JPH0531465B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は、紫外線透過防止に極めて優れた効果
をもつ印刷回路用積層板に関するものである。 〔従来技術〕 印刷配線板は、通常その最外層の導体パターン
層上に、はんだ付け時の導体間のはんだブリツジ
の防止または導体パターンの永久保護のために、
ソルダーレジストが形成される。 ソルダーレジストの形成にはスクリーン印刷法
と感光性樹脂を用いた写真焼き付け法とがある。
従来、スクリーン印刷法が多く行なわれてたが、
電子部品の小型化とチツプ化が進むにつれ、印刷
配線板への実装密度が高くなつてきたため、スク
リーン印刷法は精密度、作業性の点で実用性が小
さくなつてきている。そこでスクリーン印刷法に
かわつて、感光性樹脂（フオトレジスト）を用い
ネガテイブまたはポジテイブマスクによる写真焼
き付け法で行なわれるようになつてきた。 ところが、写真焼き付け法では、積層板の両面
印刷回路上でフオトレジストを両面同時露光する
場合、露光時フオトレジストを透過した光がさら
に積層板内を透過し、互いに反対面のフオトレジ
ストをも露光してしまい、本来の目的であるソル
ダーレジストの精度が不十分となる現象が知られ
るようになつた。特に積層板の厚さが1.6mm以下
の場合光の透過率が大きいことが知られている。 このため、フオトレジストの厚さを大（50〜
80μ）にしたフオトレジストフイルムを使用した
り、特公昭54−34140の如く積層板の最表面とな
る基材にポリイミド変性樹脂を用いた積層板を用
いたりしている。しかし、フオトレジストの厚み
を大にすると、ソルダーレジストとしての性能を
十分発揮するためには露光現像後さらに余分の硬
化時間を必要とする。一方、積層板の一部にポリ
イミド変性樹脂を用いることはコストが大となる
上、未だ光の透過防止が不充分である欠点を有し
ている。これらの欠点をなくすため、光遮蔽性物
質を積層板内に含有せしめて光の透過防止の役目
をさせる方法が考えられている（特開昭54−
32769）。 本発明者らは、各種の光遮蔽物質を検討した結
果、有機の紫外線吸収剤の中でも特定の紫外線波
長吸収領域をもつものが光透過防止に効果がある
ことを見つけたが、積層板への含有率を高める
と、印刷回路板としての性能の低下、例えば加熱
による変色、耐溶剤性の低下、各種性能の熱劣化
が生じる等の欠点を有していた。 またその含有率を小さくすると、特に1.2mm以
下の厚さの積層板では光透過防止の効果が小さい
という欠点を有していた。さらに無機の紫外線遮
蔽剤においても、特に酸化物に効果があることが
判つたが、光透過防止が可能な量を樹脂に配合し
塗工含浸させる際、樹脂と無機酸化物の比重の違
いにより、均一に含浸させることが困難であり、
つくられた積層板の光透過率にばらつきを生じる
欠点を有していた。 〔発明の目的〕 本発明は、印刷回路用積層板としての性能を維
持しつつ、しかも光透過防止に優れた効果を有す
る積層板を得んとして研究した結果、有機の紫外
線吸収剤と無機酸化物として酸化チタンとを合わ
せて従来の積層板用樹脂に配合することにより、
本発明を完成するに至つたものである。 〔発明の構成〕 本発明は、エポキシ樹脂を含浸し乾燥したガラ
ス織布またはガラス不織布基材を積層成形する積
層板の製造方法において、樹脂分に対して、波長
が300nｍ〜400nｍの紫外線を吸収する有機の紫
外線吸収剤を0.1〜５重量％、及び最大粒径40μｍ
以下の酸化チタンを0.1〜５重量％併せて配合す
ることを特徴とする印刷回路用積層板の製造方法
である。 本発明に用いられる有機紫外線吸収物質は、ヒ
ドロキシベンゾフエノン類、ヒドロキシフエニル
ベンゾトリアゾール類であり、このようなものと
しては、例えば、２−ヒドロキシ−４−オクトキ
シベンゾフエノン、２−（2′−ヒドロキシ−5′−
メチルフエニル）−ベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフ
エニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−5′−ｔ−オクチルフエニル）−
ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５
−メチル−２−ヒドロキシフエニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾールなどをあげるこができる。
いずれも波長が300nｍ〜400nｍの紫外線を吸収
するものである。 本発明に使用するのに適した
ものは２−（2′−ヒドロキシ−3′−ｔ−ブチル−
5′−メチルフエニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール及び２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−
２−ヒドロキシフエニル）−５−クロロベンゾト
リアゾールである。 また、本発明においては、有機の紫外線吸収剤
とともに酸化チタンの微粉末を配合する。 本発明における製造方法の特徴は、通常用いる
エポキシ樹脂ワニス中に有機紫外線吸収剤を樹脂
分に対して0.1〜５重量％溶解させておき、つい
で酸化チタンを0.1〜５重量％を入れ均一に分散
させ、ガラス基材に含浸させるものである。有機
の紫外線吸収剤を５重量％以上配合すると、積層
板の耐溶剤性、耐熱性が不良になり、0.1重量％
以下では、板厚が1.6mm以下になると光透過防止
効果が弱くなる。また酸化チタンを５部以上入れ
るとワニス中への分散が不均一になり、比重の違
いにより酸化チタンの沈降を生じる傾向がある。
酸化チタンの粒径は微粒径が良く、最大粒子径
40μｍ以下、好ましくは10〜100ｍμ又はそれ以
下である。粒径が40μｍより大きい場合は、ガラ
ス織布又はガラス不織布による過作用のため積
層板中での酸化チタンの分布が不均一になり、ま
た積層板表面での凹凸による回路精度が悪くな
る。ワニス中の酸化チタンの沈降を防止するため
にさらに超微粒子シリカやレベリング剤を添加す
ることも可能である。 〔発明の効果〕 本発明により得られた印刷回路用積層板は次の
ような特徴を有している。 (i) 波長が300nｍ〜400nｍの紫外線を吸収する
有機紫外線吸収剤と酸化チタンとを合わせて配
合しているので紫外線遮蔽効果が大きく、積層
板の両面に塗布されたフオトレジストを同時露
光する場合、互いに他面のフオトレジストを露
光するというトラブルを完全に防止することが
できる。 (i) 積層板用ワニスに配合される有機紫外線吸収
剤の量は少量であるので、電気特性、化学特
性、機械加工性も従来の積層板と同等である。 〔実施例〕 以下、実施例及び比較例を示す。 実施例 エピコートEP−1046（油化シエル社製臭素化ビ
スフエノールＡエポキシ樹脂）100重量部、ジシ
アンジアミド４重量部、２−エチル−４−メチル
イミダゾール0.15重量部、有機紫外線吸収剤とし
て２−（2′−ヒドロキシ−3′−ｔ−ブチル−5′−メ
チルフエニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
２重量部、酸化チタン粉末（粒径10〜100ｍμ）
４重量部を総固形分として50重量％となるようメ
チルエチルケトン及びメチルセロソルブの溶剤で
溶解及び均一に撹拌しワニス溶液とした。このワ
ニスをガラス織布に含浸させ乾燥させたのち、樹
脂分45％のガラスプリプレグを得た。このプリプ
レグを３枚重ね更にその両面に18μｍ銅箔を１枚
ずつ重ね、加熱温度165℃、圧力60Kg／cm²で90分
間過熱加圧成形して厚さ0.6mmの両面銅張積層板
を得た。 同様にして前記プリプレグを８枚重ね、厚さ
1.6mmの両面銅張積層板を得た。次に、得られた
銅張積層板をエツチングして銅を除去し、その基
板を紫外線照度計（オーク製作所製、感波長範囲
320〜390nｍ）のセンサー部上に置き、紫外線を
照射しその透過照度を計測し透過率を計算した。 比較例 １ 有機の紫外線吸収剤と酸化チタンを含まないこ
とを除いては実施例と同様にして厚さ0.6mmと1.6
mmの両面銅張積層板を得、実施例と同様にして透
過照度を計測し透過率を計算した。 比較例 ２ 酸化チタンを含まないことを除いて、実施例と
同様にして厚さ0.6mmと1.6mmの両面銅張積層板を
得、実施例と同様にして透過照度を計測し透過率
を計算した。 比較例 ３ 有機の紫外線吸収剤を含まないことを除いて、
実施例と同様にして厚さ0.6mmと1.6mmの両面銅張
積層板を得、実施例と同様にして透過照度を計測
し、透過率を計算した。 表１に実施例と比較例の紫外線透過率を示し
た。

【表】 実施例で用いた積層板のプリント回路板用とし
ての電気特性、化学特性、機械加工性は比較例１
で用いた従来の積層板と同等の性能を有してい
た。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ エポキシ樹脂を含浸し、乾燥したガラス織布
   またはガラス不織布基材を積層成形する積層板の
   製造方法において、樹脂分に対して、波長が
   300nｍ〜400nｍの紫外線を吸収する有機の紫外
   線吸収剤を0.1〜５重量％、及び最大粒径40μｍ以
   下の酸化チタンを0.1〜５重量％併せて配合する
   ことを特徴とする印刷回路用積層板の製造方法。