JPH05320115A - N−エチル−ヒドロキシルアミン塩酸塩の製法 - Google Patents

N−エチル−ヒドロキシルアミン塩酸塩の製法

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JPH05320115A
JPH05320115A JP4251778A JP25177892A JPH05320115A JP H05320115 A JPH05320115 A JP H05320115A JP 4251778 A JP4251778 A JP 4251778A JP 25177892 A JP25177892 A JP 25177892A JP H05320115 A JPH05320115 A JP H05320115A
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hydroxylamine hydrochloride
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bis
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C239/00Compounds containing nitrogen-to-halogen bonds; Hydroxylamino compounds or ethers or esters thereof
    • C07C239/08Hydroxylamino compounds or their ethers or esters
    • C07C239/10Hydroxylamino compounds or their ethers or esters having nitrogen atoms of hydroxylamino groups further bound to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals or of hydrocarbon radicals substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 N−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩を製造
する新規な安全な方法に関する。 【構成】 不活性溶剤および塩基の存在下においてヒド
ロキシルアミン塩酸塩をジ−t−ブチルジカルボネート
と反応させ、得られたN,O−ビス−〔(1,1−ジメチ
ルエトキシ)カルボニル〕−ヒドロキシルアミン塩酸塩
をエチル化剤と反応させそしてそれから酸でエチル化生
成物のt−ブチルオキシカルボニル部分を開裂させてN
−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】発明の背景
【発明の分野】本発明は、N−エチルヒドロキシルアミ
ン塩酸塩の製法に関するものである。さらにくわしく
は、本発明はジ−t−ブチルジカルボネート(BOC無
水物)およびヒドロキシルアミン塩酸塩からN−エチル
ヒドロキシルアミン塩酸塩を製造する新規且つ安全な方
法に関するものである。
【0002】N−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩は、
医薬中間体の製造において有用である。
【0003】
【背景技術】N−エチルヒドロキシルアミンの製造はよ
く知られている。しかしながら、N,O−ビス〔(1,1
−ジメチルエトキシ)−カルボニル〕−ヒドロキシルア
ミン中間体からのこの生成物の製造は新規である。
【0004】Louis Carpino等は、 The Journal of the
American Chemical Society, Vol.81, 1959, 955〜957
頁において、t−ブチルアジドホルメートを使用したN
およびN,O−ビス〔(1,1−ジメチルエトキシ)−カ
ルボニル〕ヒドロキシルアミンの合成を開示している。
t−ブチルアジドホルメートは小規模または大規模の使
用に対して余りにも危険である熱的に不安定な、ショッ
ク敏感性の化合物でありそしてこれらの理由のために商
業的にもはや入手することができないので、t−ブチル
アジドホルメートはもはや使用されていない。
【0005】Harris等は、 Tetrahedron Letters, Vol.
24, 1983, 231〜232頁において、アミンをアシル化する
ために使用できる新規な型の化合物を開示している。こ
の文献は、ジ−t−ブチルジカルボネートをヒドロキシ
ルアミンと一緒に使用してt−ブチルアミノカルボネー
トを製造することを教示している。しかしながら、O−
置換およびN−置換アシル化生成物のみが得られ、N,
O−ビス生成物は得られていない。
【0006】発明の要約 本発明によれば、次の反応によりN−エチルヒドロキシ
ルアミンを製造する方法が提供される。
【0007】
【化1】
【0008】本発明の方法の有意な利点は、高収量およ
び高純度におけるN−エチルヒドロキシルアミンの製造
である。
【0009】発明の詳細な説明 ヒドロキシルアミン塩酸塩を、水、ジクロロメタンまた
はジオキサンのような非反応性の溶剤中の炭酸ナトリウ
ム、重炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カ
リウムのような塩基に加え、それから10〜60℃で3
0分〜6時間にわたって添加したジ−t−ブチルジカル
ボネートで処理する。予期しないことにはN,O−ビス
−BOC−ヒドロキシルアミンが単離される。文献は、
ヒドロキシルアミン塩酸塩をt−ブチルアジドホルメー
トと反応させた場合にのみN,O−ビス生成物が得られ
ることを示唆しているので、これは意外なことである。
【0010】溶液のpHは、それが7〜11のpHを有する
塩基性溶液であるように調節する。上述した塩基の何れ
も使用することができそしてpHは塩基の選定に依存す
る。
【0011】反応は、塩基またはジ−t−ブチルカルボ
ネートと反応しない何れの溶剤を使用しても実施するこ
とができる。それ故に、第1または第2アミン、アルコ
ールまたはチオールは使用されないことが好ましい。水
は好ましい溶剤である。
【0012】N,O−ビス−BOC−ヒドロキシルアミ
ンは、トルエンによる抽出、t−ブタノールの共沸除去
による濃縮、およびヘキサンからの結晶化によって単離
される。
【0013】N,O−ビス−BOC−ヒドロキシルアミ
ンは、次の方法でアルキル化することができる。DMF
中の生成物を炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、またはカ
リウムt−ブトキシドまたは他のアルカリ金属のアルコ
キシドのような塩基および沃化エチルまたは臭化エチル
のようなハロゲン化アルキルで処理する。このアルキル
化反応は、典型的には、0〜70℃の温度で15分〜6
時間行われる。好ましくは、反応は、25〜35℃で3
0分〜1時間行われる。アルキル工程の温度は、アルキ
ル化剤の沸点によって調節される。
【0014】N−エチル−N,O−ビス−BOC−ヒド
ロキシルアミンは、水による稀釈、抽出および真空濃縮
によって、油として単離される。
【0015】酢酸エチル中のこの油状物を、30〜40
℃で30分〜3時間HClまたは他の適当な酸で処理
し、化合物のN,O−ビス−BOC部分を開裂するとH
Clを使用したときに、N−エチルヒドロキシルアミン
塩酸塩を高い収率で得る。BOC基を円滑に開裂するた
めには、大なる量の塩酸が必要である。BOC基を開裂
するのに、2当量以上の大なる量のHClが必要であ
る。HClの量は、2〜7当量の範囲にあり、好ましい
範囲は、酸5〜6当量である。
【0016】第1の工程における反応剤の比は、ヒドロ
キシルアミン塩酸塩1モル当りBOC触媒2モルであ
る。しかしながら、収量の有意な減少なしに、塩酸塩1
モル当りBOC触媒3モルまでの比において、反応を実
施することができる。
【0017】本発明の方法を、さらに以下の実施例によ
り説明する。部、割合、比および%は、とくに説明しな
い限りは重量による。
【0018】実施例1 (a) N,O−ビス−BOC−ヒドロキシルアミンへの
ヒドロキシルアミン塩酸塩の変換 ヒドロキシルアミン塩酸塩(1モル)を、H2O(50
0ml)中のNa2CO3(1.25モル)に加え、それか
ら、35〜40℃で3時間にわたって加えられるジ−t
−ブチルジカルボネート(BOC)(2.0〜2.2当
量)で処理する。トルエン(2:1v/v)による抽
出、t−ブタノールの共沸除去による濃縮およびヘキサ
ン(1:1v/v)からの結晶化後、N,O−ビス−B
OC−ヒドロキシルアミン(融点70〜72℃)が高収
量で単離される。3回の同様な反応からの生成物を合体
しそしてヘキサンから再結晶して精製された生成物62
9gを得た。
【0019】(b) N−エチル−N,O−ビス−BOC
−ヒドロキシルアミンへのアルキル化 ジメチルホルムアミド(3:1v/v)中のN,O−ビ
ス−BOC−ヒドロキシルアミン(1.35モル)を炭
酸カリウム(1.25当量、ミル処理した)および沃化
エチル(1.025当量)で処理する。沃化エチルは、
30℃で3/4時間にわたり加える。N−エチル−N,O−
ビス−BOC−ヒドロキシルアミンへの完全な変換は沃
化エチルの添加後30分/30℃において、薄層クロマ
トグラフィーにより観察される。H2O(8:1v/
v)による稀釈、トルエン(2:1v/v)による抽
出、水(4×3:1v/v)による洗浄および真空濃縮
後、2回の同様な反応から、生成物(704.7g)が
油状物として単離される。
【0020】(c) N−エチルヒドロキシルアミン塩酸
塩への開裂 酢酸エチル(3:1v/v)中のN−エチル−N,O−
ビス−BOC−ヒドロキシルアミン(1.35モル)
を、37℃で 1 3/4時間にわたって添加したHCl
(5.5当量、無水)で処理する。生成物を真空濃縮し
て高収量でN−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩12
9.8gを得た。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 不活性溶剤および塩基の存在下において
    ヒドロキシルアミン塩酸塩をジ−t−ブチルジカルボネ
    ートと反応させ、得られたN,O−ビス−〔(1,1−ジ
    メチルエトキシ)カルボニル〕−ヒドロキシルアミン塩
    酸塩をエチル化剤と反応させそしてそれから酸でエチル
    化生成物のt−ブチルオキシカルボニル部分を開製させ
    ることからなるN−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩の
    製法。
  2. 【請求項2】 塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
    重炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
    またはトリエチルアミンから選択されたものである請求
    項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 不活性溶剤が水、ジクロロメタンまたは
    ジオキサンである請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 ジ−t−ブチルジカルボネートを、10
    〜60℃の温度で0.5〜6時間にわたってヒドロキシ
    ルアミン塩酸塩に加える請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 ヒドロキシルアミン塩酸塩1モルをジ−
    t−ブチルジカルボネート2〜3モルと反応させる請求
    項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 エチル化剤がハロゲン化エチルである請
    求項1記載の方法。
  7. 【請求項7】 ハロゲン化エチルが沃化エチルおよび臭
    化エチルから選択されたものである請求項6記載の方
    法。
  8. 【請求項8】 ヒドロキシルアミン塩酸塩を、不活性溶
    剤および塩基の存在下において、ジ−t−ブチルジカル
    ボネートと反応させることからなるN,O−ビス〔(1,
    1−ジメチルエトキシ)−カルボニル〕−ヒドロキシル
    アミン塩酸塩の製法。
  9. 【請求項9】不活性溶剤が水でありそして塩基が炭酸ナ
    トリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
    リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたはトリ
    エチルアミンから選択されたものである請求項8記載の
    方法。
  10. 【請求項10】 ジ−t−ブチルジカルボネートを、1
    0〜60℃の温度で0.5〜6時間にわたって2:1〜
    3:1のモル比で、ヒドロキシルアミン塩酸塩に加える
    請求項8記載の方法。
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