JP2014082014A - ヒータ装置及び熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円筒状の断熱層50と、前記断熱層の内周側に螺旋状に複数回巻回して配置されたヒータエレメント52と、前記断熱層50の内周側に、前記断熱層50の軸方向に沿って延び、前記ヒータエレメント52を所定のピッチで保持する複数の保持部材と、前記断熱層上に設けられた突起であって、前記断熱層の周方向で隣り合う前記保持部材の間の、巻回されている前記ヒータエレメント52に対応する位置に設けられた突起と、を有するヒータ装置。
【選択図】図1
Description
前記断熱層の内周側に螺旋状に複数回巻回して配置されたヒータエレメントと、
前記断熱層の内周側に、前記断熱層の軸方向に沿って延び、前記ヒータエレメントを所定のピッチで保持する複数の保持部材と、
前記断熱層上に設けられた突起であって、前記断熱層の周方向で隣り合う前記保持部材の間の、巻回されている前記ヒータエレメントに対応する位置に設けられた突起と、
を有するヒータ装置。
まず、本実施形態のヒータ装置及び該ヒータ装置を備える熱処理装置に基本構成の一例を説明する。図1に、本実施形態のヒータ装置及び該ヒータ装置を備えた熱処理装置の一例の概略構成図を示す。なお、本明細書においては、一例として半導体装置を形成するための、ヒータ装置及び該ヒータ装置を有する縦型熱処理装置の例について説明する。しかしながら、本発明はこの点において限定されず、他の種々のタイプのヒータ装置及び該ヒータ装置を有する熱処理装置であっても良い。
図3に、従来のヒータ装置の問題点を説明するための、ヒータ装置の概略図を示す。図3(a)は、従来のヒータ装置の上面概略図であり、図3(b)は、従来のヒータ装置の径方向の断面概略図である。
ヒータエレメント同士の接触を防止することができるヒータ装置の一実施形態について、図を参照して説明する。
ヒータエレメント同士の接触を防止することができるヒータ装置の他の実施形態について、図を参照して説明する。
次に、本発明の第3の実施形態のヒータ装置について、図を参照して説明する。
第4の実施形態として、前述の第1の実施形態及び第2の実施形態のヒータ装置に組み合わせることが好ましい実施形態について、説明する。
4 処理容器
6 外筒
8 内筒
28 ウエハボート
48 ヒータ装置
50 断熱層
51 保護カバー
52 ヒータエレメント
54 保持部材
56 保持部
60 突起
62 接触防止部材
W 被処理体
Claims (10)
- 円筒状の断熱層と、
前記断熱層の内周側に螺旋状に複数回巻回して配置されたヒータエレメントと、
前記断熱層の内周側に、前記断熱層の軸方向に沿って延び、前記ヒータエレメントを所定のピッチで保持する複数の保持部材と、
前記断熱層上に設けられた突起であって、前記断熱層の周方向で隣り合う前記保持部材の間の、巻回されている前記ヒータエレメントに対応する位置に設けられた突起と、
を有するヒータ装置。 - 前記突起は、前記断熱層の軸方向に沿ってリブ状に形成される、
請求項1に記載のヒータ装置。 - 前記突起は、前記断熱層の軸方向に所定のピッチで形成される、
請求項1に記載のヒータ装置。 - 前記突起は、前記周方向で隣り合う前記保持部材の間の中央に形成される、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載のヒータ装置。 - 軸方向で隣り合う前記ヒータエレメントの間に設置された接触防止部材を更に有する、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載のヒータ装置。 - 前記接触防止部材は、前記断熱層に差し込まれた、前記断熱層の周方向及び径方向に延びる板材である、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のヒータ装置。 - 前記ヒータエレメントと対向する前記断熱層の内周面の形状が凹の弧状である、
請求項1乃至6のいずれか一項に記載のヒータ装置。 - 前記保持部は、前記ヒータエレメントの内側に位置する基部と、該基部から前記ヒータエレメントのピッチ間を通って、前記断熱層の径方向外方へと伸びて前記断熱層に差し込まれて形成される支持部とを有し、
前記基部の前記ヒータエレメント側の形状は、前記ヒータエレメント側が凹の弧状である、
請求項1乃至7のいずれか一項に記載のヒータ装置。 - 前記基部から前記断熱層までの距離から前記ヒータエレメントの半径を引いた距離が、当該ヒータ装置の使用温度での熱膨張量以上の距離を有する、請求項8に記載のヒータ装置。
- 被処理体を収納するための処理容器と、
前記処理容器の外周に、前記処理容器を囲むように配置された、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のヒータ装置と、
を有する、熱処理装置。
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