JPH05320337A - イミド樹脂の製造方法 - Google Patents

イミド樹脂の製造方法

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JPH05320337A
JPH05320337A JP12395292A JP12395292A JPH05320337A JP H05320337 A JPH05320337 A JP H05320337A JP 12395292 A JP12395292 A JP 12395292A JP 12395292 A JP12395292 A JP 12395292A JP H05320337 A JPH05320337 A JP H05320337A
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JP
Japan
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dicarboxylic acid
unsaturated dicarboxylic
formula
imide
compound
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Pending
Application number
JP12395292A
Other languages
English (en)
Inventor
Kamio Yonemoto
神夫 米本
Masahiro Matsumura
昌弘 松村
Hidetaka Kakiuchi
秀隆 垣内
Hiroaki Fujiwara
弘明 藤原
Takao Hayashi
隆夫 林
Satoshi Okumoto
奥本佐登志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐熱性を損なわずに難燃性を有するイミド樹
脂を作る。 【構成】 一般式(I) であらわされる不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物とポリアミンのような硬化剤、たとえ
ば、一般式(II)又は(III) で表されるジアミンを付加反
応させてイミド樹脂を作る。一般式中、Dは少なくとも
1つの C=C結合を持った2価の有機基;R1〜R4のうちの
少なくとも1つはCl又はBr、残りはH又は低級アルキル
基;R5〜R12 のうちの少なくとも4つはアルキル基、Cl
又はBr、残りはH;Xは、CH2, O, SO2, S, C(CH3)2
は単結合をあらわす。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、プリント配線板など
に使用される付加型イミド樹脂、特に不飽和ジカルボン
酸イミド系樹脂の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】付加型イミド樹脂は熱的および電気的特
性に優れ、プリント配線板等に多く利用されているが、
難燃性に問題があった。その問題を解決するために、従
来は、難燃性のエポキシ樹脂を添加したり、あるいは、
難燃性を有する硬化剤を使用したりしていた。前者の場
合は、得られたイミド樹脂の耐熱性が低下する。また、
後者の場合は、通常、ハロゲンを導入した硬化剤の反応
活性は低くなり、ポリマー化しにくい等の問題があっ
た。
【0003】また、従来、不飽和ビスイミドに反応させ
るジアミンとしては工業的にはメチレンジアニリンが主
に用いられてきた。近年、メチレンジアニリンの毒性が
問題となり、毒性の無いジアミンへの代替が必要となっ
てきた。ところが、一般に毒性の低いジアミンは反応活
性も低く、通常、樹脂化ができなかったり、あるいは、
樹脂化のため長時間の反応・加熱硬化が必要となったり
する等の問題がある(特開平1−129025号公
報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記事情
に鑑みてなされたものであって耐熱性を損なわずに難燃
性を有するイミド樹脂を製造する方法を提供することを
課題とする。この発明は、また、耐熱性を損なわずに難
燃性を有し、かつ、毒性のあるジアミンを含まないイミ
ド樹脂を製造する方法を提供することを課題する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、この発明は、下記の一般式(I)であらわされる不
飽和ジカルボン酸イミド系化合物を含む原料を用いて付
加反応を行うイミド樹脂の製造方法を提供する。
【0006】
【化4】
【0007】〔式中、Dは少なくとも1つの炭素−炭素
二重結合を持った2価の有機基をあらわし、R1 〜R4
のうちの少なくとも1つは塩素原子あるいは臭素原子の
いずれかであり、それ以外のR1 〜R4 は水素原子ある
いは低級アルキル基である。〕以下に、この発明を、詳
しく説明する。この発明に使用される不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物とは、上記の一般式(I)であらわさ
れる化合物をいう。ただし、上記式中D、R1 〜R4
それぞれ次のとおりである。Dは少なくとも1つの炭素
−炭素二重結合を持った2価の有機基をあらわす。R1
〜R4 のうちの少なくとも一つは塩素原子あるいは臭素
原子のいずれかであり、それ以外は水素原子あるいは低
級アルキル基である。低級アルキル基は特に限定されな
いが、たとえば、炭素数1〜3個のアルキル基である。
【0008】このような不飽和ジカルボン酸イミド系化
合物を得る方法は、この発明では特に限定されないが、
例えば、下記の一般式(IV)であらわされる不飽和ジカ
ルボン酸無水物と、下記の一般式(V)であらわされる
ジアミンとを、好ましくは、反応系に対して不活性な有
機溶媒等の存在下で反応させ、さらに脱水剤等を用いて
閉環することにより得ることができる。この反応は、不
飽和ジカルボン酸無水物とジアミンとの縮合反応であ
る。
【0009】
【化5】
【0010】〔式中、Dは少なくとも1つの炭素−炭素
二重結合を持った2価の有機基をあらわす。〕
【0011】
【化6】
【0012】〔式中、R1 〜R4 のうちの少なくとも1
つは塩素原子あるいは臭素原子のいずれかであり、それ
以外のR1 〜R4 は水素原子あるいは低級アルキル基で
ある。〕この反応系において使用することができる不飽
和ジカルボン酸無水物としては、これらに限定されるも
のではないが、例えば、下記のような化合物が挙げられ
る。
【0013】無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水
イタコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック
酸、および、これらのハロゲンあるいはアルキル置換体
等。これらの化合物は単独で、あるいは、複数混合して
使用することができる。この反応系において使用するこ
とができるジアミンとしては、これらに限定されるもの
ではないが、例えば、以下で例示されるようなポリアミ
ンおよびジアミンのうち上記一般式(V)で表されるジ
アミンであり、具体例は、2,5−ジクロロ−p−アニ
リン、2,3−ジクロロ−p−アニリン、2−クロロ−
p−アニリン、2,3,5,6−テトラクロロアニリ
ン、2,5−ジブロモ−p−アニリン、2−ブロモ−p
−アニリン、2,3−ジブロモ−p−アニリン、2−ク
ロロ−m−アニリン、2,5−ジクロロ−m−アニリン
などである。これらの化合物は単独で、あるいは、複数
混合して使用することができる。
【0014】上記一般式(I)で示される不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を原料として、イミド樹脂を製造
する際には、他の配合成分を適宜の割合で添加する。他
の配合成分としては、たとえば、前記イミド系化合物の
有する不飽和基と反応しうる官能基(以下、「官能基
a」と言うことがある)を2以上有する化合物(以下、
「化合物A」と言うことがある)、溶剤等が挙げられ
る。但し、この時に樹脂組成中の全固形分に対して、ハ
ロゲン成分が2重量%以上となるように他の配合成分を
添加することが好ましい。2重量%未満の場合には、充
分な難燃性を付与することが困難となる。イミド樹脂を
得るための反応は、たとえば、不飽和ジカルボン酸イミ
ド系化合物と化合物Aの付加反応である。
【0015】前記官能基aは、たとえばアミノ基、二重
結合基などの不飽和基などであり、前記化合物Aは、た
とえば、ポリアミン、2以上の不飽和基を有する化合物
であり、たとえば、硬化剤である。使用することができ
るポリアミンとしては、これらに限定されるものではな
いが、例えば、下記のような化合物が挙げられる。
【0016】メタフェニレンジアミン、4−クロルメタ
フェニレンジアミン、5−ニトロメタフェニレンジアミ
ン、4,6−ジメチルメタフェニレンジアミン、パラフ
ェニレンジアミン、2−クロルパラフェニレンジアミ
ン、2−ニトロパラフェニレンジアミン、2−シアノパ
ラフェニレンジアミン、2,5−ジクロルパラフェニレ
ンジアミン、2,6−ジクロルパラフェニレンジアミ
ン、2,5−ジエチルパラフェニレンジアミン、5−ク
ロル−2−メチルパラフェニレンジアミン、テトラフル
オロフェニレンジアミン、トリレンジアミン、3,5−
ジエチル−2,4−トリレンジアミン、メタキシリレン
ジアミン、パラキシリレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、4,4−ジメチルヘ
プタメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエ
チレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタ
エチレンヘキサミン、4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′
−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,4,4′−テ
トラアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノ−
3,3′−ジエチルジフェニルメタン、4,4′−ジア
ミノ−3,3′−ジエチル−5,5′−ジメチルジフェ
ニルメタン、4,4′−ビス(p−アミノフェノキシ)
ジフェニルメタン、4,4′−ビス(m−アミノフェノ
キシ)ジフェニルメタン、2,2′,3,3′−テトラ
クロル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、ジアミ
ノジシクロヘキシルメタン、4,4′−ビス(p−アミ
ノフェノキシ)ジフェニルメタン、4,4′−ビス(m
−アミノフェノキシ)ジフェニルエタン、1,2−ビス
−(3−アミノプロポキシ)−エタン、1,2−ジアミ
ノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、4,4′−ジ
アミノジフェニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェ
ニルプロパン、1,2−ビス−(3−アミノプロポキ
シ)−2,2−ジメチルプロパン、4,4′−ビス(p
−アミノフェノキシ)ジフェニルプロパン、4,4′−
ビス(m−アミノフェノキシ)ジフェニルプロパン、
2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、1,4
−ジアミノブタン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、
ビス−(3−アミノプロピル)エーテル、α,ω−ビス
−(3−アミノプロピル)−ポリエチレングリコールエ
ーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3,
4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,4,4′−トリアミノジフ
ェニルエーテル、3,3′,4,4′−テトラアミノジ
フェニルエーテル、ビス(p−βアミノ−tert−ブチル
フェニル)エーテル、3,3′−ジアミノジフェニルス
ルホン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′,4,4′−テトラアミノジフェニルスルホン、p
−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、
p−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン、2,2−ビス−〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕スルホン、オルトトリジンスルホン、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス−(4−アミノ
フェニル)ジスルフィド、3,3′,4,4′−テトラ
アミノジフェニルサルファイド、1,4−ビスアミノプ
ロピルピペラジン、2,3−ジアミノピリジン、2,5
−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、2,
3,6−トリアミノピリジン、2−アミノ−3−メチル
ピリジン、2,6−ジアミノ−4−メチルピリジン、
2,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジ
ン、2,4−ジアミノ−6−(4−ピリジル)−5−ト
リアジン、p−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、m−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、p−
ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、m−ビス(3
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5−トリアミ
ノベンゼン、4,4′−ジアミノ−3−メトキシアゾベ
ンゼン、1,5−ジアミノナフタレン、1,3,5−ト
リアミノナフタレン、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジアミノビフェニル、4,4′−ジアミノオクタフルオ
ロビフェニル、2,5−ジアミノテレフタル酸、3,
4′−ジアミノベンズアニリド、4,4′−ジアミノベ
ンズアニリド、4−(p−アミノフェノキシ)−4−ア
ミノベンズアニリド、3,3′−ジアミノベンジジン、
2,4−ジアミノトルエン、2,4−ビス(βアミノ−
tert−ブチル)トルエン、4,4′−ジアミノベンゾフ
ェノン、ポリテトラメチレンオキシド−ジ−p−アミノ
ベンゾエート、トリメチレンビス−(4−アミノベンゾ
エート)、ビス(4−アミノフェニル)ジフェニルシラ
ン、ビス(4−アミノフェニル)ジメチルシラン、ビス
(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ビス(4−アミノフェニル)メチルホスフィンオキ
サイド、4,4′−ジアミノスチルベン、9,9−ビス
(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、
2,6−ジアミノアントラキノン、1,5−ジアミノア
ントラキノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フ
ルオレン、5−アミノ−1−(4′−アミノフェニル)
−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−
(4′−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、2,5−ジアミノ安息香酸、3,5−ジアミノ
安息香酸、キシリジン、4,4−メチレンジ−2,6−
キシリジン、2,6−ジアミノベンゾチアゾール、m−
アミノベンゾイックアシッドヒドラジド、2,4−ジア
ミノメシチレン、ヘキサアミノシクロフォスファゼン、
1,1−ジアミノ−3,3,5,5−テトラフェノキシ
シクロフォスファゼン、1,3,5−トリス(p−アミ
ノフェノキシ)−1,3,5−トリフェノキシシクロフ
ォスファゼン、ヘキサキス(p−アミノフェノキシ)−
シクロフォスファゼン、2,2′−ビス(4−アミノフ
ェノキシフェニル) プロパン、2,2′−ビス(3−ア
ミノフェノキシフェニル) プロパン、4,4′−〔1,
4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン) 〕ビスア
ニリン、3,3′,4,4′−テトラアミノ−ジフェニ
ルサルファイド、3,3′−ジメチル−4,4′−ジア
ミノビフェニルサルファイドおよびこれらの変性物等。
これらの化合物は単独で、あるいは、複数混合して使用
することができる。
【0017】ポリアミンなどの化合物Aの配合量として
は、イミド基1当量に対し、アミノ基などの官能基aが
0.4〜0.6当量となる割合が好ましい。官能基aが
それより多いと、耐熱性を損なう恐れがあり、また、そ
れより少ないと、密着性を損なう恐れがある。使用する
ことができる溶剤としては、これらに限定されるもので
はないが、例えば、下記のような化合物が挙げられる。
【0018】N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチル−2ーピロリドン、
メチルセロソルブ、ジオキサン等。これらは単独あるい
は併用して用いてもよい。また、他の配合成分として、
反応を促進するために、イミダゾール、酸等の触媒を用
いてもよい。
【0019】使用することができる触媒としては、これ
らに限定されるものではないが、例えば、下記のような
化合物が挙げられる。イミダゾール類としては、イミダ
ゾール、2−メチルイミダゾール、2−メチル−4−エ
チルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベ
ンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−
メチルイミダゾール等。酸類としては、シュウ酸、チオ
シアン酸、チオシアン酸アンモニウム、チオシアン酸塩
類等。
【0020】上記一般式(I)で示される不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を原料として用いてイミド樹脂ま
たはイミド樹脂組成物を得る際には、これらの化合物を
単独であるいは複数用いてもよい。また、塩素原子ある
いは臭素原子を導入していない不飽和ジカルボン酸イミ
ド系化合物を併せて用いてもよく、前記したポリアミン
と反応させて得られた樹脂は、高耐熱性で難燃性の良好
な硬化物を得ることができる。
【0021】不飽和ジカルボン酸イミド系化合物の反応
性が高くなる結果、上記一般式(I)で示される不飽和
ジカルボン酸イミド系化合物を原料として用いると、毒
性の強いポリアミンを用いずに以下に示す反応活性の低
い低毒性のジアミンを用いてイミド樹脂を製造すること
ができ、毒性の強いポリアミンを含まないイミド樹脂を
得ることができる。このジアミンは、下記の一般式(I
I)および(III) であらわされる化合物から選ばれる少
なくとも1つである。
【0022】
【化7】
【0023】〔式中、R5 〜R12は、そのうちの少なく
とも4つがアルキル基、または、塩素原子、または、臭
素原子をあらわし、残りが水素原子であり、Xは、CH
2 、O、SO2 、S、C (CH3)2 あるいは単結合のい
ずれかをあらわす。〕
【0024】
【化8】
【0025】〔式中、Xは、CH2 、O、SO2 、S、
C (CH3)2 あるいは単結合のいずれかをあらわす。〕
使用することができるジアミンとしては、これらに限定
されるものではないが、例えば、下記のような化合物が
挙げられる。3,3′,5,5′,−テトラメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′,3,
3′,−テトラクロル−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3,3′−ジメチル−5,5′−ジエチル−
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,
5′−テトラブロム−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン、3,3′,5,5′−テトラエチル−4,4′−
ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テト
ライソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、1,3−ビス(2−p−アニリノプロピリデン)ベ
ンゼン、1,4−ビス(2−p−アニリノプロピリデ
ン)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,4−ビス(2−p−キシリジノプロピリデ
ン)ベンゼン等。これらは単独であるいは併せて用いて
もよい。
【0026】ここに挙げるようなジアミンの配合量とし
ては、イミド基1当量に対し、アミノ基0.4〜0.6
当量となる割合が好ましい。アミノ基がそれより多い
と、耐熱性を損なう恐れがあり、また、それより少ない
と、密着性を損なう恐れがある。使用することができる
溶剤としては、これらに限定されるものではないが、例
えば、下記のような化合物が挙げられる。
【0027】N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、
メチルセロソルブ、ジオキサン等。これらは単独である
いは併せて用いてもよい。反応条件は、原料・溶媒の有
無により異なるが、反応温度60〜180℃、反応時間
10分〜10時間の間が好ましい。
【0028】また、他の配合成分として、反応を促進す
るために、イミダゾール、酸等の触媒を用いてもよい。
使用することができる触媒としては、これらに限定され
るものではないが、例えば、下記のような化合物が挙げ
られる。イミダゾール類としては、イミダゾール、2−
メチルイミダゾール、2−メチル−4−エチルイミダゾ
ール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−
メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダ
ゾール等。酸類としては、シュウ酸、チオシアン酸、チ
オシアン酸アンモニウム、チオシアン酸塩類等。
【0029】上記一般式(I)で示される不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物を原料として、イミド樹脂または
イミド樹脂組成物を得る際には、これらの化合物を単独
であるいは複数用いてもよい。また、塩素原子あるいは
臭素原子を導入していない不飽和ジカルボン酸イミド化
合物を併せて用いてもよい。その場合には、上記一般式
(I)で示される不飽和ジカルボン酸イミド系化合物を
モル比で10%以上含むことが好ましい。10%未満の
場合には、活性の低いジアミンとの反応の進行が遅くな
ることがある。
【0030】この発明の製造方法により得られるイミド
樹脂は、いわゆるプレポリマーであってもよい。このプ
レポリマーは、たとえば樹脂ワニスの状態で使用され
る。
【0031】
【作用】この発明で原料として用いる上記一般式(I)
で示される不飽和ジカルボン酸イミド系化合物は難燃性
を持つので、生成したイミド樹脂は高い耐熱性を持ち、
難燃性も優れている。前記原料は、また、付加反応性も
通常の無置換のものよりも高い。これは、電子吸引性の
基であるハロゲンがベンゼン環に導入されることによ
り、アミンとの反応に関与する二重結合部分の電子密度
が低くなり、アミンとの反応の活性が高くなるものと考
えられる。このことは、後述する分子軌道計算の結果か
らも支持される。
【0032】
【実施例】次に、この発明の実施例について、比較例と
併せて説明するが、この発明は下記実施例に限定される
ものではない。なお、以下の実施例および比較例では、
N,N’−ジメチルホルムアミド中で、相当するジアミ
ンと無水マレイン酸とを反応させてアミド酸を合成した
のち、脱水剤として無水酢酸を、触媒としてトリエチル
アミン、酢酸ニッケルを用いて脱水閉環したのち、未反
応原料と脱水剤と触媒を完全に除去することによって不
飽和ジカルボン酸イミド系化合物を得た。
【0033】(実施例1)2,5−ジクロロ−p−アニ
リンと無水マレイン酸を用いて、公知の方法により下記
(A)の構造を有する不飽和ジカルボン酸イミド系化合
物(ビスマレイミドA)を得た。
【0034】
【化9】
【0035】ビスマレイミドの反応性に大きな影響を与
えると考えられると考えられる二重結合部分の最低空軌
道(LUMO)のエネルギーをQUANTAM CHE
MISTRY EXCHANGE 455〔量子化学プ
ログラム交換機構(QCPEとも言う。米国、インディ
アナ大学)から入手したプログラムNo.455のも
の〕のMNDO−PM3ハミルトニアン(分子軌道計算
手法の1つの呼称でQCPE455のプログラムの計算
オプション)を使用し、構造最適化オプションを指定し
て収束するまで計算を行った〔最もエネルギー的に安定
な分子構造(自然界に存在している分子構造に近いと推
定される)を求めるための処理を行った〕ところ、塩素
原子、臭素原子を導入していないビスマレイミドは−
1.258eVであるのに対し、−1.309eVと低
いものであった。
【0036】このLUMOエネルギー値が低いほどビス
マレイミドの反応活性は高くなると通常考えられてい
る。この化合物(ビスマレイミドA)を用い、表1に示
す配合および条件で反応させ、イミド樹脂ワニスを合成
した。得られたワニスをガラスクロス(シランカップリ
ング処理しておいたガラスクロス)(105g/m2)に
含浸させた後、150℃で5分間乾燥してプリプレグを
作製した。このプリプレグの樹脂含有量は47〜50重
量%であった。このプリプレグ4枚を重ね合わせ、さら
に、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度140℃、
時間60分間、圧力40kgf/cm 2 で成形を行い、
さらに、200℃で2時間キュアーを行い、両面銅張積
層板を得た。この積層板の難燃性をUL94「プラスチ
ック材料の燃焼性試験法規格」に従って測定したとこ
ろ、94V−0であった。さらに、この積層板のTgを
TMA分析により測定したところ、220℃であった。
この積層板の層間(プリプレグ同士の間)の接着強度を
測定したところ、1.3kgf/cmであった。
【0037】(実施例2)4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタンと無水マレイン酸を用いて、公知の方法により
下記(B)の構造を有する不飽和ジカルボン酸イミド系
化合物(ビスマレイミドB)を得た。
【0038】
【化10】
【0039】この化合物のLUMOを実施例1と同様に
して計算したところ、−1.258eVであった。この
化合物(ビスマレイミドB)と実施例1で用いた不飽和
ジカルボン酸イミド系化合物(ビスマレイミドA)を用
いて、表1に示す配合および条件で反応させた後、実施
例1と同様に行った。
【0040】得られた積層板の特性を測定したところ、
難燃性は94V−0であり、Tgは215℃、層間の接
着強度は1.28kgf/cmであった。 (実施例3)実施例2と同様の配合および条件で反応さ
せ、イミド樹脂ワニスを合成した。このワニスに1−ベ
ンジル−2−メチルイミダゾールを固形分に対し0.1
%の割合で添加した後、ガラスクロス〔シランカップリ
ング処理しておいたガラスクロス(105g/m2)〕に
含浸させ、150℃で5分間乾燥してプリプレグを作製
した。このプリプレグの樹脂含有量は47〜50重量%
であった。このプリプレグ4枚を重ね合わせ、さらに、
その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度140℃、時間
60分間、圧力40kgf/cm2 で成形を行い、さら
に、180℃で2時間キュアーを行い、両面銅張積層板
を得た。この積層板の難燃性をUL規格に従って測定し
たところ、94V−0であった。さらに、この積層板の
TgをTMA分析により測定したところ、205℃であ
った。この積層板の層間(プリプレグ同士の間)の接着
強度を測定したところ、1.2kgf/cmであった。
【0041】(実施例4)2−クロロ−p−アニリンと
無水マレイン酸を用いて、公知の方法により下記(C)
の構造を有する不飽和ジカルボン酸イミド系化合物(ビ
スマレイミドC)を得た。
【0042】
【化11】
【0043】この化合物のLUMOを実施例1と同様に
して計算したところ、(C)の構造式において左側のイ
ミド基が−1.367eV、右側のイミド基が−1.2
33eVであった。この不飽和ジカルボン酸イミド系化
合物(ビスマレイミドC)を用いて、表1に示す配合お
よび条件で反応させた後、実施例1と同様に行った。
【0044】得られた積層板の難燃性を調べたところ、
94V−0であり、Tgは218℃、層間の接着強度は
1.35kgf/cmであった。 (実施例5)実施例1で合成した不飽和ジカルボン酸イ
ミド系化合物(ビスマレイミドA)と下記(D)の構造
を有する3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′
−ジアミノジフェニルメタン(ジアミンD)を用い、表
1に示す配合および条件で反応させてイミド樹脂ワニス
を合成した後、実施例1と同様にして実験を行った。
【0045】
【化12】
【0046】得られた積層板のTgをTMA分析により
測定したところ、220℃であった。この積層板の層間
の接着強度を測定したところ、1.3kgf/cmであ
った。さらに、この積層板の難燃性を測定したところ、
94V−0であった。 (実施例6)実施例1と2で合成した不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物(ビスマレイミドAとB)と下記
(E)の構造を有する1,3−ビス(2−p−アニリノ
プロピリデン)ベンゼン(ジアミンE)を用い、表1に
示す配合および条件で反応させた後、実施例1と同様に
し、積層板を得た。
【0047】
【化13】
【0048】得られた積層板の特性を測定したところ、
Tgは215℃、層間の接着強度は1.28kgf/c
m、難燃性は94V−0であった。 (実施例7)実施例1と実施例2とで用いた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物(ビスマレイミドAとB)およ
び実施例6で用いたジアミン(ジアミンE)を用い、表
1に示す配合および条件で反応させた後、1−ベンジル
−2−メチルイミダゾールを固形分に対して0.3重量
%添加してイミド樹脂ワニスを作製した。得られたワニ
スをガラスクロス〔シランカップリング処理しておいた
ガラスクロス(105g/m2)〕に含浸させた後、15
0℃で5分間乾燥してプリプレグを作製した。このプリ
プレグの樹脂含有量は47〜50重量%であった。この
プリプレグ4枚を重ね合わせ、さらに、その両外側から
銅箔を重ね合わせ、温度140℃、時間60分間、圧力
40kgf/cm2 で成形を行い、さらに、180℃で
2時間キュアーを行い、両面銅張積層板を得た。この積
層板のTgをTMA分析により、測定したところ、20
5℃であった。この積層板の層間(プリプレグ同士の
間)の接着強度を測定したところ、1.3kgf/cm
であった。さらに、この積層板の難燃性をUL94「プ
ラスチック材料の燃焼性試験法規格」に従い、測定した
ところ、94V−0であった。
【0049】
【表1】
【0050】(比較例1)実施例2で得た不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物(ビスマレイミドB)を用いて、
表2に示す配合および条件で反応させた後、実施例1と
同様に行った。得られた積層板の特性を調べたところ、
Tgは220℃、層間の接着強度は1.30kgf/c
mであったが、難燃性は94V−1であった。
【0051】(比較例2)比較例1で用いた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物(ビスマレイミドB)を用い
て、表2に示す配合および条件で反応させた後、臭素化
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(住友化学社製ESB
−400T:エポキシ当量=400、ブロム化率=49
%)を表2に示す配合量を添加し、後は比較例1と同様
に行った。
【0052】得られた積層板の特性を測定したところ、
難燃性は94V−0、層間の接着強度は1.35kgf
/cmであったが、Tgは185℃と低いものであっ
た。 (比較例3)実施例2で得た不飽和ジカルボン酸イミド
系化合物(ビスマレイミドB)を用いて、表2に示す配
合および条件で反応させたところ、20時間反応後もワ
ニスのゲルタイムは30分以上であり、実用に供するこ
とのできるワニスを得ることはできなかった。
【0053】(比較例4)実施例2で用いた不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物(ビスマレイミドB)を用い
て、表2に示す配合および条件で反応させた後、ワニス
を得た。得られたワニスをガラスクロス〔シランカップ
リング処理しておいたガラスクロス(105g/m2)〕
に含浸させた後、150℃で7分間乾燥してプリプレグ
を作製した。このプリプレグの樹脂含有量は47〜50
重量%であった。このプリプレグ4枚を重ね合わせ、さ
らに、その両外側から銅箔を重ね合わせ、温度140
℃、時間60分間、圧力40kgf/cm2 で成形を行
い、さらに、200℃で2時間キュアーを行い、両面銅
張積層板を得た。この積層板の難燃性をUL94「プラ
スチック材料の燃焼性試験法規格」に従って測定したと
ころ、94V−1であった。さらに、この積層板のTg
をTMA分析により測定したところ、180℃と低いも
のであった。この積層板の層間(プリプレグ同士の間)
の接着強度を測定したところ、0.9kgf/cmであ
った。さらに、この積層板を200℃で24時間キュア
ーを行い、性能を評価したところ、Tgは220℃、層
間接着強度は1.30kgf/cmであった。
【0054】
【表2】
【0055】上記実施例および比較例の結果からわかる
ように、上記一般式(I)で表される不飽和ジカルボン
酸イミド系化合物を含む原料を用いて付加反応を行う
(実施例)ことにより得られたイミド樹脂は、耐熱性が
高く、難燃性を有するものであるのに対し、上記一般式
(I)で表されるイミド系化合物を含まない原料を用い
て付加反応を行う(比較例)ことにより得られたイミド
樹脂は次のような欠点を有していた。比較例1のものは
難燃性が劣っており、比較例2のものは耐熱性が劣って
いた。上記一般式(I)で表されるイミド系化合物は、
反応活性が低く低毒性のジアミン(上記一般式(II)ま
たは(III) で表されるジアミン。表1ではジアミンDと
E)と付加反応してイミド樹脂を生成しており、このイ
ミド樹脂は、前記イミド系化合物がジアミノジフェニル
メタンと付加反応して生成したイミド樹脂と同等の性能
を有していた。しかし、比較例3および4のように、一
般式(I)で表されるイミド系化合物を用いない場合に
は、そのように反応活性が低く低毒性のジアミンとは反
応しにくかった。また、上記一般式(I)で表されるイ
ミド系化合物と一般式(I)で表されない不飽和ジカル
ボン酸イミド系化合物とを併用した場合も耐熱性が高
く、難燃性を有するイミド樹脂が得られた。
【0056】
【発明の効果】この発明によれば、上記一般式(I)で
表されるように塩素原子または臭素原子を導入した不飽
和ジカルボン酸イミド系化合物を原料に用いて付加反応
を行うので、耐熱性を損なわずに難燃性を有する付加型
イミド樹脂を作ることができる。また、前記不飽和ジカ
ルボン酸イミド系化合物は反応性が高いので、低毒性の
反応性の低いジアミンと容易に反応するか、あるいは、
従来より低温・短時間で反応することができる。その結
果、この発明は、毒性のあるジアミンを含まずに、難燃
性を有する高耐熱性の付加型イミド樹脂を提供すること
ができる。
【手続補正書】
【提出日】平成4年6月6日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0043
【補正方法】変更
【補正内容】
【0043】この化合物のLUMOを実施例1と同様に
して計算したところ、(C)の構造式において側のイ
ミド基が−1.367eV、側のイミド基が−1.2
33eVであった。この不飽和ジカルボン酸イミド系化
合物(ビスマレイミドC)を用いて、表1に示す配合お
よび条件で反応させた後、実施例1と同様に行った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 弘明 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 林 隆夫 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 奥本佐登志 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記の一般式(I)であらわされる不飽
    和ジカルボン酸イミド系化合物を含む原料を用いて付加
    反応を行うイミド樹脂の製造方法。 【化1】 〔式中、Dは少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を持
    った2価の有機基をあらわし、R1 〜R4 のうちの少な
    くとも1つは塩素原子あるいは臭素原子のいずれかであ
    り、それ以外のR1 〜R4 は水素原子あるいは低級アル
    キル基である。〕
  2. 【請求項2】 不飽和ジカルボン酸イミド系化合物と、
    下記の一般式(II)および(III) であらわされる化合物
    から選ばれる少なくとも1つのジアミンを含む原料を用
    い、前記イミド系化合物とジアミンを付加反応させる請
    求項1記載のイミド樹脂の製造方法。 【化2】 〔式中、R5 〜R12は、そのうちの少なくとも4つがア
    ルキル基、または、塩素原子、または、臭素原子をあら
    わし、残りが水素原子であり、Xは、CH2 、O、SO
    2 、S、C (CH3)2 あるいは単結合のいずれかをあら
    わす。〕 【化3】 〔式中、Xは、CH2 、O、SO2 、S、C (CH3)2
    あるいは単結合のいずれかをあらわす。〕
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006270029A (ja) * 2005-02-23 2006-10-05 Nippon Steel Chem Co Ltd 配線基板用積層体
JP2011074209A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Jsr Corp ポリイミド系材料、ポリイミド系樹脂組成物、フィルム及びその製造方法

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