JPH05317719A - パラージアルキル置換ベンゼンの選択的製造触媒及び方 法 - Google Patents

パラージアルキル置換ベンゼンの選択的製造触媒及び方 法

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JPH05317719A JP3130710A JP13071091A JPH05317719A JP H05317719 A JPH05317719 A JP H05317719A JP 3130710 A JP3130710 A JP 3130710A JP 13071091 A JP13071091 A JP 13071091A JP H05317719 A JPH05317719 A JP H05317719A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 パラジアルキル置換ゼンベンの選択的製造、
特にトルエンの選択的不均化によるキシレンの製造用触
媒を提供する。 【構成】 有機成分のない反応混合物からつくられ、有
機ケイ素化合物で変性された拘束係数1〜12のゼオラ
イトを有する触媒。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はパラジアルキル置換ベン
ゼンの選択的製造触媒及び方法に関し、特にトルエンか
らパラキシレンへの選択的不均化用の触媒と方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】パラジアルキル置換ベンゼンの選択的製
造法は公知である。たとえば米国特許第4,090,9
81号は多孔質結晶性アルミノシリケートゼオライトを
シリカで被覆し次いで酸素含有雰囲気中で300℃以上
の温度で加熱することによる、パラジアルキル置換ベン
ゼンの製造に特に適する触媒の製造法を開示している。
米国特許第4,117,026号は酸化マグネシウム又
はコークを含む困難な還元性の酸化物で予備処理したゼ
オライトを用いてモノアルキルベンゼンを不均化するジ
アルキルベンゼンの製造法を開示している。米国特許第
4,465,886号はパラジアルキル置換ベンゼンの
選択的製造用のシリカ変性触媒を開示している。米国特
許第4,477,583号はパラジアルキル置換ベンゼ
ンの選択的製造に有用な、シリカ被覆をもつ結晶性ゼオ
ライトからなる組成物の製造法が開示されている。これ
らの特許は有機窒素テンプレートの存在下に合成したゼ
オライト触媒の使用を意図している。以後「有機触媒」
と称するこれら触媒は米国特許第3,702,886号
に開示されている。
【0003】
【発明の開示】一の観点において本発明は(a)1−1
2の拘束係数をもち、(b)有機指向剤を含まないゼオ
ライト形成用混合物からつくられ、且つ(C)有機ケイ
素化合物による処理で変性されたゼオライトからなるこ
とを特徴とするパラージアルキル置換ベンゼンの選択的
製造触媒に関する。
【0004】別の観点において、本発明は上記触媒をパ
ラジアルキル置換ベンゼンの選択的製造に使用すること
に関する。
【0005】本発明方法は従来法に比し所定の転化率に
てより高いパラ選択性を与える。本発明方法はまた従来
法に比しより低温でより高い選択率でパラジアルキル置
換ベンゼンを得るのに有効である。
【0006】本発明触媒は1〜12の拘束係数(Con
straint Index)を示す本質的に形状選択
性のゼオライトを用いる。拘束係数とその測定法は米国
特許第4,016,218号に記載されている。代表的
なゼオライトのいくつかについての(テスト温度での)
拘束係数(CI)値を次に示す。
【0007】本発明に有用なゼオライトは290〜53
8℃の範囲のある温度で1〜12の範囲の拘束係数をも
つ。
【0008】本発明での使用に有用なゼオライトの例と
してはZSM−5,ZSM−11,ZSM−12,ZS
M−22,ZSM−23,ZSM−35,ZSM−4
8,ZSM−50及びべータがある。これらのうちでも
特にZSM−5が好ましい。ZSM−5は米国特許第
3,702,886号に、またZSM−11は米国特許
第3,709,979号に記載されている。さらにZS
M−12は米国特許第3,832,449号に、ZSM
−22はカナダ特許第1,210,747号に、ZSM
−23は米国特許第4,076,842号に、ZSM−
35は米国特許第4,016,245号に、ZSM−4
8は米国特許第4,397,827号に、ZSM−50
は米国特許第4,640,849号に、またゼオライト
ベータは米国特許第3,308,069号に記載されて
いる。
【0009】本発明で目的とする選択性と活性を達成す
るために用いるゼオライトは有機指向剤(direct
ing agent)を含有しない形成用混合物から合
成される。たとえば、ZSM−5はしばしばテトラプロ
ピルアンモニウムカチオンの存在下に製造されるが、有
機指向剤非存在下でのZSM−5の合成も公知であり、
たとえば米国特許第4,175,114号及び4,25
7,885号に記載されている。好ましくは、用いるゼ
オライトがZSM−5の場合には、合成用混合物は有機
指向剤を含有しないだけでなく、20wt%以上、より
好ましくは25〜40wt%の固体含量を有し、また水
性シリケート溶液から、好ましくは酸を用いて、連続的
に沈澱させてつくったシリカ源を用いる。かかる沈澱シ
リカ源の製造とZSM−5の合成での使用はEP−A−
202797号に記載されている。
【0010】本発明で好ましく用いられるゼオライトは
55/1より小さいシリカ/アルミナモル比、より好ま
しくは30/1より小さいシリカ/アルミナモル比をも
つ。
【0011】本発明の触媒の製造に用いられるゼオライ
トは好ましくは約150秒−1×10−6以下、より好
ましくは120秒−1×10−6以下、最も好ましくは
100秒−1×10−6以下の拡散定数(D/r)を
示す。拡散性及び拡散速度は米国特許第4,117,0
26号に記載の測定法に従って、o−キシレンを(全o
−キシレン容量の)30%吸着するに要する時間(t
0.3)を測定することによって求められる。この特徴
的拡散速度t0.3は臨界物質移動特性r/D(ここ
でDは拡散係数(cm/秒)でありrは結晶半径(c
m)である)の直接的尺度であり実験で求めうる。
【0012】拡散パラメーターは平らなシートモデルが
拡散プロセスを描くと仮定することにより吸着速度から
計算される。各吸着質増量(sorbate load
ing)Q/Q∞=0.3(全o−キシレン容量の30
%のo−キシレンに対し)(ここでQ∞は平衡吸着質増
量である)に対して(Dt/r1/2値がある(こ
こでD,t,rはそれぞれ拡散係数(cm/秒)、時
間(秒)(これは実験で求めうる)及び結晶半径(c
m)である)。所定の吸着増量に達するに要する吸着時
間からD/rを直接計算しうる。
【0013】吸着測定はデュポン社の装置サーモグラビ
メトリックアナライザーモデル951及びサージ社の装
置シリンジポンプモデル355を用いて行なう。キシレ
ン吸着と拡散の測定は水素型ゼオライトの新しい試料5
0mgを窒素流中で500℃で一定重量になるまで加熱
することによって行なわれる。この温度を120℃に下
げ、オルソ又はパラのいづれかのキシレンをシリンジポ
ンプによってTGAモジュールに移送する。直ちにこの
炭化水素を蒸発させゼオライト上を60cc/分窒素パ
ージで流す。オルソキシレンの平衡到達が遅いことから
平衡キシレン容量を得るのにパラキシレンを用いる。
【0014】本発明での使用前にゼオライトを有機ケイ
素化合物処理して変性する。好ましい有機ケイ素化合物
はゼオライトの細孔に入ることが実質上できない分子サ
イズをもつものである。好ましいケイ素化合物は一般式
【0015】
【化1】
【0016】但しRは水素、フッ素、ヒドロキシ、ア
ルキル、アラルキル、アルカリール又はフルオロアルキ
ルである、をもつ。炭化水素置換基は一般に炭素原子1
〜10をもち特にメチル又はエチル基が好ましい。R
は水素以外及びRが水素のときはメチル以外のR
同じ基から選ばれ、nは少なくとも10、好ましくは1
0〜1000の範囲の整数である。用いるケイ素化合物
の分子量は通常500〜20000、好ましくは100
0〜10000の範囲である。代表的なケイ素化合物に
はジメチルシリコーン、ジエチルシリコーン、フェニル
メチルシリコーン、エチルハイドロジェンシリコーン、
フェニルハイドロジェンシリコーン、メチルエチルシリ
コーン、フェニルエチルシリコーン、ジフェニルシリコ
ーン、メチルトリフルオロプロピルシリコーン、エチル
トリフルオロプロピルシリコーン、ポリジメチルシリコ
ーン、テトラクロロフェニルメチルシリコーン、テトラ
クロロフェニルエチルシリコーン、テトラクロロフェニ
ルハイドロジェンシリコーン、テトラクロロフェニルフ
ェニルシリコーン、メチルビニルシリコーン及びエチル
ビニルシリコーンがある。また、有機ケイ素化合物はシ
ロキサン、アルキル及び/又はアルコキシシラン、又は
ポリシランでもよい。
【0017】ゼオライトの変性はゼオライトを有機溶媒
にとかした有機ケイ素化合物の溶液と、通常10〜20
0℃で0.2〜5時間接触させ、次いで溶媒を蒸発除去
することによって行なわれる。または、ゼオライトを有
機ケイ素化合物の水性エマルジョンと接触させ次いで水
を蒸発させてもよい。いづれの場合もケイ素処理したゼ
オライトを空気中にて、好ましくは350〜550℃で
1〜24時間、焼成してシリカを0.5〜30重量%、
好ましくは1〜15重量%含有するシリカ被覆ゼオライ
トを得る。
【0018】本発明の触媒は安定にして再生しうる。シ
リカ被膜のデポジットによって達成される選択的活性化
(selectivation)は永久的なもので、実
質上触媒再生によって悪影響を受けない。反対に、米国
特許第4,117,026号に開示されているようなコ
ークによって選択活性化した触媒は各再生サイクルの後
にプレコーキングをする必要がある。
【0019】本発明方法で使用する前に、好ましくはシ
リカ被覆ゼオライトをたとえば無機酸化物支持体又はク
レーバインダー等の支持体又はバイングー物質と合体す
る。好ましいバインダー物質の例にはアルミナ、ゲルマ
ニア、ジルコニア、シリカ、マグネシア、トリア、チタ
ニア、ボリア及びそれらの組合せがあり、通常これらは
乾燥無機酸化物ゲル又はゲル状沈澱の形で用いられる。
しかし一般には、シリカ、ゲルマニア、チタニア又はジ
ルコニア等の低い酸性の耐火性酸化物バインダーが好ま
しく、シリカがより好ましい。触媒とバインダー又は支
持体の全組成中のゼオライトの相対比は組成物当りゼオ
ライト含量が30〜90重量%、通常50〜80重量%
の範囲で広くかえうる。この組成物は押出物、ビーズ又
は流動性微粒子の形で用いうる。
【0020】本発明の触媒はベンゼン又は置換ベンゼン
化合物のアルキル化、置換ベンゼン化合物の不均化に好
適である。好ましい置換ベンゼン化合物はアルキル置換
基に炭素原子1〜4をもつアルキル置換ベンゼン化合物
であり、好ましいアルキル化剤は炭素原子1〜4をも
つ。この触媒は特にトルエンの不均化によるパラキシレ
ンの製造に有用である。
【0021】本発明方法は温度260〜650℃(50
0〜1200°F)、好ましくは315〜480℃(6
00〜900°F)、圧力1480〜7000kPa
(200〜1000psig)、好ましくは2860〜
5620kPa(400〜800psig)、重量時間
空間速度(WHSV)1/2〜20、好ましくは4〜1
0のような反応条件で行なわれうる。重量時間空間速度
は毎時反応器を通って流れる液体の重量を触媒中のゼオ
ライトの重量で割ったものである。
【0022】以下本発明を実施例と図面に基づいて説明
する。図は本発明の新しい触媒と再生触媒の選択率と活
性を比較するグラフである。
【0023】実施例1(比較実施例):米国特許第3,
702,886号記載の方法に従ってテトラプロピルア
ンモニウムブロマイドを用いて有機ZSM−5ゼオライ
トをつくった。このZSM−5生成物を分析するとSi
/Alモル比は25.4だった。このゼオラ
イトをシリカー押出ししてZSM−5 65wt%及び
シリカ35wt%を有する押出物をつくった。この押出
物を窒素中で540℃(1000°F)で5〜6時間焼
成し、次いで1NのNHNOを用い室温で一夜イオ
ン交換し、130℃(266°F)で乾燥し、次いで空
気中で炉温を1℃/分の速度で昇温して540℃(10
00°F)で焼成し、この温度で5〜6時間保持し、か
くしてゼオライト成分を水素型にかえた。へキサン20
ccに溶解したフェニルメチルシリコーン(分子量約1
686)0.6gにこの押出物2.5gを加えた。この
混合物を20℃(68°F)に加熱してへキサン溶媒を
除き、残渣を空気中で、1℃/分で540℃(1000
°F)まで昇温しての温度に7時間保持して焼成した。
生成物はシリカ変性剤を10wt%含有するシリカ被覆
触媒だった。
【0024】実施例2:米国特許第4,175,114
号の記載に従って非有機ZSM−5ゼオライトをつくっ
た。このZSM−5の分析の結果、SiO/Al
モル比は26だった。このゼオライトを上記実施例1
(比較実施例)と同様にしてシリカー押出しし、水素型
に変換し、シリコーン処理した。
【0025】実施例3:バインダーとしてシリカの代り
にアルミナを用いて押出しを行なう以外は実施例2に従
って触媒をつくった。最終触媒はシリカ変性剤を10w
t%含有していた。
【0026】実施例4:2倍量のフェニルメチルシリコ
ーンを用いる以外は実施例3に従って触媒をつくった。
最終触媒はシリカ変性剤を20wt%含有していた。
【0027】実施例5:フェニルメチルシリコーンの代
りにジメチルシリコーン(分子量4835、押出物2.
5g当りヘキサン20cc中0.4g)を用いる以外は
実施例2に従って触媒をつくった。最終触媒はシリカ変
性剤を10wt%含有していた。
【0028】各触媒のトルエン不均化活性をマイクロユ
ニット中でしらべた。各実験で、2〜2.3gの1/1
6”押出物触媒を4〜5gの砂と混合した。この混合物
を外側直径1cmのステンレススチール反応器に入れ、
圧力3550kPa(500psig)、WHSV(ゼ
オライト)4〜8、2H/HC、温度363〜482
℃(685〜900°F)の条件下に2実験を行なっ
た。用いたトルエンは活性アルミナを用いて瀘過して精
製した。液体及びガス生成物をガスクロマトグラフィー
で分析した。
【0029】表1に実施例1のシリコーン変性有機ゼオ
ライト触媒を用いたトルエン不均化の結果を示す。全反
応条件範囲にわたりp−キシレン選択率が平衡に近いこ
とがわかる。表2に実施例2及び5のシリカ結合した、
シリコーン変性非有機ゼオライト触媒を用いた選択的ト
ルエン不均化の結果を示す。比較のために非変性の、シ
リカ結合した非有機触媒を用いて得た結果も含めた。シ
リコーン変性触媒が平衡をはるかに越えたキシレンパラ
選択率を示す点で顕著にすぐれていることがわかる。表
3に実施例3及び4のアルミナ結合した、シリコーン変
性非有機触媒を用いた結果を示す。比較のために非変性
のアルミナ結合した、非有機触媒を用いて得た結果も含
めた。これらの結果はシリカ結合した触媒に比し、高い
キシレンパラ選択率を達成するのにシリカ変性剤をより
多くつける必要のあることを示している。
【0030】
【表1】
【0031】
【表2】
【0032】
【表3】
【0033】実施例6:実施例2の触媒の活性、P−キ
シレン選択率、エージング特性及び再生性を図1及び表
4に示す。この実験では、触媒はまだ十分に活性だった
が、その再生性を示すために、最初のサイクルを63日
後スチームで強制的にとめた。この触媒を、空気中で1
℃/分で540℃(1000°F)まで昇温させ同温度
で4時間保持して焼成して再生した。図1及び表4から
わかるように、再生触媒の触媒性能は新しい触媒と実質
上同じである。また本発明の触媒は従来例のコーク選択
活性化触媒に比し顕著に高い活性を示すことが図1から
わかる。表4に本発明触媒を用いて得た選択性とコーク
選択活性化ZSM−5の代表的結果を比較して示す。
【0034】
【表4】
【0035】実施例7:米国特許第4,175,114
号の記載に従ってつくった非有機ZSM−5ゼオライト
を実施例1と同様にシリカ押出しし、水素型に変換し
た。これをフェニルメチルシリコーンの90%水性エマ
ルジョンと混合し、水を除き、540℃(1000°
F)で焼成して、シリカ変性剤9wt%を含有する触媒
をつくった。この触媒をトルエンの不均化に用いて42
0℃(790°F)でのP−キシレン選択率85%と転
化率30%の結果を得た。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の新しい触媒と再生触媒の選択率と活性を比
較するグラフである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年6月1日
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の新しい触媒と再生触媒の選択率
と活性を比較するグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラレンス デイトン チャン アメリカ合衆国ニュージャージー州 08540 プリンストン マレイプレース 11 (72)発明者 スコット ハン アメリカ合衆国ニュージャージー州 08648 ローレンスビル バレリーレーン 4 (72)発明者 デビッド オーエン マーラー アメリカ合衆国ニュージャージー州 08096 #272ビー デットフォード クー パーストリート 801 (72)発明者 ドナ ミツコ アメリカ合衆国ニュージャージー州 08852 モンモースジャンクシヨン ジョ ージス ロード 1607 (72)発明者 デビッド セッド シハビ アメリカ合衆国ニュージャージー州 08534 ボックス 334エー ペニントン、 ハーバートン−ウッドビル ロード アー ルアール1 (番地なし)

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)1−12の拘束係数をもち、
    (b)有機指向剤を含まないゼオライト形成用混合物か
    らつくられ、且つ(c)有機ケイ素化合物による処理で
    変性されたゼオライトからなることを特徴とするパラー
    ジアルキル置換ベンゼンの選択的製造触媒。
  2. 【請求項2】 該ゼオライトがZSM−5からなる請求
    項1記載の触媒。
  3. 【請求項3】 該ゼオライトが55/1より小さいシリ
    カ/アルミナモル比を持つ請求項1又は2記載の触媒。
  4. 【請求項4】 該ゼオライトが30/1より小さいシリ
    カ/アルミナモル比を持つ請求項1又は2記載の触媒。
  5. 【請求項5】 該ゼオライトが150秒−1×10−6
    より小さい拡散速度定数(D/r)を示す請求項1〜
    4のいづれか1項記載の触媒。
  6. 【請求項6】 該ゼオライトの変性が有機ケイ素変性ゼ
    オライトを酸化雰囲気中で加熱して有機ケイ素化合物を
    シリカに変換することを包含する請求項1〜5のいづれ
    か1項記載の触媒。
  7. 【請求項7】 該変性ゼオライトが0.5−30wt%
    のシリカを含有する請求項6記載の触媒。
  8. 【請求項8】 シリカ、ゲルマニア、チタニア及びジル
    コニアから選ばれたバインダーを含有する請求項1〜7
    のいづれか1項記載の触媒。
  9. 【請求項9】 アルキル置換基が1ー4の炭素原子を持
    つモノアルキル置換ベンゼンを請求項1〜8のいづれか
    1項記載の触媒の存在下に不均化せしめることを特徴と
    するパラジアルキル置換ベンゼンの選択的製造法。
  10. 【請求項10】 該モノアルキル置換ベンゼンがトルエ
    ンである請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】 ベンゼン及び/又はアルキル置換基が
    1−4の炭素原子を持つモノアルキル置換ベンゼンを請
    求項1〜8のいづれか1項記載の触媒の存在下に1〜4
    個の炭素原子を有するアルキル化剤と接触させることを
    特徴とするバラジアルキル置換ベンゼンの選択的製造
    法。
  12. 【請求項12】 反応を260〜650℃(500〜1
    200°F)の温度、1480〜7000kPa(20
    0〜1000psig)の圧力及び1/2〜20の重量
    時間空間速度の条件下に行なう請求項9〜11のいづれ
    か1項記載の方法。
  13. 【請求項13】 反応を315〜480℃(600〜9
    00°F)の温度、2860〜5620kPa(400
    〜800psig)の圧力及び4〜10の重量時間空間
    速度の条件下に行なう請求項9〜11のいづれか1項記
    載の方法。
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