JPH0547444Y2 - - Google Patents
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- JPH0547444Y2 JPH0547444Y2 JP1986162474U JP16247486U JPH0547444Y2 JP H0547444 Y2 JPH0547444 Y2 JP H0547444Y2 JP 1986162474 U JP1986162474 U JP 1986162474U JP 16247486 U JP16247486 U JP 16247486U JP H0547444 Y2 JPH0547444 Y2 JP H0547444Y2
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Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本考案は、長期間にわたり高い信頼性を保持し
うるチツプ型正特性サーミスタに関する。
うるチツプ型正特性サーミスタに関する。
〈従来の技術〉
第5図に従来のチツプ型正特性サーミスタを示
す。従来のこの種サーミスタは、角形チツプ状の
素体1の両端部にそれぞれ電極2,2を備え、両
電極2,2の形成部を除く素体1の表面の大部分
が外気に対して露出した構造となつている。
す。従来のこの種サーミスタは、角形チツプ状の
素体1の両端部にそれぞれ電極2,2を備え、両
電極2,2の形成部を除く素体1の表面の大部分
が外気に対して露出した構造となつている。
このようなサーミスタは、たとえば、半導体セ
ラミツクス製原板を長尺の短冊形に成形し、この
短冊形板体の両側縁にそれぞれ電極を形成したの
ち、短冊形板体を長手方向複数個に分割して製作
される。
ラミツクス製原板を長尺の短冊形に成形し、この
短冊形板体の両側縁にそれぞれ電極を形成したの
ち、短冊形板体を長手方向複数個に分割して製作
される。
そして、前記電極は、通常、銀を主成分とした
(たとえば銀−ガリウム系の)導電性ペーストの
焼き付けにより形成される。
(たとえば銀−ガリウム系の)導電性ペーストの
焼き付けにより形成される。
〈考案が解決しようとする問題点〉
ところで、上記のような従来のサーミスタは、
素体の表面の大部分が外気に直接接触しているの
で、使用時間の経過とともに素体が外気の影響を
受け、素体の特性が劣化し、信頼性が低下する。
素体の表面の大部分が外気に直接接触しているの
で、使用時間の経過とともに素体が外気の影響を
受け、素体の特性が劣化し、信頼性が低下する。
特に、サーミスタの使用雰囲気中に塩化水素、
アンモニア、硫化水素、亜硫酸ガス等の化学的に
活性な物質が含有されている場合は、素体の特性
劣化が顕著に現われる。
アンモニア、硫化水素、亜硫酸ガス等の化学的に
活性な物質が含有されている場合は、素体の特性
劣化が顕著に現われる。
また、素体の表面に埃や汚れの付着することに
よつても、同様な特性の劣化が生じる。
よつても、同様な特性の劣化が生じる。
さらにまた、チツプ型正特性サーミスタを回路
基板に実装する場合には、素体の表面にフラツク
ス等の薬剤が付着するが、この薬剤が表面に付着
したまま残存することによつても、素体の特性が
劣化する。
基板に実装する場合には、素体の表面にフラツク
ス等の薬剤が付着するが、この薬剤が表面に付着
したまま残存することによつても、素体の特性が
劣化する。
このほか、チツプ型正特性サーミスタを回路基
板上のランドに半田付けしたとき、電極とランド
とを接続すべき半田が素体の露出表面にも付着し
て、素体とランドとが短絡し、所要の抵抗値が得
られなくなることがある。
板上のランドに半田付けしたとき、電極とランド
とを接続すべき半田が素体の露出表面にも付着し
て、素体とランドとが短絡し、所要の抵抗値が得
られなくなることがある。
本考案は、上述の問題点に鑑みてなされたもの
であつて、チツプ型正特性サーミスタにおいて、
素体の表面が外部に露出していることに起因する
特性劣化を可及的低減し、長期間にわたつて高い
信頼性を保持し、かつ実装時の短絡を防止するこ
とを目的とする。
であつて、チツプ型正特性サーミスタにおいて、
素体の表面が外部に露出していることに起因する
特性劣化を可及的低減し、長期間にわたつて高い
信頼性を保持し、かつ実装時の短絡を防止するこ
とを目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉
本考案は、上記の目的を達成するために、チツ
プ型正特性サーミスタにおいて、素体の少なくと
も両主表面をガラスのコーテイング層で被覆し、
この素体の両端部に、素体の端面とコーテイング
層の両端縁部それぞれを覆うように電極を形成し
た。
プ型正特性サーミスタにおいて、素体の少なくと
も両主表面をガラスのコーテイング層で被覆し、
この素体の両端部に、素体の端面とコーテイング
層の両端縁部それぞれを覆うように電極を形成し
た。
〈作用〉
上記の構成によれば、素体の表面の大部分がガ
ラスのコーテイング層と電極とで被覆され、素体
表面と外気との接触が断たれる。したがつて、素
体の外気との接触による特性劣化が防止される。
ラスのコーテイング層と電極とで被覆され、素体
表面と外気との接触が断たれる。したがつて、素
体の外気との接触による特性劣化が防止される。
また、回路基板への実装時、半田が素体表面に
直接接触することがないので、素体とランドとの
短絡が発生しない。
直接接触することがないので、素体とランドとの
短絡が発生しない。
また素体の端面とコーテイング層の両端縁部そ
れぞれを覆うように電極を設けているので、コー
テイング層のはがれが防止される。
れぞれを覆うように電極を設けているので、コー
テイング層のはがれが防止される。
〈実施例〉
以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図は本考案の一実施例に係るチツプ型正特
性サーミスタの構成を模式的に示す構成図であ
る。このチツプ型正特性サーミスタは、角形チツ
プ状の素体1と、その両主表面(図において上下
両面)3,3をそれぞれ全面的に覆うガラスのコ
ーテイング層4,4と、素体1の両端面(図にお
いて左右両端面)および各コーテイング層4,4
の両端縁部を覆う一対の電極2,2とを備える。
性サーミスタの構成を模式的に示す構成図であ
る。このチツプ型正特性サーミスタは、角形チツ
プ状の素体1と、その両主表面(図において上下
両面)3,3をそれぞれ全面的に覆うガラスのコ
ーテイング層4,4と、素体1の両端面(図にお
いて左右両端面)および各コーテイング層4,4
の両端縁部を覆う一対の電極2,2とを備える。
前記素体1は、チタン酸バリウム系の半導体セ
ラミツクスで形成される。コーテイング層4は、
ガラス粉末を含むペーストをスクリーン印刷等の
塗布方法により塗布して焼成することにより、形
成される。電極2は、前記コーテイング層4,4
が形成された素体1の両端部に浸漬等により銀・
ガリウムペースト等の銀を主成分とするオーム性
接触導電ペースト(以下、導電性ペーストとい
う)を塗布したのち焼成することによつて、形成
される。
ラミツクスで形成される。コーテイング層4は、
ガラス粉末を含むペーストをスクリーン印刷等の
塗布方法により塗布して焼成することにより、形
成される。電極2は、前記コーテイング層4,4
が形成された素体1の両端部に浸漬等により銀・
ガリウムペースト等の銀を主成分とするオーム性
接触導電ペースト(以下、導電性ペーストとい
う)を塗布したのち焼成することによつて、形成
される。
上記構成のチツプ型正特性サーミスタは、たと
えば次のような工程により製作される。
えば次のような工程により製作される。
すなわち、第2図Aに示すような所定の幅を有
する短冊状に形成された原料板体1′の両主表面
に、第2図Bに示すように、ガラス粉末ペースト
4′をスクリーン印刷等の方法で塗布し500℃〜
850℃の温度で焼成して、原料板体1′の両主表面
をガラスのコーテイング層4,4で被覆する。
する短冊状に形成された原料板体1′の両主表面
に、第2図Bに示すように、ガラス粉末ペースト
4′をスクリーン印刷等の方法で塗布し500℃〜
850℃の温度で焼成して、原料板体1′の両主表面
をガラスのコーテイング層4,4で被覆する。
この後、第2図Cに示すように、原料板体1′
の両側縁部を導電性ペースト2′に浸漬するなど
して、両側縁部に導電性ペースト2′を塗布した
のち焼成する。
の両側縁部を導電性ペースト2′に浸漬するなど
して、両側縁部に導電性ペースト2′を塗布した
のち焼成する。
次に第2図Dに示すように、原料板体1′を長
手方向に所定の間隔で分割する。
手方向に所定の間隔で分割する。
これにより、第1図に示したチツプ型正特性サ
ーミスタが得られる。
ーミスタが得られる。
このように構成されたチツプ型正特性サーミス
タによれば、素体1の両主表面3,3がコーテイ
ング層4,4により被覆されているので、従来露
出されていた素体1の大部分の表面が外気から遮
断されることになり、外気接触による特性の劣化
を長時間にわたり防止することができる。
タによれば、素体1の両主表面3,3がコーテイ
ング層4,4により被覆されているので、従来露
出されていた素体1の大部分の表面が外気から遮
断されることになり、外気接触による特性の劣化
を長時間にわたり防止することができる。
また、図示しない回路基板にこのチツプ型正特
性サーミスタを半田付けするときに、半田が素体
1側に流れ込んでも、半田と素体1とがコーテイ
ング層4によつて絶縁されるので、素体1と回路
基板のランドとが局部的に短絡することはない。
性サーミスタを半田付けするときに、半田が素体
1側に流れ込んでも、半田と素体1とがコーテイ
ング層4によつて絶縁されるので、素体1と回路
基板のランドとが局部的に短絡することはない。
また、コーテイング層4の両端縁部それぞれを
覆うように電極2を設けているので、コーテイン
グ層4のはがれが防止される。
覆うように電極2を設けているので、コーテイン
グ層4のはがれが防止される。
上記実施例のものと、これと同寸法でコーテイ
ング層4がない従来例のものとに対して、25℃の
雰囲気中で直流20Vの電圧を連続1000時間印加し
たところ、従来例では抵抗値が約3.7%増加した
が、本実施例のものでは、抵抗増加率が約0.5%
におさまつた。これは、本実施例のものでは、素
体1の表面の大部分が外気と接触せず、特性が劣
化しないため、と考えられる。
ング層4がない従来例のものとに対して、25℃の
雰囲気中で直流20Vの電圧を連続1000時間印加し
たところ、従来例では抵抗値が約3.7%増加した
が、本実施例のものでは、抵抗増加率が約0.5%
におさまつた。これは、本実施例のものでは、素
体1の表面の大部分が外気と接触せず、特性が劣
化しないため、と考えられる。
なお、上記のチツプ型正特性サーミスタを作る
手順としては、ガラス粉末ペースト4′を塗布し
た後、焼成してコーテイング層4を形成してから
導電性ペースト2′を塗布するという手順が示さ
れているが、ガラス粉末ペースト4′を塗布後、
導電性ペースト2′を塗布し、両ペースト2′,
4′を一挙に焼成する手順を採ることも可能であ
る。
手順としては、ガラス粉末ペースト4′を塗布し
た後、焼成してコーテイング層4を形成してから
導電性ペースト2′を塗布するという手順が示さ
れているが、ガラス粉末ペースト4′を塗布後、
導電性ペースト2′を塗布し、両ペースト2′,
4′を一挙に焼成する手順を採ることも可能であ
る。
(実施例 2)
第3図に示す本考案の他の実施例に係るチツプ
型正特性サーミスタは、コーテイング層4,4の
幅が素体1の幅よりも細幅に形成され、両電極
2,2がコーテング層4,4の両側縁部にオーバ
ーラツプして形成される。その他の構成は上記の
第1図の実施例と同様である。
型正特性サーミスタは、コーテイング層4,4の
幅が素体1の幅よりも細幅に形成され、両電極
2,2がコーテング層4,4の両側縁部にオーバ
ーラツプして形成される。その他の構成は上記の
第1図の実施例と同様である。
このチツプ型正特性サーミスタでは、抵抗値が
コーテイング層4の形成幅によつて決定される。
コーテイング層4の形成幅によつて決定される。
(実施例 3)
第4図は本考案のもう一つの実施例に係るチツ
プ型正特性サーミスタを示し、このチツプ型正特
性サーミスタは、両電極2,2がそれぞれニツケ
ル層5と銀層6とを積層して形成され、前記ニツ
ケル層5の端縁7よりも銀層6の端縁8を側縁側
に後退させてある点に特徴がある。その他の構成
は上記の各実施例と同様である。
プ型正特性サーミスタを示し、このチツプ型正特
性サーミスタは、両電極2,2がそれぞれニツケ
ル層5と銀層6とを積層して形成され、前記ニツ
ケル層5の端縁7よりも銀層6の端縁8を側縁側
に後退させてある点に特徴がある。その他の構成
は上記の各実施例と同様である。
このチツプ型正特性サーミスタにおいては、通
電時にニツケル層5どうしの間に電圧集中が起こ
り、銀層6には電圧集中が起こらない。そのため
銀層6のマイグレーシヨンが防止され、マイグレ
ーシヨンによる短絡等を防止できる。
電時にニツケル層5どうしの間に電圧集中が起こ
り、銀層6には電圧集中が起こらない。そのため
銀層6のマイグレーシヨンが防止され、マイグレ
ーシヨンによる短絡等を防止できる。
なお、前記各実施例では、コーテイング層4が
素体1の主表面のみに施されているが、例えば上
記の原料板体1′にガラス粉末ペースト4′を塗布
する前に原料板体1′を長手方向に所要の寸法に
分断し、その分断面にもガラス粉末ペースト4′
を塗布し、これを焼成することによつて、電極2
によつて覆われない素体1の側面をもコーテイン
グ層4で被覆することができる。このようにすれ
ば、素体1の表面の全面がコーテイング層4およ
び電極2により被覆されることになり、特性の劣
化防止効果が一段と向上する。
素体1の主表面のみに施されているが、例えば上
記の原料板体1′にガラス粉末ペースト4′を塗布
する前に原料板体1′を長手方向に所要の寸法に
分断し、その分断面にもガラス粉末ペースト4′
を塗布し、これを焼成することによつて、電極2
によつて覆われない素体1の側面をもコーテイン
グ層4で被覆することができる。このようにすれ
ば、素体1の表面の全面がコーテイング層4およ
び電極2により被覆されることになり、特性の劣
化防止効果が一段と向上する。
〈考案の効果〉
以上のように、本考案に係るチツプ型正特性サ
ーミスタによれば、素体の少なくとも主表面がコ
ーテイング層によつて外気から遮断されるので、
外気の影響を大幅に少なくでき、外気接触による
特性劣化を長時間にわたつて防止でき、高い信頼
性を長期間にわたつて保持できる。
ーミスタによれば、素体の少なくとも主表面がコ
ーテイング層によつて外気から遮断されるので、
外気の影響を大幅に少なくでき、外気接触による
特性劣化を長時間にわたつて防止でき、高い信頼
性を長期間にわたつて保持できる。
また、チツプ型正特性サーミスタを回路基板に
実装するときに、電極とランドとを接続する半田
が素体側にはみ出してきても、コーテイング層に
よつて素体と半田の接触が遮断されるので、素体
とランドとの局部的な短絡が生じるおそれがなく
なる。
実装するときに、電極とランドとを接続する半田
が素体側にはみ出してきても、コーテイング層に
よつて素体と半田の接触が遮断されるので、素体
とランドとの局部的な短絡が生じるおそれがなく
なる。
また、コーテイング層の両端縁部それぞれを覆
うように電極を設けているので、取り扱い時のコ
ーテイング層のはがれが防止される。
うように電極を設けているので、取り扱い時のコ
ーテイング層のはがれが防止される。
第1図は本考案の一実施例に係るチツプ型正特
性サーミスタの構成を模式的に示す構成図、第2
図A〜Dはいずれも製造工程の説明図、第3図お
よび第4図はいずれも他の実施例の構成図、第5
図は従来例の構成図である。 1……素体、2……電極、3……主表面、4…
…コーテイング層。
性サーミスタの構成を模式的に示す構成図、第2
図A〜Dはいずれも製造工程の説明図、第3図お
よび第4図はいずれも他の実施例の構成図、第5
図は従来例の構成図である。 1……素体、2……電極、3……主表面、4…
…コーテイング層。
Claims (1)
- 素体の少なくとも両主表面をガラスのコーテイ
ング層で被覆し、この素体の両端部に、素体の端
面とコーテイング層の両端縁部それぞれを覆うよ
うに電極を形成したことを特徴とするチツプ型正
特性サーミスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986162474U JPH0547444Y2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986162474U JPH0547444Y2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6367201U JPS6367201U (ja) | 1988-05-06 |
JPH0547444Y2 true JPH0547444Y2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=31089768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986162474U Expired - Lifetime JPH0547444Y2 (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0547444Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0628202B2 (ja) * | 1987-01-16 | 1994-04-13 | 株式会社村田製作所 | 負特性サ−ミスタ |
JP2591205B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1997-03-19 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ |
JP2591206B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1997-03-19 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ |
JP2560872B2 (ja) * | 1990-02-22 | 1996-12-04 | 株式会社村田製作所 | 正特性サーミスタの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5585002A (en) * | 1978-12-22 | 1980-06-26 | Hitachi Ltd | Method of fabricating thick film thermistor |
JPS57106001A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Tdk Electronics Co Ltd | Laminated chip resistor |
JPS6196703A (ja) * | 1984-10-17 | 1986-05-15 | 株式会社東芝 | 非直線抵抗体 |
JPS6199302A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | 松下電器産業株式会社 | 高温ガラス封入サ−ミスタ |
JPS6361102B2 (ja) * | 1980-06-09 | 1988-11-28 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6361102U (ja) * | 1986-10-13 | 1988-04-22 |
-
1986
- 1986-10-22 JP JP1986162474U patent/JPH0547444Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5585002A (en) * | 1978-12-22 | 1980-06-26 | Hitachi Ltd | Method of fabricating thick film thermistor |
JPS6361102B2 (ja) * | 1980-06-09 | 1988-11-28 | ||
JPS57106001A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Tdk Electronics Co Ltd | Laminated chip resistor |
JPS6196703A (ja) * | 1984-10-17 | 1986-05-15 | 株式会社東芝 | 非直線抵抗体 |
JPS6199302A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | 松下電器産業株式会社 | 高温ガラス封入サ−ミスタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS6367201U (ja) | 1988-05-06 |
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