JPH05504227A - 電気炉 - Google Patents

電気炉

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JPH05504227A
JPH05504227A JP3503298A JP50329891A JPH05504227A JP H05504227 A JPH05504227 A JP H05504227A JP 3503298 A JP3503298 A JP 3503298A JP 50329891 A JP50329891 A JP 50329891A JP H05504227 A JPH05504227 A JP H05504227A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
高温拡散炉 発明の分野 本発明は、半導体産業で例えばウェハに適当を材料を注入することができるよう に半導体のウェハを加熱するのに用いるような高温拡散炉に関する。 発明の背景 高温拡散炉は、半導体産業で良く知られている。高温拡散炉での熱処理は、シリ コンウェハの製造工程の一部であり、これによって、例えば、ボロンのようなド ーピング元素を半導体材料の分子組織の中に導入することができる。炉の加熱サ イクルは、時間と温度に関して正確に制御しなければならない。拡散炉を、繰り 返し行われる加熱サイクルと冷却サイクルに耐えるほど丈夫にしなければならな いとの要求もある。更に、製造工程の目的のため、拡散炉は所望の温度に素早く 到達し、所定時間この温度を維持し、次いで所望のレベルまで温度を素早く下げ ることか重要である。 炉の設計 前記の要求の全ては、拡散炉の設計が、(1)拡散炉の質量を減じ、(2)最高 所望温度が達成できるように、また、炉の質量が能率的な運転に不当に影響を及 ぼさないように加熱エレメントをできるだけ多く露出させることの目標を有する ことを指図する。更に、拡散炉の質量が他の環境を絶縁するのに十分であること が重要である。加えて、加熱エレメントが後述するように伸びないように、且つ 、加熱エレメントが動作しなくなり費用のかかる交換や半導体の損傷を生じさせ ないように、加熱エレメントは適切に位置決めされ、かつ、拘束されるべきであ る。 実際の実施においては、半導体産業で用いられる拡散炉は、形状が実質的に円筒 形である。全ての拡散炉は、シリコンウェハを処理する処理チューブを備えてい る。処理チューブは、石英、ポリシリコン、炭化ケイ素又はセラミックで製造さ れている。処理チューブ21は、第1図に示す拡散炉に挿入される。 熱処理すべきシリコンウェハは、石英、ポリシリコン、炭化ケイ素又はセラミッ クで製造されたボートに取付けられ、手動又は自動で処理チューブに装填される 。 既存の拡散炉20は、通常、ステンレス鋼又はアルミニウムからなる金属製外側 ハウジング22と、セラミック繊維のようなインシュレーション材料の内層24 とを含む。いくつかの螺旋状の加熱エレメント26.28.30を互いに固着し て1つの連続的な加熱エレメントを形成し、その中央の加熱エレメント28を最 適な温度で作動させ、端部の加熱エレメント26.30を炉の端部からの損失に 打ち勝ち、且つ、炉に導入されるガスをも予熱するのに十分な温度で作動させる 。加熱エレメントは、通常、クロム−アルミニウムー鉄の合金で作られた、螺旋 状コイルの抵抗線である。このワイヤは、高温で加熱エレメントの寿命を長くす るため太い(直径0.28インチ乃至0.375インチ(約0.734センチ乃 至0.952センチ))。 この加熱エレメント合金の最高許容運転温度は、1400℃である。加熱エレメ ントと処理チューブの内部との間に温度差が生じるので、拡散炉は1300°C のチャンバの最高運転処理室温度で運転される。 加熱エレメントスペーサ 第2図、第3図及び第4図に示すように、スペーサ32.34のようなセラミッ クスペーサが、螺旋状の加熱エレメントの個々のコイル、即ち巻線又はループを 分離し、適所に保持するのに用いられる。各コイル即ち巻線の間の正確な分離の 維持は、中央帯域の全長に沿ってプラスマイナス015℃以内の最大温度差を通 常必要とする拡散炉の運転にとって重大である。巻き線間の電気的短絡や、均一 な加熱分布の妨げが、巻き線即ちループ間の間隙が変化すると、生じることがあ る。 第2図に示すように、第1の形式のスペーサ32が、櫛形スペーサとして知られ ている。この櫛形スペーサ32は、複数の窪み38を構成し、窪みの各々が螺旋 状加熱エレメントの巻き線即ち個々のコイルを受け入れられる。複数のスペーサ 32が、螺旋状加熱エレメントの全長を支持するために、拡散炉20の長さに沿 って互いに接合されている。更に、第5図でわかるように、セラミックスペーサ 32は、コイルを円周方向に支持するために、拡散炉20の内径のまわりに円周 方向に位置決めされている。 第3図は、螺旋状加熱エレメント用に使用される個別形式のスペーサ34を示す 。第4図でわかるように、螺旋状加熱エレメントを適所に保持するために、複数 のスペーサ34が一緒に保持されているときには、各々の個々スペーサ34は第 1及び第2のワイヤ保持窪み40.42を構成する。これらの窪みの各々は、加 熱エレメントのワイヤのループを保持するためのキャビティの半分を構成する。 か(して、第4図でわかるように、ループ44は、2つの隣接する個々のスペー サ34のワイヤ保持用窪み40とワイヤ保持用窪み42との間で保持される。こ れらのスペーサ34は互いに当接する。 一般的に、絶縁材24は、50%のアルミニウムと50%のシリカからなるセラ ミック繊維の絶縁材料で形成されている。巻き線がスペーサの中に位置決めした 後、この絶縁材料を加熱エレメントの外側に付ける。絶縁材は、加熱エレメント の周りに包まれた湿式か乾式のいずれかのブラケットとして付けられるか、又は 、エレメントの上に真空形成される。絶縁材が乾いた後、絶縁材はスペーサ、そ してスペーサと組み合わせて螺旋状加熱エレメントの各巻き線即ちコイルを適切 に整列した状態に保つ。 拡散炉が使用されて、約1000℃の最低温度で8乃至10時間の運転後に、加 熱エレメントの表面上に酸化アルミニウムのコーティングが形成されることが知 られている。酸化アルミニウム層即ちコーティングは、高温下での加熱エレメン トの熱的伸びを遅らせ、汚染物が加熱エレメントの表面にたまることを防ぎ、加 熱エレメントを過度の酸化から保護することに有益である。 第1図でわかるように、炉20の両端には、前室46.48がある。炉の両端に は、前室46.48がある。前室46.48は、処理チューブ21に合うように 寸法法めされたエンドブロック60.62を受けるように深く座ぐられている。 処理チューブ21は、エンドブロック60.62の間で吊り下げられている。シ リコンウェハ56を入れたボート54は、処理のために処理チューブ21に装填 される。ボート54を、手動又は自動で処理チューブ21へ滑り込ませても良い し、或いは、処理チューブ内に炭化珪素、又は、セラミックと石英で構成された 片持ち梁状の支持アーム59で懸架してもよい。 上述したように、一般的に炉の運転温度は、1000℃より高い。炉は、ボート が炉の処理チューブに装填する時の約800℃の温度とフル運転中の1000℃ より高い温度との間で循環する。炉の長さに渡る正確な温度制御が重要である。 更に、上述したように、炉が運転温度まで素早く上昇し、運転後素早く冷えるこ とが肝要である。 先行技術の炉の故障は、炉力珈熱エレメントの伸び即ち拡張を制御する能力をも っていないこと、セラミック繊維の絶縁材の故障を防止する能力をもっていない こと、スペーサカ珈熱エレメントの個々のコイルの間隔を適切に維持する能力を もっていないこと、そして、これらの発生の組合せでコイルを垂るませることに よる。コイルの垂れによって、個々のコイルが互いに接触して電気的短絡を起し 、或いは、処理チューブに接触し、チューブが導電性材料でできているときは電 気的短絡を起こさせ、チューブが石英又はセラミックでできているときはこのチ ューブを破損させる。 加熱エレメントの伸び 加熱エレメント26.28.30の伸びに関しては、エレメントの外側に形成さ れた酸化アルミニウム層がエレメントの合金そのものより、低い膨張係数を有す ることを理解しなければならない。エレメントの温度が下がるにつれて、酸化ア ルミニウム層とエレメントの両者はもちろん異なった割合で収縮する。アルミニ ウム層の低い膨張係数により、引張応力を加熱エレメントに生じさせ、圧縮応力 を酸化アルミニウム層に生じさせる。同様に、温度が上昇した時には、酸化層と エレメントの両者は再び異なった割合で膨張する。酸化アルミニウム層の低L) 膨張係数は、圧縮応力を加熱エレメントに生じさせ、引張応力を酸化アルミニウ ムに生じさせる。 これらの応力は、2つの影響を引き起こす。第1には、酸化アルミニウム層(′ !、引張応力に対する抵抗が低いことが理解されるべきである。かくして、温度 カベ上昇すると、酸化アルミニウム層はクラ・ツクを生じる。酸化アルミニウム 層のクラックは、酸化アルミニウム層がワイヤの伸びを遅らせる能力を減する。 第2(こ1′!、エレメントが1000℃を越える度に、新しい酸化物が形成さ れることである。新しい酸化物は、当初の酸化アルミニウム層のクラックを満た し、こ相こよって、初期の成長を加熱エレメントに閉じ込む。酸化アルミニウム のひび割れ、加熱エレメントの伸び、これに続くクラックの満しの現象が、温度 循環毎に繰り返される。 極度の且つ素早い温度変化が、酸化アルミニウム層の割れ目の数を増加させる。 加熱エレメントの運転■が高くなるほど、エレメントの熱膨張も大きくなり、更 に、酸化アルミニウム層のひび割れも増加する。酸化層の割れ目の数カベ増加す るにつれて、加熱エレメントの伸び力伽速される。このことかられかるよう(こ 、加熱エレメントの伸びが、このような拡散炉、特に加熱エレメントの垂和二よ り高温の大直径の炉における、加熱エレメントの早期の故障の主な原因となる。 峻繰材 更に、絶縁材料の故障が、拡散炉20の故障を加速する。スペーサを適所(こ保 持する絶縁材料に使用されるセラミック繊維は、炉の故障、特に加熱エレメント の故障の一因となる特性も有している。第1は、絶縁材が高温で縮むことである 。 収縮は、1000℃で約0.4%であるが、1300℃で3.0%を越えること もある。第2に、絶縁材は高温で失透する。失透は、セラミック絶縁材の繊維が 切れ、組織カベ結晶になることを意味する。第3に、繊維が約500℃で弾力性 を失う。弾力性(ま、圧縮された後、繊維の弾発する能力である。弾力性は、約 480℃の温度で80%である。弾力性の損失は、480℃より高い温度で加速 され、900℃で弾力性は、僅か約50%である。 加熱エレメントの故障 炉の温度が上昇するにつれて、加熱エレメントの伸び、そして絶縁材の失透率、 収縮率、弾力性の損失率もまた増大する。コイルが伸びるに従って、コイルは絶 縁材と擦れてセラミック繊維を破壊し粉にする。絶縁材の粉末化は、加熱エレメ ントの伸びを遅らせる絶縁材の能力を破壊し、更に、粉末の物質で炉を汚染する ことにもなる。その結果、コイルの伸びと絶縁材の故障の組合せにより、加熱エ レメントの個々のコイルを適所に支持するセラミックスペーサをゆるませる。絶 縁材の劣化及び絶縁材がスペーサの位置を維持する能力の悪化によって、個々の スペーサは、個々のコイルの間から落ちることになり、加熱エレメントを更に伸 長させ、歪ませ、収縮させる。加熱エレメントそれ自身の重量により、エレメン ト及びスペーサを垂れさせ、前記したように機能を引き起こす。 第2図及び第3図の先行技術のスペーサによって示すような既存のスペーサの設 計は、加熱エレメントの寿命を延ばす上では十分効果的ではない。独立形式のス ペーサ(第3図)は、コイルを窪みに保つ上において、櫛形スペーサ(第4図) より効果的である。しかしながら、一度絶縁材の一体性が傷つけられると、これ らの個々のスペーサは隣接したスペーサに関し整列しなくなる。 より多(のスペーサの使用は、コイルを物理的に保持する上において効果的であ る。しかしながら、付加的なスペーサの使用は、加熱エレメントの周りの質量を 付加する。加熱エレメントの周囲の質量がより大きくなると、加熱エレメントは 、半導体製造に必要とされる加熱サイクルと冷却サイクルに応答しにくくなる。 いくつかの先行技術の装置は、スペーサに関してコイルをセメントで固めること を企てた。しかしながら、これは加熱エレメントと、シリコンウェハを位置決す るチャンバの部分との間の温度差を増大させてしまった。この温度差は、炉が製 造運転に適当な温度レベルに到達できないことを意味する。 発明の要約 本発明は、先行技術の欠点を解消することに関するものである。本発明の目的は 、加熱エレメントの伸びを受容レベルまで減少させるコイル状加熱エレメントの 、剛性支持システムを提供することである。この支持システムは、拡散炉の高温 環境に効果的である。 従って、本発明は、細長いワイヤとして形成された電気加熱エレメントを有する 電気炉の加熱エレメント保持スペーサを含み、前記スペーサは、炉に対する細長 いワイヤの位置を保持するために、細長いワイヤの周りにヨークを作る第1の機 構と、前記スペーサともう一つのスペーサとをかみ合わせる第2の機構とを有す る。 第1のヨーク機構は、第1の方向に延びる間隔をへだてた第1及び第2の突起部 を含み、第2のかみ合い機構は、他の方向に延びる間隔をへだてた第3及び第4 の突起部を含む。第■及び第2の突起部の間の間隔と第3及び第4の突起部の間 の間隔は、スペーサのヨーク機構の第1及び第2の突起部がもう一つのスペーサ の第2のかみ合い機構の第3及び第4の突起部の間に嵌まることができるように 選択される。か(して、一方のスペーサは次のスペーサにかみ合わされ、効果的 にワイヤを位置決めし、ワイヤの垂れ及びその他の動きを防止するために、ヨー クが加熱エレメントの各々のワイヤの周りに設けられる。 本発明は、更に、電気加熱エレメント及び加熱エレメントを覆う絶縁材を有する 電気炉を含む。絶縁材は、少なくとも75%のアルミナと25%のシリカからな り、加熱エレメントに隣接して配置される第1の層を含む。約50%のアルミナ と50%のシリカを含むもう一つの層が、第1の層の上に配置される。 好ましい実施例では、第1の層が少なくとも95%のアルミナと5%のシリカか らなり、95%のアルミナと5%のシリカからなる第2の層が第1の層ともう一 つの層の間に位置決めされている。 かくして、本発明の目的は、寿命が伸び数多くの高温サイクルで運転する能力を 有する炉を提供することである。 本発明の他の目的は、炉内か適切な温度に達するような低い質量の炉を提供する ことである。 本発明の更なる目的は、加熱エレメントの伸びを適切に抑制することができる炉 を提供することである。 本発明の更に他の目的は、劣化することなく高温サイクルに耐えられ、加熱エレ メントと炉の寿命を延ばすことができる絶縁材を提供することである。 図面の簡単な説明 第1図は先行技術の炉の側方の断面図を示す。 第2図は先行技術の櫛形スペーサの側面図及び端面図を示す。 第3図は先行技術の独立形式のスペーサの側面図及び端面図を示す。 第4図は第3図の独立形式のスペーサを使用する先行技術の炉の第1図に示され たのと同様の部分的な断面図を示す。 第5図は第4図の5−5線における断面図を示す。 第6図は本発明のスペーサの1実施例の側面図を示す。 第7図は第6図の実施例の端面図を示す。 第8図は第6図及び第7図に従った一緒に連接されたスペーサを示す。 第9図、第10図、第11図は一緒に連接された本発明の他の実施例のスペーサ を示す。 第12図は本発明の炉の側方断面図を示す。 第13図は13−13線における炉の断面図を示す。 第14図は絶縁材に埋め込まれた加熱エレメントのワイヤをいれた本発明のいく つかのスペーサの拡大図を示す。 好ましい態様間の詳細な説明 本発明の炉70を、第12図及び第13図に概略的に示す。炉70は、絶縁材7 4で囲まれた加熱エレメント72を含み、絶縁材はハウジング76によって囲ま れている。第12図でわかるように、炉は前室78で終わる。加熱エレメント7 2に適当な電流を流すために適当なリード線を炉に接続することができるよう、 電気コネクタ80がハウジング76を貫通して設けられている。半導体産業で拡 散炉として使用されるこのタイプの炉は、70−130アンペアの電流範囲で作 動する低電圧高アンペアの炉であることが理解されるべきである。 第13図でわかるように、スペーサ84の10列82が、螺旋状加熱エレメント 72のまわりに円周方向に実質的に等間隔をなして設けられている。後でより詳 しく述べるスペーサは、加熱エレメント72の個々のループ即ちコイル102の 位置を維持するのに用いられる。炉の直径が大きくなればなるほど、スペーサ8 4のより多くの列82が加熱エレメント72の位置を維持するのに必要とされる 。 かくして、3インチ(約7.62cm)と4インチ(約10.16cm )の間 の内径を有する加熱エレメントには4列のスペーサが用いられ、5インチ(約1 2.7cm)と8インチ(約20.32cm )の間の内径を有する加熱エレメ ントには6列のスペーサが用いられ、8インチ(約20.32cm )と10イ ンチ(約25.4cm)の間の内径を有する加熱エレメントには8列のスペーサ が用いられ、10インチ(約25.4cm)と12.5インチ(約31.75c m )の間の内径を有する加熱エレメントには10列のスペーサが用いられ、1 2.5インチ(約31.75cm)と15インチ(約38.1cm)の間の内径 を有する加熱エレメントには12列のスペーサが用いられ、15インチ(約38 .1cII+)より大きい内径を有する加熱エレメントには14列のスペーサが 用いられるのが一般的である。 スペーサ84の特定の設計を、第6図、第7図、第14図でより完全に見ること ができる。第6図では、スペーサ84は、細長い中央ボディ86を含む。第
【の ヨーク機構88が、中央ボディ86から第1の方向に突出している。第2のかみ 合い機構90が、中央ボディ86から第2の方向に延びている。好ましい実施例 では、ヨーク機構88は、実質的に平行であり、第1の方向に延びる第1及び第 2の突起lR92,94を含む。第2のかみ合い機構90は、実質的に平行であ り、第1及び第2の突起部92.94から180°反対の方向に延びる第3及び 第4の突起部96.98を含む。好ましい実施例では、第4及び第2の突起部9 2.94並びに第3及び第4の突起部96.98は全て互いに平行である。ヨー ク機構88の第1及び第2の突起部92と94の間には、加熱エレメント72の 個々のコイル即ちループ102を受け入れることができるU字形状の窪み100 が構成されている。 第1及び第2の突起部92.94は外側106.108を構成し、第3及び第4 の突起部96.98は内側110、+12を構成する。第8図でわかるように、 スペーサ84のような1つのスペーサのヨーク機構88が隣接して位置したスペ ーサ+14のかみ合い機構90に嵌り込むことができるように、外側106.1 08間の間隔は、内側110.112間の間隔より小さい。第8図に示す形状で は、ヨーク機構88とかみ合い機構90が協働して、コイル即ちループ102を 適所に保持する。更に、加熱中でも、万一炉内で膨張が起きれば、セラミックス ペーサ84.114は互に滑ることができ、依然として、かみ合い関係を維持す る。かくして、冷却が起こったときには、ループ102は有利な位置に、依然と して適切に維持される。 スペーサ114に隣接してスペーサ84の位置を一層層実にするために、高温糸 を、スペーサを互いに縛り付は若しくは縫い付けるのに用いるのが良い。この糸 115を、セラミックスペーサ84.114に設けられたボート118.120 に通す。好ましい実施例では、この糸は、rNEX置」の商標名で販売されてい るスリーエム社の製品を含むのが良い。 本発明のスペーサの他の実施例を、第9図、第10図、第11図に示す。第9図 では、ヨーク端部】26の第1及び第2の突起部122.124の外壁は、内方 に傾けられ、かみ合い機構+32の第3及び第4の突起部128.130は、対 応して内向きに傾斜面が設けである。このような構成は、一方のスペーサを他方 のスペーサに挿入するのを容易にする。 第10図では、ヨーク機構の第1及び第2の突起部134.136の外側は、外 方に傾斜し、かみ合い機構の第3及び第4の突起部140、+42の内側は、外 方に傾斜している。このような構成は、隣接したスペーサをひとたび第10図で 示すようなかみ合い方法で位置決めすれば、膨張力がセラミックスペーサを破壊 するほど大きくない限り、加熱エレメントの膨張がこれらのスペーサを引き離な すことがない、という明確な利点を有する。このような構成は、スペーサを互い に横方向にスライドさせて組合せなければならないという事実により、第8図及 び第9図に示す構成より幾分組立てか難しい。 第11図は、一方のスペーサのヨーク機構を隣接したスペーサのかみ合い機構に 固着するため、かみ合い用隆起部146が窪み148に嵌り込むスペーサの更な る実施例を示す。このような構成の組立ては、第1O図の実施例が必要とする組 立て構成と同様である。隆起部146が窪み148の中を移動でき、これにより 、隣接したスペーサを互に移動させるので、この実施例では、膨張が許容される 。 第12図、第13図、第14図に目を向けると、本発明の絶縁材が示されている 。好ましい実施例では、加熱エレメントを形成した後、絶縁材の第1の薄い層を 加熱エレメント72の上に設ける。この絶縁材は、少なくとも75%のアルミナ と25%のシリカとからなる。好ましい実施例では、最適な組合せは少なくとも 95%のアルミナと5%のシリカで、厚さ4分の3インチ(約1.9cII+) である。この薄い絶縁材層は、産業界で知られている湿式又乾式1程を含む数多 くの方法で形成できる。湿式1程では、材料のブランケットを形成し、次いで、 ブランケットのストリップをスペーサの間で加熱エレメントに沿って長さ方向に 敷設する。次いで、第2の層を用いて、第1の層及びスペーサを覆う。 変形例として、絶縁材層を加熱エレメントの上に真空形成してもよい。第12図 、第13図、第14図でわかるように、第1の層150が、スペーサ103.1 05を部分的に覆い、加熱室から離れる方向を向いたコイル102の外周の一部 を部分的に包む。絶縁材を湿ったブランケットとして形成する場合には、ローラ 式成形器具を用いてスペーサと加熱エレメント72のループとの間の絶縁材を加 圧する。 第13図でわかるように、絶縁材の端部は、コイル151の端部のまわりに包ま れている。 又、好ましい実施例では、絶縁材152の第2の薄い層が、絶縁材の第1の層の 上に長手方向に重ね合わせて付けられている。好ましい実施例では、第2の絶縁 材層は、少なくとも75%のアルミナと25%のシリカである。第2の絶縁材層 は少な(とも95%のアルミナと5%のシリカであることが、好ましく且つ最適 である。この第2の層を上述したのと同様の方法で付けた後、第3及びこれに続 く層を、第1及び第2の層の上に付ける。これら後に続く層は、50%のアルミ ナと50%のシリカを含む従来型の絶縁材料で構成されている。これを成し遂げ たら、好ましい実施例ではステンレス鋼でできたハウジング76を、1平方フイ ート当たり約10ポンド(約4.53Kg)の密度から約14乃至18ボンド( 約6.34Kg乃至約8.15Kg)の密度にまで絶縁材を圧縮するように、絶 縁材154の外層の上に付ける。この圧縮は、加熱エレメント、スペーサ、絶縁 材を一緒に剛性なユニットとして保持する。絶縁材を湿ったブラケットとして付 けた場合には、絶縁材を完全に乾燥するために、加熱エレメントを付勢する。 上述したような高アルミナ絶縁材は、1200℃未満では収縮を示さず、130 0℃においてほんの約1%の収縮を示すに過ぎない。この高アルミナ配合は、又 、930℃で80%、1260℃で50%の弾力性を保持する。この95%のア ルミナと5%のシリカのこのアルミナ/シリカ材料は、1650℃までの温度ま で有効であることが理解されるべきである。これに対し、50%のアルミナと5 0%のシリカからなる材料は、1300℃まで有効であるに過ぎない。 しかしながら、高アルミナ繊維の欠点は、現在使用されている50%のアルミナ と50%のシリカの配合よりも約26倍目下コスト高であることである。その結 果、高アルミナ絶縁材の層は、収縮を許容レベルまで最小にするに十分なだけの 厚さで使用される。 好ましい実施例では、内径10インチ(約25.4cm)の加熱エレメントを有 する炉70では、絶縁材の第1及び第2の層がそれぞれ厚さ4分の3インチ(約 1.905cm)、これに続く2層の絶縁材層が合計で厚さ3インチ(約7.6 2cm)であることが好ましい。高アルミナ繊維材料が商業的に入手できること が理解されるべきである。 このアルミナ材料に、脱イオン水及び通常はコロイドシリカからなるバインダが 加えられる。原料のセラミック繊維絶縁材を保持するのに必要をされる量だけの バインダを加える。このスラリから、湿ったブラケットを形成し、所望の形状に 切り、次いで、加熱エレメント72に付ける。アルミナ/シリカの通常のスラリ を、90%の脱イオン水と10%のバインダと混合し、100ガロン(約378 .リットル)の流体となることが理解されるべきである。これに、4ボンド(約 1812g)の繊維を加え、適当なスラリを作る。 先行技術の装置に関するのと同様に、高アルミナ繊維の第1の絶縁材層を強化す るためにジルコン層を付加することが強(求められている。ジルコンは、酸化ジ ルコニウムのスラリと水とバインダとからなる。ジルコンは、加熱エレメントが 膨張収縮したときに磨耗作用に打ち勝つことができる大変緻密で耐火性のある材 料である。絶縁材150の第1の層を加熱エレメント72に付ける前に、ジルコ ン層+58をこの第1の層に塗布する。一般に、ジルコン層158は、厚さ約3 2分の1から16分の1インチ(約0.793o+−1,588on)である。 ジルコン層は大変薄いので、加熱エレメントの質量を顕著に増やすことも加熱エ レメントの加熱特性に妨げることもない。ジルコン層158は、加熱エレメント 72を完全に覆い、加熱エレメント72の膨張・収縮による繊維の失透又は磨耗 作用から生じる絶縁材の粉末を収容するように作用する。この粉は、ジルコン層 158と絶縁材154の第3及びこれに続く層との間に捕らえられる。絶縁材を 包むジルコン層158が無いと、絶縁材の粉は落下し、加熱チャンバ73を汚染 する。 先行技術の炉に関するのと同様に、新しく形成された炉は、湿った絶縁材を乾燥 させるために加熱されることが理解されるべきである。加熱されると、初め絶縁 材を保持していたバインダが加熱エレメント72に隣接する絶縁材の表面に移動 し、第1の層の表面により大きな剛性を与え、一方、ジルコン層15gを付加的 に硬化させる。 本発明では、加熱エレメントの成長を阻止するとともに、加熱エレメントが加熱 チャンバを加熱する熱を放出する上で大変効率的であるように、加熱エレメント を露出させるための剛性構造を提供することがわかる。 産業上の適応性 本発明の動作は、前記において概説されている。加熱エレメントのコイルの各々 の周りにヨークを設けた組合いスペーサを使用し、アルミナを多く含む絶縁材料 の組合せによって、加熱エレメントの成長に対する抑止によって寿命が延びた炉 が提供されていることがわかる。この構成では、選択された材料それ自身の使用 のため、又、加熱エレメントがより多く露出し、炉の質量が最小に維持されてい るので、加熱エレメントと加熱チャンバとの温度差が先行技術の炉と同じ程大き くないという事実のため、より高い運転温度に到達可能である。更に、各々の負 荷サイクルの時間及び温度がよりこの設計により正確に維持できる。 本発明の他の目的及び利点か図面及び請求の範囲の検討から得られることが理解 されるべきである。 本発明の精神と範囲に入る本発明の他の実施例を引き出すことができる。 FIG、−I FIG、−2 FIG、−3 5″1 (PRゴロRART) CPRI口RAF!T) FIG、−5 /1”6 FIG、−8 FIG、−9 FIG、−11 FIG、−12 FIG、−13 要約書 加熱エレメント(72)の個々のコイル(+02)の周りにヨーク(88)を作 る保持スペーサ(84)により炉の運転中に伸びが抑止される加熱エレメント( 72)と、互いにかみ合わされたスペーサ(84)とを含む炉(70)である。 高アルミナ繊維の絶縁材(180)が加熱ニレメンh(72)を絶縁するために 取り付けられている。この高アルミナ絶縁材(180)は、収縮、失透に関する 特性が高められている。 国際調査報告 1+llc+l1leNIlムτ1011c1電−”pcyコ’、/L’S9) 107577

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.細長いワイヤとして形成された電気加熱エレメントを有する電気炉用加熱エ レメント保持スペーサであって、 炉に対する細長いワイヤの位置を保持するために細長いワイヤの周りにヨークを 作るための第1の手段と、 前記スペーサをもう一つの前記スペーサとかみ合わせるための第2の手段とを有 することを特徴とする前記スペーサ。
  2. 2.第1のヨーク手段が炉に対する細長いワイヤの位置を維持するために第2の かみ合い手段と付加的に協働するためのものであることを特徴とする請求の範囲 1に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  3. 3.前記第1のヨーク手段が第1の方向に延びる間隔をへだてた第1及び第2の 突起部を含み、 前記第2のかみ合い手段か第2の方向に延びる間隔をへだてた第3及び第4の突 起部を含むことを特徴とする請求の範囲1に記載の加熱エレメント保持スペーサ 。
  4. 4.前記間隔をへだてた第1及び第2の突起部と前記間隔をへだてた第3及び第 4の突起部とが実質的に平行であることを特徴とする請求の範囲3に記載の加熱 エレメント保持スペーサ。
  5. 5.前記第1の方向が前記第2の方向と反対であることを特徴とする請求の範囲 3に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  6. 6.スペーサの第1のヨーク手段の第1及び第2の突起部が前記スペーサの第2 のかみ合い手段の第3及び第4の突起部の間に嵌まることができるように、第1 の突起部と第2の突起部との間隔と第3の突起部と第4の突起部との間隔とが選 択されていることを特徴とする請求の範囲3に記載の加熱エレメント保持スペー サ。
  7. 7.前記スペーサかボディを有し、 前記第1のヨーク手段がワイヤを受け入れるようにされたキャビティをその間に 構成する第1及び第2の突起部を含み、前記第1及び第2の突起部が前記キャビ ティの外側にあり、且つ、前記ボディに関し一定の配置方向を有する外側を有し 、前記第3及び第4の突起部がその間にもう一つの前記スペーサの第1及び第2 の突起部を受け入れるためのもう一つのキャビティを構成し、前記第3及び第4 の突起部が前記もう一つのキャビティを構成し且つ前記もう一つのスペーサとか み合うように前記ボディに関しもう一つの一定の配置方向を有する内側を有し、 前記第1の突起部の外側が第3の突起部の内側と実質的に平行であり、第2に突 起部の外側が第4の突起部の内側と実質的に平行であることを特徴とする請求の 範囲1に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  8. 8.前記第1のヨーク手段がワイヤを受け入れるためのキャビティを間に構成す る第1及び第2の突起部を含み、 前記第2のかみ合い手段がもう一つのスペーサの第1及び第2の突起部を受け入 れるためのもう一つのキャビティを間に形成する第3及び第4の突起部を含むこ とを特徴とする請求の範囲1に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  9. 9.複数のスペーサが一緒に固着されるようにするための手段を含むことを特徴 とする請求の範囲1に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  10. 10.ボアと、 前記ボアと複数の前記スペーサのボアとを相互に連結するための手段とを含むこ とを特徴とする請求の範囲1に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  11. 11.電気加熱エレメントと前記加熱エレメントを覆う絶縁材とを有する電気炉 であって、 加熱エレメントに隣接して配置された少なくとも75%のアルミナと25%のシ リカからなる第1の層を少なくとも有し、更に、第1の層に隣接して配置された アルミナ約50%とシリカ50%のもう一つの層を少なくとも有する絶縁材を備 えたことを特徴とする電気炉。
  12. 12.前記第1の層が少なくとも95%のアルミナと5%のシリカからなること を特徴とする請求の範囲11に記載の電気炉。
  13. 13.前記第1の層がもう一つの層より薄いことを特徴とする請求の範囲11に 記載の電気炉のハウジング。
  14. 14.第1の層ともう一つの層の間に第2の層が位置決めされ、第2の層が少な くとも75%のアルミナと25%のシリカからなることを特徴とする請求の範囲 11に記載の電気炉。
  15. 15.第1の層及び第2の層がもう一つの層より薄いことを特徴とする請求の範 囲14に記載の電気炉。
  16. 16.加熱エレメントが予め選択された直径を有し、第1の層がワイヤの直径を 部分的に包むことを特徴とする請求の範囲11に記載の電気炉。
  17. 17.前記第1の層が少なくとも95%のアルミナと5%のシリカからなること を特徴とする請求の範囲11に記載の電気炉。
  18. 18.複数の個々のコイルに形成された細長いワイヤから成る加熱エレメントを 有する電気炉であって、前記電気炉が繰り返し使用されたときスペーサと絶縁手 段とが電気加熱エレメントの伸びを制限するように、前記ワイヤのコイルを間隔 をへだてて維持するための複数の加熱エレメント保持スペーサを備え、前記スペ ーサの各々が、 (a)各々のコイルのワイヤの周りにヨークを設ける第1の手段と(b)隣に隣 接するコイルに対してそして炉に対する各々のコイルの位置を維持するために前 記スペーサの1つを前記スペーサのもう一つにかみ合わせるための第2の手段と を含み、 更に、前記電気炉が、加熱エレメントを覆い、絶縁し、加熱エレメントの位置決 めを手伝うための絶縁手段を備え、 該絶縁手段が、 (a)加熱エレメントに隣接して配置された少なくとも75%のアルミナと25 %のシリカからなる第1の層を少なくとも有し、更に、(b)第1の層に隣接し て配置されたアルミナ約50%とシリカ50%のもう一つの層を少なくとも有し ていることを特徴とする電気炉。
  19. 19.第1の層と加熱エレメントの間に配置され、第1の層より薄いジルコンの 初期層と、 前記絶縁手段を包み且つ圧縮するための外部ハウジング手段とを含むことを特徴 とする請求の範囲18に記載の電気炉。
  20. 20.第1のヨーク手段か炉に対する細長いワイヤの位置を維持するために第2 のかみ合い手段と付加的に協働するためのものであることを特徴とする請求の範 囲18に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  21. 21.第1のヨーク手段が第1の方向に延びる間隔をへだてた第1及び第2の突 起部を含み、 第2のかみ合い手段が第2の方向に延びる間隔をへだてた第3及び第4の突起部 を含むことを特徴とする請求の範囲18に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  22. 22.前記間隔をへだてた第1及び第2の突起部と前記間隔をへだてた第3及び 第4の突起部とが実質的に平行であることを特徴とする請求の範囲21に記載の 加熱エレメント保持スペーサ。
  23. 23.前記第1の方向が前記第2の方向と反対であることを特徴とする請求の範 囲21に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  24. 24.スペーサの第1のヨーク手段の第1及び第2の突起部が前記もう一つのス ペーサの第2のかみ合い手段の第3及び第4の突起部の間に嵌まることができる ように、第1の突起部と第2の突起部との間隔と、第3の突起部と第4の突起部 の間隔とが選択されていることを特徴とする請求の範囲21に記載の加熱エレメ ント保持スペーサ。
  25. 25.前記スペーサがボディを有し、 前記第1のヨーク手段がワイヤを受け入れるようにされたキャビティをその間に 構成する第1及び第2の突起部を含み、前記第1及び第2の突起部が前記キャビ ティの外側にあり、且つ、前記ボディに関し一定の配置方向を有する外側を有し 、前記第3及び第4の突起部がその間に前記もう一つのスペーサの第1及び第2 の突起部を受け入れるためのもう一つのキャビティを構成し、更に、前記第3及 び第4の突起部がもう一つのキャビティを構成し且つ前記もう一つのスペーサと かみ合うように前記ボディに関しもう一つの一定の配置方向を有し、前記第1の 突起部の外側が第3の突起部の内側と実質的に平行であり、第2に突起部の外側 が第4の突起部の内側と実質的に平行であることを特徴とする請求の範囲18に 記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  26. 26.前記第1のヨーク手段がワイヤを受け入れるためのキャビティを間に構成 する第1及び第2の突起部を含み、 前記第2のかみ合い手段がもう一つのスペーサの第1及び第2の突起部を受け入 れるためのもう一つのキャビティを間に形成する第3及び第4の突起部を含むこ とを特徴とする請求の範囲18に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  27. 27.複数のスペーサか一緒に固着されるようにするための手段を含むことを特 徴とする請求の範囲18に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  28. 28.ボアと、 前記ボアと複数の前記スペーサのボアとを相互に連結するための手段とを含むこ とを特徴とする請求の範囲18に記載の加熱エレメント保持スペーサ。
  29. 29.前記第1の層が少なくとも95%のアルミナと5%のシリカからなること を特徴とする請求の範囲18に記載の電気炉。
  30. 30.前記第1の層がもう一つの層より薄いことを特徴とする請求の範囲18に 記載の電気炉。
  31. 31.第1の層ともう一つの層の間に位置決めされ、少なくとも75%のアルミ ナと25%のシリカからなる第2の層を含むことを特徴とする請求の範囲18に 記載の電気炉。
  32. 32.第1及び第2の層がもう一つの層より薄いことを特徴とする請求の範囲3 1に記載の電気炉。
  33. 33.加熱エレメントが予め選択された直径を有し、第1の層がワイヤの直径を 部分的に包むことを特徴とする請求の範囲18に記載の電気炉。
  34. 34.前記第1の層が少なくとも95%のアルミナと5%のシリカからなること を特徴とする請求の範囲18に記載の電気炉。
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