JP4331768B2 - 熱処理炉及び縦型熱処理装置 - Google Patents
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Description
図1において、1は半導体製造装置の一つである縦型の熱処理装置であり、この熱処理装置1は、被処理体例えば半導体ウエハwを一度に多数枚収容して酸化、拡散、減圧CVD等の熱処理を施すことができる縦型の熱処理炉2を備えている。この熱処理炉2は、ウエハwを収容して熱処理するための処理容器(反応管ともいう)3と、該処理容器3の周囲を覆うように設けられウエハwを加熱する円筒状のヒータ(加熱装置)5とを備えている。
1 縦型熱処理装置
2 熱処理炉
3 処理容器
3a 炉口
16 断熱材
17 棚部
18 ヒータ線(発熱抵抗線)
18a スパイラル部(螺旋部)
20 ピン部材
20a U字部分
20b 脚部
40 強制空冷用空気吹出し孔
Claims (8)
- 被処理体を収容して熱処理するための処理容器と、該処理容器の周囲を覆うように設けられ被処理体を加熱する円筒状のヒータとを備えた熱処理炉において、上記ヒータは、円筒状の断熱材と、該断熱材の内周に軸方向に多段に形成された溝状の棚部と、各棚部に沿って配置された螺旋型の発熱抵抗線とを具備し、上記断熱材には上記発熱抵抗線を適宜間隔でヒータの径方向に移動可能に且つ棚部から脱落しないように保持するピン部材を配設したことを特徴とする熱処理炉。
- 上記ピン部材は、発熱抵抗線の外側ターン部分をU字部分で保持すべく平面U字状に形成され、その両脚部が断熱材を内側から外側に貫通し、断熱材の外面で折り曲げられていることを特徴とする請求項1記載の熱処理炉。
- 上記断熱材の棚部には、該棚部を内外に貫通する強制空冷用空気吹出し孔が形成されていることを特徴とする請求項1記載の熱処理炉。
- 上記発熱抵抗線は、上記棚部の先端部に螺旋部の中心が位置するように配置されていることを特徴とする請求項1記載の熱処理炉。
- 下部が炉口として開放され被処理体を収容して熱処理するための縦長の処理容器の周囲に上記被処理体を加熱する円筒状のヒータを設けてなる熱処理炉と、上記炉口を閉塞する蓋体と、該蓋体上に被処理体を多段に保持する保持具を載置し、該蓋体を昇降させて蓋体の開閉と上記処理容器内への保持具の搬入搬出を行う昇降機構と備えた縦型熱処理装置において、上記ヒータは、円筒状の断熱材と、該断熱材の内周に上下方向に多段に形成された溝状の棚部と、各棚部に沿って配置された螺旋型の発熱抵抗線とを具備し、上記断熱材には上記発熱抵抗線を適宜間隔でヒータの径方向に移動可能に且つ棚部から脱落しないように保持するピン部材を配設したことを特徴とする縦型熱処理装置。
- 上記ピン部材は、発熱抵抗線の外側ターン部分をU字部分で保持すべく平面U字状に形成され、その両脚部が断熱材を内側から外側に貫通し、断熱材の外面で折り曲げられていることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理装置。
- 上記断熱材の棚部には、該棚部を内外に貫通する強制空冷用空気吹出し孔が形成されていることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理装置。
- 上記発熱抵抗線は、上記棚部の先端部に螺旋部の中心が位置するように配置されていることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理装置。
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