JP2015021598A - 断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置 - Google Patents

断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置 Download PDF

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【課題】良好な耐久性を備える断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置を提供する。【解決手段】断熱ユニット11は、シリカとアルミナとからなる断熱体21と、断熱体21の内壁面に設けられた発熱体22と、を備えている。断熱体21の内壁面には、その内壁の円周方向に複数の凹部21aが設けられている。発熱体22は、凹部21a内に、発熱体22の一部が断熱体21の内壁面から露出するように設置されている断熱体21はアルミナの含有量が65重量%以上となるように形成されている。【選択図】図3

Description

本発明は、断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置に関する。
従来、半導体装置を製造する際、半導体ウエハに成膜等の処理を施す熱処理装置が用いられている。このような熱処理装置では、半導体ウエハを熱処理するための反応管と、この反応管を覆うように設けられた断熱ユニットと、を備えている。断熱ユニットは、例えば、特許文献1に開示されているように、反応管を覆って設けられる断熱材と、断熱材の内周面に設けられた発熱体と、を備えている。
特開平10−233277号公報
しかし、発熱体を高温で長期間使用すると発熱体にたわみ等が発生し、発熱体と断熱材とが接触するおそれがある。このように発熱体と断熱材とが接触すると反応し、やがては発熱体が断線してしまうという問題がある。このため、熱処理装置を長期間使用した際の発熱体の断線を防ぎ、良好な耐久性を有する断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置が求められている。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、良好な耐久性を有する断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の第1の観点にかかる断熱ユニットは、
アルミナのみからなる、または、アルミナとシリカとからなる断熱体と、
前記断熱体の内壁面に設けられた発熱体と、を備え、
前記断熱体は前記アルミナの含有量が65重量%以上である、
ことを特徴とする。
前記断熱体の内壁面には、その内壁の円周方向に複数の凹部が設けられ、
前記発熱体は、前記凹部内に、当該発熱体の一部が前記断熱体の内壁面から露出するように設置されている、ことが好ましい。
前記凹部は、例えば、前記発熱体の上下方向、及び、径方向の熱膨張による収縮に対応するクリアランスが設けられている。
前記発熱体は、例えば、スパイラル状に形成されている。
前記発熱体は、例えば、Fe−Cr−Al系合金である。
上記目的を達成するため、本発明の第2の観点にかかる熱処理装置は、
複数の被処理体を収容する反応室と、
本発明の第1の観点にかかる断熱ユニットと、を備え、
前記断熱ユニットは、前記反応室を覆うように配置され、当該反応室内を所定の温度に設定する、ことを特徴とする。
前記断熱ユニットは、例えば、前記反応室内の温度を800℃以上に設定する。
本発明によれば、良好な耐久性を有する断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置を提供することができる。
本発明の実施の形態の熱処理装置を示す図である。 断熱ユニットの一部を模式的に示す斜視図である。 断熱ユニットの一部を模式的に示す断面図である。 実施例の発熱体を示す画像である。 比較例の発熱体を示す画像である。
以下、本実施の形態に係る断熱ユニットとそれを備えた熱処理装置について説明する。なお、本実施の形態では、断熱ユニットを備えた熱処理装置として、図1に示すバッチ式の縦型の熱処理装置を用いた場合を例に説明する。
図1に示すように、熱処理装置1は、長手方向が垂直方向に向けられた略円筒状の反応管2を備えている。反応管2は、内管3と、内管3を覆うとともに内管3と一定の間隔を有するように形成された有天井の外管4とから構成された二重管構造を有する。内管3及び外管4は、耐熱及び耐腐食性に優れた材料、例えば、石英により形成されている。
外管4の下方には、筒状に形成されたステンレス鋼(SUS)からなるマニホールド5が配置されている。マニホールド5は、外管4の下端と気密に接続されている。また、内管3は、マニホールド5の内壁から突出するとともに、マニホールド5と一体に形成された支持リング6に支持されている。
マニホールド5の下方には蓋体7が配置され、ボートエレベータ8により蓋体7は上下動可能に構成されている。そして、ボートエレベータ8により蓋体7が上昇すると、マニホールド5の下方側(炉口部分)が閉鎖され、ボートエレベータ8により蓋体7が下降すると、マニホールド5の下方側(炉口部分)が開口される。
蓋体7には、例えば、石英からなるウエハボート9が載置されている。ウエハボート9は、被処理体、例えば、半導体ウエハ10が垂直方向に所定の間隔をおいて複数枚収容可能に構成されている。
反応管2の周囲には、反応管2を取り囲むように、断熱ユニット11が設けられている。断熱ユニット11は、略円筒形状の断熱体21と、断熱体21の内壁面に設けられた発熱体22と、を備えている。この発熱体22により、反応管2の内部が所定の温度に加熱され、この結果、半導体ウエハ10が所定の温度に加熱される。
図2及び図3に断熱ユニット11の概要を示す。図2に示すように、断熱体21は、略円筒形状に形成されている。断熱体21は、アルミナ(Al)のみからなる、または、アルミナとシリカ(SiO)とからなる。断熱体21は、アルミナとシリカとからなることが好ましい。断熱体21は、アルミナの含有量が65重量%以上となるように形成されており、アルミナの含有量が65〜95重量%、好ましくは65〜80重量%、より好ましくは65〜75重量%となるように形成されている。使用する断熱体21を形成するアルミナの含有量をかかる範囲にすることにより、断熱体21と発熱体22との反応性を低下させることができるためである。このため、断熱ユニット11の基本構造を変えることなく、昇降温性能、最高使用温度、及び、寿命を向上させることができる。すなわち、断熱ユニット11により反応管2内を800℃以上、さらに1000℃以上で熱処理装置1を長期間使用しても、発熱体22の断線を防止することができる。
また、断熱体21の内壁面には、内壁の円周方向に複数の凹部21aが設けられている。複数の凹部21aは、所定の距離だけ離間するように配置されている。この凹部21a内には、図3に示すように、発熱体22の一部が断熱体21の内壁面から露出するように設置されている。このように発熱体22の一部が露出するように設置しているので、例えば、発熱体22が断熱体21内に完全に収められ露出しない場合と比較して、発熱体22の熱こもりを抑制し、速やかな昇降温性能を向上させることができる。また、最高使用温度を向上させることが可能となる。なお、図1では図示の都合上、発熱体22全体が断熱体21から露出するような構成で示されている。
凹部21aは、図3に示すように、断熱体21の円周方向に外側に窪んで形成されている。なお、図3では、凹部の断面形状が略方形の例を挙げているが、円形等であってもよい。
また、凹部21aは、発熱体22の上下方向、及び、径方向の熱膨張による収縮に対応するクリアランスが設けられている。このため、さらに、昇降温性能、最高使用温度、及び、寿命を向上させることができる。
発熱体22としては、例えば、Fe−Cr−Al系合金を用いることが好ましい。Fe−Cr−Al系合金を用いることにより、発熱体22の表面に、アルミナからなる保護酸化皮膜が形成されるためである。この保護酸化皮膜により、発熱体22は、良好な耐酸化性を備え、高温での使用が可能となる。
また、発熱体22は、スパイラル状に形成されることが好ましい。スパイラル状に形成することにより、発熱体22を効率的に配置することができ、高出力の発熱体22を得ることができる。なお、発熱体22は、例えば、図示しないピン等の保持部材で保持される。
発熱体22は、各段の凹部21aで終結するように配置し、各段の発熱体22に個別に電流を供給する構成であってもよく、隣り合う凹部21aに配置された発熱体22同士を端子等により結線して、複数の凹部21aに配置された発熱体22を一つのグループとして、断熱ユニット内で複数のグループを備えるように発熱体22を結線してもよい。また、発熱体22は、上下方向に螺旋状に連続していてもよい。
このように、本実施の形態の断熱ユニット11では、アルミナの含有量を65重量%以上としているので、発熱体22にたわみ等が発生し、断熱体21と発熱体22とが接触した場合でも、断熱体21と発熱体22とが反応し、発熱体22の保護酸化被膜が破壊され、発熱体22が断線に至るという事態を防ぐことができる。
マニホールド5の側面には、複数の処理ガス導入管13が挿通(接続)されている。なお、図1では処理ガス導入管13を1つだけ描いている。処理ガス導入管13は、内管3内を臨むように配設されている。例えば、図1に示すように、処理ガス導入管13は、支持リング6より下方(内管3の下方)のマニホールド5の側面に挿通されている。
処理ガス導入管13は、図示しないマスフローコントローラ等を介して、図示しない処理ガス導入源に接続されている。このため、処理ガス導入源から処理ガス導入管13を介して所望量の処理ガスが反応管2内に導入される。
マニホールド5の側面には反応管2内のガスを排気するための排気口14が設けられている。排気口14は支持リング6より上方に設けられており、反応管2内の内管3と外管4との間に形成された空間に連通する。そして、内管3で発生した排ガス等が内管3と外管4との間の空間を通って排気口14に排気される。
マニホールド5の側面の排気口14の下方には、パージガス導入管15が挿通されている。パージガス導入管15には、図示しないパージガス導入源が接続されており、パージガス導入源からパージガス導入管15を介して所望量のパージガス、例えば、窒素ガスが反応管2内に導入される。
排気口14には排気管16が気密に接続されている。排気管16には、その上流側から、バルブ17と、真空ポンプ18とが介設されている。バルブ17は、排気管16の開度を調整して、反応管2内の圧力を所定の圧力に制御する。真空ポンプ18は、排気管16を介して反応管2内のガスを排気するとともに、反応管2内の圧力を調整する。
なお、排気管16には、図示しないトラップ、スクラバー等が介設されており、反応管2から排気された排ガスを、無害化した後、熱処理装置1外に排気するように構成されている。
また、熱処理装置1は、装置各部の制御を行う制御部100を備えている。制御部100は、例えば、操作パネル、温度センサ(群)、圧力計(群)、ヒータコントローラ、マスフローコントローラ(MFC: Mass Flow Controller)制御部、バルブ制御部等が接続されており、熱処理装置1の各部を制御する。
以上のように構成された熱処理装置1では、以下のように、被処理体、例えば、半導体ウエハ10に所望の処理を実施する。まず、制御部100は、断熱ユニット11の発熱体22により反応管2内を所定の温度に維持するとともに、半導体ウエハ10を収容したウエハボート9を蓋体7上に載置し、ボートエレベータ8により蓋体7を上昇させ、半導体ウエハ10(ウエハボート9)を反応管2内にロードする。次に、制御部100は、発熱体22により反応管2内を所定の温度に加熱するとともに、反応管2内のガスを排出し、反応管2を所定の圧力に設定する。続いて、制御部100は、処理ガス導入管13から処理ガスを反応管2内に導入して、半導体ウエハ10に所望の処理を実施する。半導体ウエハ10に所望の処理が実施されると、制御部100は、処理ガス導入管13からの処理ガスの導入を停止して反応管2内のガスを排出し、発熱体22により反応管2内を所定の温度に維持する。また、制御部100は、反応管2内を常圧に戻す。次に、制御部100は、ボートエレベータ8により蓋体7を下降させることにより、半導体ウエハ10をアンロードし、処理を終了する。
このような処理において、反応管2内を800℃以上、さらには1000℃以上にする場合、発熱体22にたわみ等が発生し、発熱体22と断熱材21とが接触するおそれがあるが、本実施の形態の断熱ユニット11では、アルミナの含有量を65重量%以上としているので、断熱体21と発熱体22との反応性を低下させることができ、発熱体22が断線に至るという事態を防ぐことができる。このように、反応管2内を800℃以上、さらには1000℃以上に加熱するような高温処理においても、良好な耐久性を有する断熱ユニット11及びそれを備えた熱処理装置1を提供することができる。
次に、本発明の効果を確認するため、断熱ユニット11を備えた熱処理装置1について、発熱体22の耐久性試験を行った。
(実施例)
実施例の断熱ユニット11では、断熱体21を形成するアルミナの含有量を70重量%、シリカの含有量を30重量%とし、この断熱体21の凹部21a内に、Fe−Cr−Al系合金からなるスパイラル状の発熱体22を、その一部が断熱体21の内壁面から露出するように設置した。また、発熱体22の耐久性試験は、断熱ユニット11を1000℃下において600時間経過させた。600時間経過後の発熱体22の画像を図4に示す。
(比較例)
断熱体21を形成するアルミナの含有量を60重量%、シリカの含有量を40重量%としたこと以外は実施例と同様の断熱ユニットを1000℃下において600時間経過させた。600時間経過後の発熱体22の画像を図5に示す。
図4に示すように、実施例では、発熱体22に腐食等はみられず、断線も生じないことを確認した。一方、図5に示すように、比較例では、発熱体22の一部(図5の右上の破線で囲んだ箇所)に断線がみられた。
このように、本実施の形態の断熱ユニット11では、断熱体21を形成するアルミナの割合を上昇させることにより、断熱体21と発熱体22との反応性を低下させることができる。特に、本実施の形態では、断熱体21の組成を変更するのみで、反応性を低下させることができるため、熱処理装置1の基本構造を変更することなく、熱処理装置1の寿命を向上させることができる。また、熱処理装置1の最高使用温度も向上させることができる。
以上、説明したように、本実施の形態によれば、断熱体21を形成するアルミナの含有量が65重量%以上となるように形成されているので、断熱体21と発熱体22との反応性を低下させることができ、良好な耐久性を有する断熱ユニット11及びそれを備えた熱処理装置1を提供することができる。また、断熱ユニット11の基本構造を変えることなく、昇降温性能、最高使用温度、及び、寿命を向上させることができる。
本発明は、上記の実施の形態に限られず、種々の変形、応用が可能である。例えば、上記実施の形態では、円筒型の断熱体21を例に挙げて本発明を説明したが、本発明の断熱体21は円筒型に限定されるものではなく、例えば、断熱体21の形状を、多角形、円柱、球状等、様々な形とすることが可能である。更に、断熱体21を円形や方形のパネル状に形成して、その一面に発熱体22を設けるような構成としてもよい。
上記実施の形態では、発熱体22がスパイラル状に形成されている場合を例に本発明を説明したが、発熱体22の形状は他の形状であってもよく、例えば、帯状であってもよい。また、発熱体22に、Fe−Cr−Al系合金を用いた場合を例に本発明を説明したが、発熱可能な各種の材料を用いてもよい。
上記実施の形態では、発熱体22が断熱体21の凹部21a内に設けられる場合を例に本発明を説明したが、例えば、凹部21aのような窪みを設けずに、ピン等の保持部材によって、断熱体21の内周面に周方向に沿って、断熱体21との間に所定のクリアランスを有するように配置してもよい。また、発熱体22の一部が断熱体21の内壁面内に収容されていてもよい。さらに、発熱体22がパネル状の場合には、パネルの一面にピン等の保持部材によって所定のクリアランスを有するように保持してもよい。
また、断熱体21の外周面は、断熱体21の形状保持及び補強のため、金属、例えば、ステンレス製のアウターシェル等に覆われていてもよい。また、アウターシェルの外周には、水冷ジャケット等の外部への熱影響を抑制する手段を備えてもよい。
上記実施の形態では、熱処理装置1として、二重管構造のバッチ式の縦型の熱処理装置を用いた場合を例に本発明を説明したが、例えば、本発明を単管構造のバッチ式の熱処理装置に適用することも可能である。
本発明は、断熱ユニット及びそれを備えた熱処理装置に有用である。
1 熱処理装置
2 反応管
3 内管
4 外管
5 マニホールド
6 支持リング
7 蓋体
8 ボートエレベータ
9 ウエハボート
10 半導体ウエハ
11 断熱ユニット
13 処理ガス導入管
14 排気口
15 パージガス導入管
16 排気管
17 バルブ
18 真空ポンプ
21 断熱体
21a 凹部
22 発熱体
100 制御部

Claims (7)

  1. アルミナのみからなる、または、アルミナとシリカとからなる断熱体と、
    前記断熱体の内壁面に設けられた発熱体と、を備え、
    前記断熱体は前記アルミナの含有量が65重量%以上である、
    ことを特徴とする断熱ユニット。
  2. 前記断熱体の内壁面には、その内壁の円周方向に複数の凹部が設けられ、
    前記発熱体は、前記凹部内に、当該発熱体の一部が前記断熱体の内壁面から露出するように設置されている、ことを特徴とする請求項1に記載の断熱ユニット。
  3. 前記凹部は、前記発熱体の上下方向、及び、径方向の熱膨張による収縮に対応するクリアランスが設けられている、ことを特徴とする請求項2に記載の断熱ユニット。
  4. 前記発熱体はスパイラル状に形成されている、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の断熱ユニット。
  5. 前記発熱体は、Fe−Cr−Al系合金である、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の断熱ユニット。
  6. 複数の被処理体を収容する反応室と、
    請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱ユニットと、を備え、
    前記断熱ユニットは、前記反応室を覆うように配置され、当該反応室内を所定の温度に設定する、ことを特徴とする熱処理装置。
  7. 前記断熱ユニットは、前記反応室内の温度を800℃以上に設定する、ことを特徴とする請求項6に記載の熱処理装置。
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