JPH05309243A - 再生処理方法 - Google Patents
再生処理方法Info
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- JPH05309243A JPH05309243A JP4142048A JP14204892A JPH05309243A JP H05309243 A JPH05309243 A JP H05309243A JP 4142048 A JP4142048 A JP 4142048A JP 14204892 A JP14204892 A JP 14204892A JP H05309243 A JPH05309243 A JP H05309243A
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- ions
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イオン吸着性微多孔膜を用いて原水よりイオ
ンを吸着、除去、精製するに際し、その吸着ライフを長
くする。 【構成】 アニオン基、カチオン基またはキレート基を
膜および孔表面に有するイオン吸着性微多孔膜に１種以
上のイオン含有水溶液を圧力濾過させた後、間欠的に脱
イオン水、好ましくは濾水、さらに好ましくは濾過温度
より少なくとも５℃高い濾水で逆洗し、その後再び圧力
濾過により原水を圧濾過させ、結果的にイオン吸着性微
多孔膜の吸着寿命を伸ばす。
ンを吸着、除去、精製するに際し、その吸着ライフを長
くする。 【構成】 アニオン基、カチオン基またはキレート基を
膜および孔表面に有するイオン吸着性微多孔膜に１種以
上のイオン含有水溶液を圧力濾過させた後、間欠的に脱
イオン水、好ましくは濾水、さらに好ましくは濾過温度
より少なくとも５℃高い濾水で逆洗し、その後再び圧力
濾過により原水を圧濾過させ、結果的にイオン吸着性微
多孔膜の吸着寿命を伸ばす。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体工業、原子力発
電設備等の分野における脱イオン水製造に用いられるイ
オン吸着性微多孔膜の再生処理方法に関する。
電設備等の分野における脱イオン水製造に用いられるイ
オン吸着性微多孔膜の再生処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】水中のイオンを除去することを目的とし
たプロセスには、現在主にゲル状（ビーズ状）イオン交
換樹脂が使用されている。しかし、イオン交換樹脂は、
その形態からくる本質的な欠陥のために、脱イオン（イ
オン除去率）の能力上に限界があり、具体的にはイオン
の除去レベルが低いこと、樹脂からの溶出成分があるこ
と、および樹脂容積あたりの処理速度が遅く、設備がコ
ンパクトにできない等の欠陥があった。
たプロセスには、現在主にゲル状（ビーズ状）イオン交
換樹脂が使用されている。しかし、イオン交換樹脂は、
その形態からくる本質的な欠陥のために、脱イオン（イ
オン除去率）の能力上に限界があり、具体的にはイオン
の除去レベルが低いこと、樹脂からの溶出成分があるこ
と、および樹脂容積あたりの処理速度が遅く、設備がコ
ンパクトにできない等の欠陥があった。
【０００３】最近これらの欠陥を根本的に解決するた
め、膜および孔の表面に各種のイオンを化学的に結合吸
着する官能基を膜および孔表面に有するイオン吸着性微
多孔膜を用いて処理する方法が試みられている。このイ
オン吸着性微多孔膜は、イオン交換樹脂に比べてイオン
との吸着反応が大部分膜および孔の表面で行なわれるた
め、反応速度が速く、かつ、イオン除去性もはるかに優
れていることが判っている。さらに、溶出成分も膜に比
べて低いことが判った。
め、膜および孔の表面に各種のイオンを化学的に結合吸
着する官能基を膜および孔表面に有するイオン吸着性微
多孔膜を用いて処理する方法が試みられている。このイ
オン吸着性微多孔膜は、イオン交換樹脂に比べてイオン
との吸着反応が大部分膜および孔の表面で行なわれるた
め、反応速度が速く、かつ、イオン除去性もはるかに優
れていることが判っている。さらに、溶出成分も膜に比
べて低いことが判った。
【０００４】ただ問題は、この吸着反応が膜の一方から
他方の方に比較的薄い膜厚の中で行なわれることと、反
応に必要な官能基が樹脂ほど多量に導入されない欠点を
もっており、寿命が若干低い欠点があった。さらに、孔
表面に吸着されたイオンが、種類によっては水中で保存
中または長期運転中片面に向かって拡散が起こり、寿命
がさらに短くなることも判った。
他方の方に比較的薄い膜厚の中で行なわれることと、反
応に必要な官能基が樹脂ほど多量に導入されない欠点を
もっており、寿命が若干低い欠点があった。さらに、孔
表面に吸着されたイオンが、種類によっては水中で保存
中または長期運転中片面に向かって拡散が起こり、寿命
がさらに短くなることも判った。
【０００５】一般に前記のイオン吸着性微多孔膜の再生
には、イオン交換樹脂の場合と同じく酸、アルカリ等の
薬品を用いて洗滌再生することは可能であるが、外部か
ら薬品を導入するため、系全体にコンタミが起こり、こ
れらの影響を完全になくすために、場合によっては数十
時間以上の超純水による洗滌を必要とする。したがっ
て、これらのイオン吸着性微多孔膜を用いてイオンを除
去、精製する場合には、濾水の品質上信頼性に不安が生
じると云う場合があった。
には、イオン交換樹脂の場合と同じく酸、アルカリ等の
薬品を用いて洗滌再生することは可能であるが、外部か
ら薬品を導入するため、系全体にコンタミが起こり、こ
れらの影響を完全になくすために、場合によっては数十
時間以上の超純水による洗滌を必要とする。したがっ
て、これらのイオン吸着性微多孔膜を用いてイオンを除
去、精製する場合には、濾水の品質上信頼性に不安が生
じると云う場合があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
のイオン吸着性微多孔膜を用いてイオンを含む原水を圧
力濾過によって吸着、除去、精製するに際し、その寿命
を長くし、かつ、濾水の水質の信頼性を向上させること
である。
のイオン吸着性微多孔膜を用いてイオンを含む原水を圧
力濾過によって吸着、除去、精製するに際し、その寿命
を長くし、かつ、濾水の水質の信頼性を向上させること
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記の課題
を解決するため鋭意研究の結果、以下の手段によって達
成できることを見出した。すなわち、本発明は、アニオ
ン基、カチオン基またはキレート基を膜および孔表面に
有するイオン吸着性微多孔膜に、１種以上のイオンを有
する原水を圧力濾過させることによって該イオンを吸
着、除去、精製する工程において、実質的に該イオンを
含まない脱イオン水で間欠的に逆洗濾過することを特徴
とするイオン吸着性微多孔膜の再生処理方法である。
を解決するため鋭意研究の結果、以下の手段によって達
成できることを見出した。すなわち、本発明は、アニオ
ン基、カチオン基またはキレート基を膜および孔表面に
有するイオン吸着性微多孔膜に、１種以上のイオンを有
する原水を圧力濾過させることによって該イオンを吸
着、除去、精製する工程において、実質的に該イオンを
含まない脱イオン水で間欠的に逆洗濾過することを特徴
とするイオン吸着性微多孔膜の再生処理方法である。
【０００８】本発明において、前記の脱イオン水として
イオン吸着性微多孔膜で原水を圧力濾過処理された濾過
水を用いる場合に、逆洗の効率が良いことが判った。さ
らに好ましくは、逆洗用脱イオン水として、濾過温度よ
りも少なくとも５℃高い温度を有する濾過水を用いる場
合である。さらに好ましい例としては、逆洗濾過時の圧
力が、該イオンを除去、精製する濾過時圧力よりも低い
圧力で行なった場合であることが判った。
イオン吸着性微多孔膜で原水を圧力濾過処理された濾過
水を用いる場合に、逆洗の効率が良いことが判った。さ
らに好ましくは、逆洗用脱イオン水として、濾過温度よ
りも少なくとも５℃高い温度を有する濾過水を用いる場
合である。さらに好ましい例としては、逆洗濾過時の圧
力が、該イオンを除去、精製する濾過時圧力よりも低い
圧力で行なった場合であることが判った。
【０００９】次に、詳しく本発明を説明する。本発明が
適用されるイオン吸着性微多孔膜とは、膜および孔の表
面にアニオン基、カチオン基またはキレート基を含有す
る微多孔膜である。例えば、アニオン基の例としては、
スルホン酸基、カルボン酸基等であり、ナトリウムイオ
ン等のカチオン基を吸着除去するものがあげられる。一
方、カチオン膜としては、第４級アンモニウム基〔−Ｎ
+ −Ｒ3 （ＯＨ- ）〕（ここで、Ｎは窒素、Ｒ3 はトリ
アルキル、ＯＨ- は水酸基）、４級化ピリジン基等であ
り、塩素イオン、酢酸イオン、溶解性シリカ等を吸着除
去するものがあげられる。さらに、キレート基として
は、イミノジ酢酸基等であり、コバルトイオン、ニッケ
ルイオン等の重金属イオンを吸着するものがあげられ
る。これらの製造方法は、例えば、特願昭６２−８３０
０６号に示されている。最も典型的な製造例は、ポリオ
レフィンまたはオレフィンハロゲン共重合体の多孔性膜
を基材膜として、これにガンマ線または電子線を窒素ま
たは真空雰囲気下で照射した後、重合性モノマーをグラ
フトさせ、さらに必要によっては、その他の薬品を反応
させて、アニオン基またはカチオン基またはキレート基
を膜および孔の表面に主体的に含有した微多孔性膜を製
造する。勿論本発明適用膜はこれに限定されず、コーテ
ィング等によって間接的に膜および孔表面に付加されて
いてもよい。
適用されるイオン吸着性微多孔膜とは、膜および孔の表
面にアニオン基、カチオン基またはキレート基を含有す
る微多孔膜である。例えば、アニオン基の例としては、
スルホン酸基、カルボン酸基等であり、ナトリウムイオ
ン等のカチオン基を吸着除去するものがあげられる。一
方、カチオン膜としては、第４級アンモニウム基〔−Ｎ
+ −Ｒ3 （ＯＨ- ）〕（ここで、Ｎは窒素、Ｒ3 はトリ
アルキル、ＯＨ- は水酸基）、４級化ピリジン基等であ
り、塩素イオン、酢酸イオン、溶解性シリカ等を吸着除
去するものがあげられる。さらに、キレート基として
は、イミノジ酢酸基等であり、コバルトイオン、ニッケ
ルイオン等の重金属イオンを吸着するものがあげられ
る。これらの製造方法は、例えば、特願昭６２−８３０
０６号に示されている。最も典型的な製造例は、ポリオ
レフィンまたはオレフィンハロゲン共重合体の多孔性膜
を基材膜として、これにガンマ線または電子線を窒素ま
たは真空雰囲気下で照射した後、重合性モノマーをグラ
フトさせ、さらに必要によっては、その他の薬品を反応
させて、アニオン基またはカチオン基またはキレート基
を膜および孔の表面に主体的に含有した微多孔性膜を製
造する。勿論本発明適用膜はこれに限定されず、コーテ
ィング等によって間接的に膜および孔表面に付加されて
いてもよい。
【００１０】なお、微多孔膜の平均孔径は数ミクロンか
ら数オングストロームの範囲で任意に採用されてよい。
さらに、前記イオン吸着性微多孔膜に含有されるアニオ
ン基またはカチオン基またはキレート基の量は、適用さ
れる用途によって、機械的物性と吸着容量のバランスで
決定される。
ら数オングストロームの範囲で任意に採用されてよい。
さらに、前記イオン吸着性微多孔膜に含有されるアニオ
ン基またはカチオン基またはキレート基の量は、適用さ
れる用途によって、機械的物性と吸着容量のバランスで
決定される。
【００１１】一般に、前記イオン吸着性微多孔膜を用い
てイオン含有原液を濾過吸着する時、その時の寿命（破
過するまでの容量）は、浸漬等による平衡吸着容量に比
し数分の１程度である。さらに、原液中のイオン濃度が
低く、かつ、処理速度が遅い場合（イオンの膜中での透
過速度が低い場合）には、一旦吸着されたイオンの濾過
側への移動が起こり、寿命を短くする。特にこの短寿命
化は、官能基との吸着力の弱いイオンの場合に大きい。
例えば、イミノジ酢酸系キレート基系での、Ｃｕ++、Ｎ
ｉ++、Ｚｎ++イオンの吸着力を比べた場合は、Ｚｎ++が
最も吸着力が低い。
てイオン含有原液を濾過吸着する時、その時の寿命（破
過するまでの容量）は、浸漬等による平衡吸着容量に比
し数分の１程度である。さらに、原液中のイオン濃度が
低く、かつ、処理速度が遅い場合（イオンの膜中での透
過速度が低い場合）には、一旦吸着されたイオンの濾過
側への移動が起こり、寿命を短くする。特にこの短寿命
化は、官能基との吸着力の弱いイオンの場合に大きい。
例えば、イミノジ酢酸系キレート基系での、Ｃｕ++、Ｎ
ｉ++、Ｚｎ++イオンの吸着力を比べた場合は、Ｚｎ++が
最も吸着力が低い。
【００１２】したがって、Ｃｕ++、Ｎｉ++、Ｚｎ++各イ
オン共存系の原水を、イオン吸着性微多孔膜で比較的速
い処理速度で吸着除去した場合、Ｚｎ++イオンは濾過時
にＣｕ++、Ｎｉ++イオンによって、膜の濾水側に吸着層
が追い立てられるだけでなく、自らの膜中拡散によって
濾水側に移動し、最後は濾水にリークされる。したがっ
て、イオン吸着性微多孔膜によって、官能基として吸着
力の異なる数種のイオンを吸着除去、精製する場合に
は、最も吸着力の弱いイオンのリークを抑制することが
課題になる。
オン共存系の原水を、イオン吸着性微多孔膜で比較的速
い処理速度で吸着除去した場合、Ｚｎ++イオンは濾過時
にＣｕ++、Ｎｉ++イオンによって、膜の濾水側に吸着層
が追い立てられるだけでなく、自らの膜中拡散によって
濾水側に移動し、最後は濾水にリークされる。したがっ
て、イオン吸着性微多孔膜によって、官能基として吸着
力の異なる数種のイオンを吸着除去、精製する場合に
は、最も吸着力の弱いイオンのリークを抑制することが
課題になる。
【００１３】このためには、実質的に該イオンを含まな
い脱イオン水で逆洗濾過することによって、前記の最も
弱い吸着力を示すイオンは再び内側に戻されるが、膜の
原水側では比較的強い吸着力をもつイオンで満たされて
いるため、その部分を通り抜けて原水側に流出してしま
う。この脱イオン水による最も吸着力の弱いイオンのリ
ーク抑制効果は絶大である。ここで脱イオン水とは、原
水中に存在するイオンに比し相当程度の低さの濃度とい
う意味であり、通常１／１０以下である。
い脱イオン水で逆洗濾過することによって、前記の最も
弱い吸着力を示すイオンは再び内側に戻されるが、膜の
原水側では比較的強い吸着力をもつイオンで満たされて
いるため、その部分を通り抜けて原水側に流出してしま
う。この脱イオン水による最も吸着力の弱いイオンのリ
ーク抑制効果は絶大である。ここで脱イオン水とは、原
水中に存在するイオンに比し相当程度の低さの濃度とい
う意味であり、通常１／１０以下である。
【００１４】単に前記の脱イオン水が濾過水である場
合、好ましい逆洗効果を与える。これは濾過水そのもの
が、原水中のイオンの吸着によって若干水素イオンまた
は水酸基濃度が増加するので、これによる脱着効果もあ
り、再生時間が短縮されるのと外部からの汚染もないこ
とによる。さらに、この濾過水が濾過温度も少なくとも
５℃以上の高温水の場合には、再生時間が短縮される。
さらに、一般的に再生そのものは化学反応であるため、
逆洗時の圧力は、濾過時圧力に比して低くした方が再生
効率の点で好ましい。
合、好ましい逆洗効果を与える。これは濾過水そのもの
が、原水中のイオンの吸着によって若干水素イオンまた
は水酸基濃度が増加するので、これによる脱着効果もあ
り、再生時間が短縮されるのと外部からの汚染もないこ
とによる。さらに、この濾過水が濾過温度も少なくとも
５℃以上の高温水の場合には、再生時間が短縮される。
さらに、一般的に再生そのものは化学反応であるため、
逆洗時の圧力は、濾過時圧力に比して低くした方が再生
効率の点で好ましい。
【００１５】なお、前記の間欠的に行なわれる逆洗頻度
は、使用目的によって大いに異なる。数十分間に１回と
いう時もあれば、数十日〜数百日に１度という間隔の場
合もある。これは濾水の必要性質にもよるが、前述した
ように、脱着すべきイオンの種類、その程度（再生レベ
ル）によって大いに異なる。なお、本適用技術は通常の
酸、アルカリ等による再生操作と組み合わせて使用され
ても良い。
は、使用目的によって大いに異なる。数十分間に１回と
いう時もあれば、数十日〜数百日に１度という間隔の場
合もある。これは濾水の必要性質にもよるが、前述した
ように、脱着すべきイオンの種類、その程度（再生レベ
ル）によって大いに異なる。なお、本適用技術は通常の
酸、アルカリ等による再生操作と組み合わせて使用され
ても良い。
【００１６】
【実施例】次に、実施例によって本発明の効果を示す。 実施例１ 特願平２−９７７６４号記載の実施例に示される方法
で、先ず、ポリエチレン（ＳＨ８００旭化成製）、ＤＯ
Ｐ、疎水性シリカを混合押出し後、ＤＯＰ、シリカを抽
出して中空糸状基材膜を得、ガンマ線を低温真空照射し
た後、グリシデルメタクリレートをポリエチレン多孔膜
の膜および孔表面に均一にグラフトさせ、次いでイミノ
ジ酢酸を反応させ、下記物性を有するキレート基含有イ
オン吸着性微多孔膜を得た。 外径 ３．８ミリ、 内径 ２．４ミリ 平均孔径1) ０．２０ミクロン 空孔率2) ５０％ イミノジ酢酸基含有率3) ３．４モル／ｍ・膜長さ １）ハーフエアドライ法（ＡＳＴＭ Ｆ３１６−７０）
による。 ２）重量法による。 ３）コバルトイオン浸漬平衡方法によって測定。
で、先ず、ポリエチレン（ＳＨ８００旭化成製）、ＤＯ
Ｐ、疎水性シリカを混合押出し後、ＤＯＰ、シリカを抽
出して中空糸状基材膜を得、ガンマ線を低温真空照射し
た後、グリシデルメタクリレートをポリエチレン多孔膜
の膜および孔表面に均一にグラフトさせ、次いでイミノ
ジ酢酸を反応させ、下記物性を有するキレート基含有イ
オン吸着性微多孔膜を得た。 外径 ３．８ミリ、 内径 ２．４ミリ 平均孔径1) ０．２０ミクロン 空孔率2) ５０％ イミノジ酢酸基含有率3) ３．４モル／ｍ・膜長さ １）ハーフエアドライ法（ＡＳＴＭ Ｆ３１６−７０）
による。 ２）重量法による。 ３）コバルトイオン浸漬平衡方法によって測定。
【００１７】前記微多孔性中空糸膜１３ｃｍを、膜の両
端が貫通されているエポキシシール部、シール部を通じ
て膜の内側と隔絶され、かつ、ノズルを有するハウジン
グ部、膜の外側と隔絶され、かつ、外部出口を有する２
ケのキャップからなる通常、圧力濾過に使用されるモジ
ュールに組み立てた。該モジュールに３．９ｐｐｍのＺ
ｎ+2イオンを含む水溶液（原子吸光測定用１，０００ｐ
ｐｍ標準溶液を蒸留水に加えて調製したもの）を５ｃｃ
／ｍｉｎ、水温度２３℃の条件で内側から濾過したとこ
ろ、Ｚｎ+2イオン１０．５ｍｇのところでＺｎ+2イオン
が濾過側にリークし破過を示した。次に、前記のモジュ
ールを充分に１．５Ｎ ＨＣｌで洗滌した後、下記操作
を加えて濾過したところ、下記に示す破過量を得た。
端が貫通されているエポキシシール部、シール部を通じ
て膜の内側と隔絶され、かつ、ノズルを有するハウジン
グ部、膜の外側と隔絶され、かつ、外部出口を有する２
ケのキャップからなる通常、圧力濾過に使用されるモジ
ュールに組み立てた。該モジュールに３．９ｐｐｍのＺ
ｎ+2イオンを含む水溶液（原子吸光測定用１，０００ｐ
ｐｍ標準溶液を蒸留水に加えて調製したもの）を５ｃｃ
／ｍｉｎ、水温度２３℃の条件で内側から濾過したとこ
ろ、Ｚｎ+2イオン１０．５ｍｇのところでＺｎ+2イオン
が濾過側にリークし破過を示した。次に、前記のモジュ
ールを充分に１．５Ｎ ＨＣｌで洗滌した後、下記操作
を加えて濾過したところ、下記に示す破過量を得た。
【００１８】（Ａ）Ｚｎ+2イオンの吸着量が５．２ｍｇ
の時に、膜の外側から濾液を通して１ｃｃ／ｍｉｎで１
０時間逆洗した後、再度膜の内側から濾過したところ、
Ｚｎ+2イオンの破過吸着量は１１．８ｍｇを示した。
の時に、膜の外側から濾液を通して１ｃｃ／ｍｉｎで１
０時間逆洗した後、再度膜の内側から濾過したところ、
Ｚｎ+2イオンの破過吸着量は１１．８ｍｇを示した。
【００１９】（Ｂ）さらにＨＣｌで洗滌後、上記（Ａ）
の操作で濾液の代わりに８０℃に加熱された濾液で、約
５時間逆洗したところ、Ｚｎ+2イオンの破過吸着量は１
８．０ｍｇを示した。さらに、前記と同じ寸法で作られ
た別のモジュールを用い、Ｚｎ+2イオン２ｐｐｍとＣｕ
+2イオン２ｐｐｍを含む溶液を用いて同じく５ｃｃ／ｍ
ｉｎの条件で内側から濾過したところ、Ｚｎ+2イオン吸
着量５．４ｍｇ、Ｃｕ+2イオン６．０ｍｇのところでそ
れぞれ破過を示した。次に、ＨＣｌで充分に再生洗滌
後、この条件に下記の操作を加えたところ、破過量は下
記のように変化した。
の操作で濾液の代わりに８０℃に加熱された濾液で、約
５時間逆洗したところ、Ｚｎ+2イオンの破過吸着量は１
８．０ｍｇを示した。さらに、前記と同じ寸法で作られ
た別のモジュールを用い、Ｚｎ+2イオン２ｐｐｍとＣｕ
+2イオン２ｐｐｍを含む溶液を用いて同じく５ｃｃ／ｍ
ｉｎの条件で内側から濾過したところ、Ｚｎ+2イオン吸
着量５．４ｍｇ、Ｃｕ+2イオン６．０ｍｇのところでそ
れぞれ破過を示した。次に、ＨＣｌで充分に再生洗滌
後、この条件に下記の操作を加えたところ、破過量は下
記のように変化した。
【００２０】（Ｃ）Ｚｎ+2イオンの吸着量１．７ｍｇお
よび３．４ｍｇの時に、８０℃で加熱された濾液を用い
て０．５ｃｃ／ｍｉｎでそれぞれ５時間逆洗したとこ
ろ、Ｚｎ+2イオン８．７ｍｇ、Ｃｕ+2１０．５ｍｇの破
過吸着量を示した。ここで、Ｚｎ+2およびＣｕ+2イオン
の濃度測定はフレームレス原子吸光法を用い、吸着量は
溶液を実際に膜に有効に濾過された濾過量をベースに計
算された〔（濾過速度×濾過時間−逆洗に要した濾液
量）×イオン濃度〕。
よび３．４ｍｇの時に、８０℃で加熱された濾液を用い
て０．５ｃｃ／ｍｉｎでそれぞれ５時間逆洗したとこ
ろ、Ｚｎ+2イオン８．７ｍｇ、Ｃｕ+2１０．５ｍｇの破
過吸着量を示した。ここで、Ｚｎ+2およびＣｕ+2イオン
の濃度測定はフレームレス原子吸光法を用い、吸着量は
溶液を実際に膜に有効に濾過された濾過量をベースに計
算された〔（濾過速度×濾過時間−逆洗に要した濾液
量）×イオン濃度〕。
【００２１】実施例２ 実施例１で調製されたポリエチレン基材膜に、ガンマ線
を低温真空照射後、ｐ−クロロスチレンを気相状態でグ
ラフトさせた後、トリエチレンジアミンを反応させ、さ
らに、アルカリで処理し、第４級アンモニウム化させ
て、以下に示すアニオン吸着性微多孔中空糸膜を得た。 外径 ３．７ミリ、 内径 ２．３５ミリ 平均孔径 ０．０５ミクロン 空孔率 ５０％ ４級アミン含有率1) ５．７ミリモル／ｇ・乾燥膜 １）１Ｎ ＫＮＯ3 −ＡｇＮＯ3 沈澱滴定法による。前
記の膜を実施例１と同じ方法で、膜長さ１０ｃｍを含む
モジュールを得た。このモジュールに下記２条件で、酢
酸１ｐｐｍを含む水溶液を３ｃｃ／ｍｉｎで内側から濾
過処理した（濾過温度２５℃） 比較例 付加操作 なし 実施例 内側から１５分間濾過後、 ０．２ｃｃ／ｍｉ
ｎで１５分間、７５℃の濾水で外側から逆洗するサイク
ルを繰り返す。 得られた酢酸の破過吸着量は、実施例の方が比較例に比
し２．５倍であった。（この場合の破過吸着量は、内側
からの濾過速度×破過に至るまでの積算濾過時間−逆洗
速度×逆洗時間から計算した。）
を低温真空照射後、ｐ−クロロスチレンを気相状態でグ
ラフトさせた後、トリエチレンジアミンを反応させ、さ
らに、アルカリで処理し、第４級アンモニウム化させ
て、以下に示すアニオン吸着性微多孔中空糸膜を得た。 外径 ３．７ミリ、 内径 ２．３５ミリ 平均孔径 ０．０５ミクロン 空孔率 ５０％ ４級アミン含有率1) ５．７ミリモル／ｇ・乾燥膜 １）１Ｎ ＫＮＯ3 −ＡｇＮＯ3 沈澱滴定法による。前
記の膜を実施例１と同じ方法で、膜長さ１０ｃｍを含む
モジュールを得た。このモジュールに下記２条件で、酢
酸１ｐｐｍを含む水溶液を３ｃｃ／ｍｉｎで内側から濾
過処理した（濾過温度２５℃） 比較例 付加操作 なし 実施例 内側から１５分間濾過後、 ０．２ｃｃ／ｍｉ
ｎで１５分間、７５℃の濾水で外側から逆洗するサイク
ルを繰り返す。 得られた酢酸の破過吸着量は、実施例の方が比較例に比
し２．５倍であった。（この場合の破過吸着量は、内側
からの濾過速度×破過に至るまでの積算濾過時間−逆洗
速度×逆洗時間から計算した。）
【００２２】
【発明の効果】本発明は、イオン除去性の高いアニオン
基、カチオン基またはキレート基を含有するイオン吸着
性微多孔膜の使用方法に関するものであり、圧濾過によ
り原水を吸着、除去、精製する操作の間に逆側から該イ
オンのない脱イオン水、好ましくは濾水、さらに好まし
くは濾過温度より少なくとも５℃高い濾水を用いて逆洗
することによって、該イオン吸着性微多孔膜の吸着ライ
フが伸びる。この効果は、今後の超純粋製造分野で実用
化上大きなメリットをもつ。
基、カチオン基またはキレート基を含有するイオン吸着
性微多孔膜の使用方法に関するものであり、圧濾過によ
り原水を吸着、除去、精製する操作の間に逆側から該イ
オンのない脱イオン水、好ましくは濾水、さらに好まし
くは濾過温度より少なくとも５℃高い濾水を用いて逆洗
することによって、該イオン吸着性微多孔膜の吸着ライ
フが伸びる。この効果は、今後の超純粋製造分野で実用
化上大きなメリットをもつ。
Claims (4)
- 【請求項１】 アニオン基、カチオン基またはキレート
基を膜および孔表面に有するイオン吸着性微多孔膜に、
１種以上のイオンを有する原水を圧力濾過させることに
よって該イオンを吸着、除去、精製する工程において、
実質的に該イオンを含まない脱イオン水で間欠的に逆洗
濾過することを特徴とするイオン吸着性微多孔膜の再生
処理方法。 - 【請求項２】 脱イオン水がイオン吸着性微多孔膜の濾
過水である請求項１記載の再生処理方法。 - 【請求項３】 脱イオン水が濾過温度より少なくとも５
℃高い温度を有する濾過水である請求項１記載のイオン
吸着性微多孔膜の再生処理方法。 - 【請求項４】 逆洗濾過時の圧力が該イオンを除去、精
製する濾過時圧力よりも低い圧力である請求項１記載の
イオン吸着性微多孔膜の再生処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4142048A JPH05309243A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 再生処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4142048A JPH05309243A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 再生処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05309243A true JPH05309243A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=15306195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4142048A Withdrawn JPH05309243A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 再生処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05309243A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015087702A1 (ja) * | 2013-12-13 | 2015-06-18 | 東レ株式会社 | 多層分離膜 |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4142048A patent/JPH05309243A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015087702A1 (ja) * | 2013-12-13 | 2015-06-18 | 東レ株式会社 | 多層分離膜 |
| KR20160097205A (ko) * | 2013-12-13 | 2016-08-17 | 도레이 카부시키가이샤 | 다층 분리막 |
| JPWO2015087702A1 (ja) * | 2013-12-13 | 2017-03-16 | 東レ株式会社 | 多層分離膜 |
| US10040033B2 (en) | 2013-12-13 | 2018-08-07 | Toray Industries, Inc. | Multilayer separation membrane |
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