造することができる。
フェニルモノスルフィドと一塩化硫黄を反応させ、次い
で得られた反応生成物を還元するという極めて簡単な操
作により、４−フェニルチオベンゼンチオールを簡易に
かつ高収率で工業的に有利に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 27/06 27/10 27/125 27/128 27/138 Ｃ０７Ｃ 319/20 9049−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 佐藤 誠 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社第１研究所内 (72)発明者 木村 聡 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社第１研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 ジフェニルモノスルフィドを溶媒中、触
媒の存在下で一塩化硫黄と反応させ、式（２） 【化１】 で表されるビス（チオフェニルチオベンゼン）を得、次
いで該ビス（チオフェニルチオベンゼン）を還元するこ
とを特徴とする式（１） 【化２】 で表される４−フェニルチオベンゼンチオールの製造方
法。 - 【請求項２】 反応溶媒がモノクロロベンゼン、酢酸エ
チル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフランからなる群から選ばれた少なくとも１種で
ある請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 触媒がルイス酸である請求項１記載の製
造方法。 - 【請求項４】 ルイス酸が塩化亜鉛、四塩化チタン、塩
化アルミニウム、塩化第二鉄、塩化ビスマス、四塩化ジ
ルコニウムからなる群から選ばれた少なくとも１種であ
る請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 触媒が亜鉛、チタン、アルミニウム、鉄
からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属粉末ある
いは金属粒である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項６】 触媒がヨウ素である請求項１記載の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3086164A JPH0578308A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | ４−フエニルチオベンゼンチオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3086164A JPH0578308A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | ４−フエニルチオベンゼンチオールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0578308A true JPH0578308A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=13879112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3086164A Pending JPH0578308A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | ４−フエニルチオベンゼンチオールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0578308A (ja) |
Cited By (3)
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