JPH05298618A

JPH05298618A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH05298618A
Application number: JP12409292A
Authority: JP
Inventors: Akira Urai; 彰浦井; Hideaki Kojima; 秀明小島; Akira Murakami; 明村上; Heikichi Sato; 平吉佐藤; Hitoshi Kimura; 均木村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-04-17
Filing date: 1992-04-17
Publication date: 1993-11-12

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気コア材と融着ガラスの反応や拡散を防止
し、安定で且つ高精度なギャップを形成して、信頼性の
向上を図る。【構成】一対の磁気コアＡ，Ｂのうち少なくとも一方
が主コア部１ａ，１ｂと金属磁性薄膜２ａ，２ｂとから
構成され、上記磁気コアＡ，Ｂ同士がガラス融着により
接合されてなる磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性薄膜
２ａ，２ｂ上にＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅のう
ちの１種からなる第１のギャップ材を介してＺｒＯ₂又
はＹ₂Ｏ₃を含むＺｒＯ₂からなる第２のギャップ材が
形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置又はフロッピーディスク駆動装置
あるいはハードディスク駆動装置等に搭載される磁気ヘ
ッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えばＭｎ−Ｚｎフェライトから
なる一対の磁気コア同士がギャップ材を介してガラス融
着により接合されてなる磁気ヘッドにおいて、上記ギャ
ップ材としては、スパッタリング等により得られるＳｉ
Ｏ₂膜が広く使用されている。このような磁気ギャップ
を形成するためのギャップ材においては、磁気コア同士
をガラス融着する際に使用される融着ガラスに対して良
好なぬれ性を示すこと、この融着ガラスとの反応性が極
めて低いこと等が要求される。

【０００３】しかしながら、上記ＳｉＯ₂膜をギャップ
材として使用した場合、融着ガラスに対して満足なぬれ
性が得られず、上記磁気コア同士の接合時に融着ガラス
を必要な部分に十分に充填することができないという問
題がある。また、このＳｉＯ₂膜は、ある温度で融着ガ
ラス中に拡散する。このため、この融着ガラスと上記磁
気コアとの反応を防止するバリア膜としての機能が低下
し、融着ガラスと磁気コア間で相互拡散が起こる。この
結果、上記磁気コアのギャップ形成面に反応層が形成さ
れ、透磁率等の磁気特性に著しい劣化をきたしてしま
う。このような融着ガラスと磁気コア間の相互拡散は、
磁気ギャップの両端部でも同様に起こり、ギャップ長が
変化する（実効ギャップ長が拡大する）等といった不都
合を誘発する。

【０００４】これに対して、例えば特開昭６０−１３１
８７１号公報等に開示されるように、フェライトからな
る一対の磁気コア同士の接合面にＺｒＯ₂膜等を被着せ
しめる方法が提案されている。この方法によれば、フェ
ライトと融着ガラス間での拡散が防止され、ギャップ長
の変化が防止される。また、本発明者等により、非磁性
体で且つ高温で化学的安定性を有し、反応性が低いとい
う条件を備えたＺｒＯ₂等の安定な酸化物の焼結ターゲ
ットを用い、Ａｒガス雰囲気中又はＡｒガスとＯ₂ガス
との混合ガス雰囲気中でスパッタリングを行うことによ
って得られる非磁性酸化物膜を磁気コアの接合面に被着
形成せしめることにより、融着ガラスに対するぬれ性が
向上されるとともに、融着ガラスとの反応や拡散が防止
されることが発見されている。更に、この方法では、上
記焼成ターゲット中に安定剤としてＹ₂Ｏ₃を含有せし
めることにより、空孔等が減少し、焼結密度が高く品質
安定性に優れたターゲットが得られることから、スパッ
タリング条件の安定化が図られ、良好なギャップ材を形
成することが可能となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
にギャップ材としてＺｒＯ₂膜を使用する方法では、例
えば磁気コアがＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系やＦｅ−Ｇａ−Ｓｉ
−Ｒｕ系等の金属磁性薄膜からなる磁気ヘッドへの適用
を考えると、この金属磁性薄膜と上記ＺｒＯ₂膜との反
応性が問題となる。

【０００６】即ち、この場合、上記金属磁性薄膜中に含
有されるＡｌやＧｕが、この金属磁性薄膜の表面に形成
されるＺｒＯ₂膜と反応を起こし、これらＺｒＯ₂膜と
金属磁性薄膜との界面にＡｌやＧｕの酸化物が生成され
る。この結果、ギャップ長が所望の寸法よりも実質的に
拡大されることになり、信頼性が著しく低下してしま
う。このような現象は、特に金属磁性薄膜中にＧｕが含
まれる場合において顕著となる。

【０００７】そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであって、融着ガラスに対して良好な
ぬれ性が確保されるとともに、磁気コアと融着ガラスの
反応や拡散が防止され、安定で且つ高精度な磁気ギャッ
プを有する磁気ヘッドを提供することを目的とするもの
である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
上述の目的を達成するために提案されたものである。即
ち、本発明は、一対の磁気コア同士がガラス融着により
接合されてなり、少なくとも一方の磁気コアが金属磁性
薄膜からなり磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性薄膜の
表面にＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅のうちの１種
からなる第１のギャップ材が形成されるとともに、上記
磁気コアの接合面の間にＺｒＯ₂又はＹ₂Ｏ₃を含むＺ
ｒＯ₂からなる第２のギャップ材が介在されていること
を特徴とするものである。

【０００９】

【作用】ガラス融着により接合一体化される一対の磁気
コアのうち金属磁性薄膜からなる磁気コアの表面にＳｉ
Ｏ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅のうちの１種からなる第
１のギャップ材が形成されることにより、上記金属磁性
薄膜の表面に保護効果が付与される。

【００１０】また、上記磁気コアの接合面の間にＺｒＯ
₂又はＹ₂Ｏ₃を含むＺｒＯ₂からなる第２のギャップ
材を介在させることにより、これら磁気コア同士の接合
時に、融着ガラスに対する良好なぬれ性が得られ、必要
な部分に融着ガラスが十分に充填される。また、この第
２のギャップ材は、上記融着ガラスとの反応性が低いの
で、上記融着ガラス中への拡散による該第２のギャップ
材のバリア効果の低下は極めて少ない。従って、上記磁
気コアと上記融着ガラスが相互拡散を起こす虞れが殆ど
ない。

【００１１】更に、この第２のギャップ材と上記金属磁
性薄膜の間に上記第１のギャップ材が設けられることに
より、この第２のギャップ材と上記金属磁性薄膜との反
応による酸化物の生成等が防止される。従って、ギャッ
プ長が変化することなく、精度良く形成される。

【００１２】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例を図
面を参照しながら説明する。本実施例は、所謂メタル・
イン・ギャップ型の磁気ヘッドであり、一対の磁気コア
同士の間に第１の非磁性酸化膜と第２の非磁性酸化膜と
の２層構造を有するギャップ材が介在されてなる例であ
る。

【００１３】この磁気ヘッドにおいては、図１に示すよ
うに、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物からなる
一対の補助コア部１ａ，１ｂの間にアモルファス合金等
よりなる金属磁性薄膜２ａ，２ｂがそれぞれ挾持される
かたちで被着形成されており、上記補助コア部１ａ及び
金属磁性薄膜２ａから構成される磁気コアＡと、上記補
助コア部１ｂ及び金属磁性薄膜２ｂから構成される磁気
コアＢとが接合一体化されている。

【００１４】このように接合一体化された磁気コアＡ，
Ｂの突き合わせ面の両端部は、平面Ｖ字状に切り欠かれ
ている。これら切り欠き部は、トラック幅規制溝７，７
とされ、これらトラック幅規制溝７，７に挟まれた部分
の金属磁性薄膜２ａ，２ｂの突き合わせ面に磁気ギャッ
プｇが形成される。この磁気ギャップｇのトラック幅Ｔ
_Wは、上記トラック幅規制溝７，７により規制され、一
方のトラック幅規制溝７の先端部（Ｖ字状の頂点）から
他方のトラック幅規制溝７の先端部までの長さが上記ト
ラック幅Ｔ_Wとされる。

【００１５】上記トラック幅規制溝７，７内には、ガラ
ス材６，６が充填され、これにより上記磁気コアＡ，Ｂ
同士がガラス融着により接合されてなる。このガラス材
６，６としては、その熱膨張係数と上記補助コア部１
ａ，１ｂを構成してなるフェライト材の熱膨張係数との
差が小さくなるようなものが使用されることが望まし
い。

【００１６】また、上記補助コア部１ａ及び金属磁性薄
膜２ａからなる磁気コアＡにはコイルを巻回するための
巻線溝８が形成されており、図示されない巻線を施すこ
とによって当該磁気ヘッドに信号を供給し、あるいは当
該磁気ヘッドで読み取った信号を取り出すようになって
いる。なお、この巻線溝８は、、上記補助コア部１ｂ及
び金属磁性薄膜２ｂからなる磁気コアＢに設けられても
良く、これら磁気コアＡ，Ｂのうちの少なくとも何れか
一方に設けられれば良い。

【００１７】また、上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂとして
は、前記アモルファス合金の他に、例えばＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合
金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金等が
いずれも使用可能である。更には、耐蝕性や耐摩耗性等
の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒ
ｅ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも１種を
添加したものであってもよい。

【００１８】これら金属磁性薄膜２ａ，２ｂを成膜する
方法としては、例えばスパッタリング法, 真空蒸着法,
イオンプレーティング法, クラスター・イオンビーム法
等に代表される真空薄膜形成技術が使用可能であり、こ
れらの方法により上記補助コア部１ａ，１ｂの表面に直
接被着形成される。

【００１９】このような金属磁性薄膜２ａ，２ｂが膜付
けされた磁気コアＡ，Ｂの突き合わせ面には、ギャップ
材３ａ，３ｂがそれぞれ形成されている。これらギャッ
プ材３ａ，３ｂは、図２に示すように、第１の非磁性酸
化膜４ａ，４ｂと第２の非磁性酸化膜５ａ，５ｂとから
なる２層構造を有する。上記第１の非磁性酸化膜４ａ，
４ｂは、上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂと接して形成さ
れ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅のうちの１種か
ら構成される。

【００２０】この第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂは、上
記金属磁性薄膜２ａ，２ｂが上記第２の非磁性酸化膜５
ａ，５ｂと反応を起こすのを防止するための保護膜とし
て機能する。これにより、上記第２の非磁性酸化膜５
ａ，５ｂと上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂとが反応を起こ
すことによって上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂの界面に酸
化物が生成され、ギャップ長が拡大するといった不都合
を回避することができる。従って、このギャップ長は、
上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂの間に介在される上記第１
の非磁性酸化膜４ａ，４ｂ及び第２の非磁性酸化膜５
ａ，５ｂの膜厚の合計となり、各膜厚を制御することに
よってこのギャップ長を精度良く形成することができ
る。

【００２１】この第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂの膜厚
は、５０Å以上とされることが好ましい。この第１の非
磁性酸化膜４ａ，４ｂの膜厚が５０Åよりも薄いと、上
記金属磁性薄膜２ａ，２ｂの表面に十分な保護効果を付
与することができず、上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂ中に
含まれるＡｌやＧｕ等と上記第２の非磁性酸化膜５ａ，
５ｂとの反応により上記金属磁性薄膜２ａ，２ｂの界面
に酸化物が生成される虞れがある。

【００２２】この第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂ上に
は、ＺｒＯ₂又はＹ₂Ｏ₃を含むＺｒＯ₂からなる第２
の非磁性酸化膜５ａ，５ｂが積層形成される。即ち、こ
の第２の非磁性酸化膜５ａ，５ｂは、上記トラック幅規
制溝７，７に挟まれた部分の金属磁性薄膜２ａ，２ｂの
突き合わせ面上では、各第２の非磁性酸化膜５ａ，５ｂ
同士が突き合わされて上記第１の非磁性酸化膜４ａ，４
ｂとともに磁気ギャップｇを形成するとともに、上記ト
ラック幅規制溝７，７内では、上記ガラス材６，６と上
記第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂとの間に介在して、両
者の拡散を防止するバリア膜として機能する。

【００２３】従って、この磁気ヘッドにおいては、上記
ガラス材６，６と接する面に上記第２の非磁性酸化膜５
ａ，５ｂが形成されているので、上記ガラス材６，６に
対するぬれ性が良好であり、上記トラック幅規制溝７，
７内に十分に上記ガラス材６，６が充填されている。ま
た、このトラック幅規制溝７，７内において、上記ガラ
ス材６，６と上記第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂとは、
上記第２の非磁性酸化膜５ａ，５ｂにより分断されてい
る。従って、上記第１の非磁性酸化膜４ａ，４ｂが上記
ガラス材６，６中に拡散することがなく、これに伴う上
記磁気コアＡ，Ｂと上記ガラス材６，６との相互拡散に
よる磁気特性の劣化が防止される。

【００２４】このような構成を有する磁気ヘッドは、以
下の手順に従って作製することができる。先ず、Ｍｎ−
Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物よりなる長方形のコア
ブロックを用意し、このコアブロックの一主面に断面略
Ｖ字状のトラック幅規制溝をそれぞれ切削加工等によっ
て形成した。

【００２５】次に、このコアブロックの一主面上に上記
トラック幅規制溝内を含めスパッタリング等によりアモ
ルファス合金を被着せしめ、膜厚４μｍの金属磁性薄膜
を形成した。なお、ここでは、上記金属磁性薄膜とし
て、ＦｅＧａＳｉＲｕ薄膜を使用した。

【００２６】続いて、この金属磁性薄膜上に第１の非磁
性酸化膜と第２の非磁性酸化膜とをスパッタリングによ
り順次積層形成した。なお、ここでは第１の非磁性酸化
膜としてＳｉＯ₂膜を使用し、第２の非磁性酸化膜とし
てＺｒＯ₂膜を使用した。また、これら第１の非磁性酸
化膜及び第２の非磁性酸化膜の膜厚は、それぞれ１００
ｎｍ及び５０ｎｍとした。

【００２７】このようなスパッタリングに際しては、高
周波マグネトロンスパッタ方式によりスパッタガスとし
てＡｒガスを用いて行った。また、ＺｒＯ₂膜の成膜時
においては、ターゲット材としてＺｒＯ₂中にＹ₂Ｏ₃
を３％添加した焼結ターゲットを使用し、スパッタガス
圧を０．６Ｐａとし、スパッタパワー密度を６４ｋＷ／
ｍ²に設定した。

【００２８】ここで、Ｙ₂Ｏ₃は、安定剤として使用さ
れるものであり、その添加量は０〜１０モル％の範囲内
とされる。このＹ₂Ｏ₃を焼結ターゲット中に添加させ
ることにより、空孔等が減少し、焼結密度が高く品質安
定性に優れたターゲットが得られる。このために、安定
なスパッタリングを行うことができ、良好な膜を得るこ
とが可能となる。

【００２９】また、本実施例では、上記第１の非磁性酸
化膜及び第２の非磁性酸化膜をそれぞれスパッタリング
により成膜したが、成膜方法としては、これに限るもの
ではなく、例えば蒸着等の物理的薄膜形成方法やＣＶＤ
等の化学的薄膜形成方法、或いは両者を組み合わせたリ
アクティブスパッタ等が何れも使用可能である。

【００３０】その後、これら金属磁性薄膜、第１の非磁
性酸化膜及び第２の非磁性酸化膜が膜付けされた上記コ
アブロックを分断し、一対の磁気コアを形成した。続い
て、得られた磁気コアのうちの一方に断面略矩形状の巻
線溝を形成した。そして、上記第２の非磁性酸化膜同士
を突き合わせるようにして各磁気コアを外形基準で突き
合わせ、上記トラック幅規制溝内にガラス材を充填して
ガラス融着を行って、上記磁気コア同士を接合一体化さ
せた。この時、上記カラス材としては、ＳｉＯ₂−Ｐｂ
Ｏ系ガラスを使用し、融着温度は６００℃とした。

【００３１】この結果、各磁気コア間に上記第１の非磁
性酸化膜及び第２の非磁性酸化膜を介して磁気ギャップ
ｇが形成され、そのギャップ長は、上記第１の非磁性酸
化膜の膜厚と第２の非磁性酸化膜の膜厚の総和に相当す
る３００ｎｍとなった。最後に、所望の大きさのヘッド
チップに切り出することにより完成させた。

【００３２】なお、本実施例では一対の磁気コアＡ，Ｂ
の突き合わせ面にそれぞれ金属磁性薄膜２ａ，２ｂが形
成されてなる磁気ヘッドを例として説明したが、この他
に、例えば図３（図３中、図２と同一部材については同
じ番号を付して、説明を省略した。）に示すように、一
方の磁気コアＢの突き合わせ面のみに金属磁性薄膜１２
が形成されてなる磁気ヘッドにおいても同様に本発明を
適用することが可能である。この場合、第１の非磁性酸
化膜１４は、上記金属磁性薄膜１２が被着形成された磁
気コアＡの突き合わせ面のみに形成されれば良い。従っ
て、この磁気ヘッドの磁気コアＡ，Ｂの突き合わせ面に
おいては、第１の非磁性酸化膜１４及び第２の非磁性酸
化膜１５ａ，１５ｂの膜厚のトータルが当該磁気ヘッド
のギャップ長に相当する。

【００３３】この他、本発明は、図４に示すように、補
助コア２１ａ，２１ｂをそれぞれ主体としてなる一対の
磁気コアＡ，Ｂの突き合わせ面に金属磁性薄膜２２ａ，
２２ｂが形成され、これら金属磁性薄膜２２ａ，２２ｂ
が磁気記録媒体対接面で磁気ギャップｇを介して斜めに
連なってなる磁気ヘッド（所謂ＴＳＳヘッド）、図５に
示すような上記金属磁性薄膜２２ａ，２２ｂが磁気記録
媒体対接面でＸ字状に配されてなる磁気ヘッド（所謂Ｘ
型ヘッド）、図６に示すように、磁気コアＡ，Ｂの突き
合わせ面に対して垂直方向に複数の金属磁性薄膜２２
ａ，２２ｂが積層されて補助コア２１ａ，２１ｂ間に挟
まれてなる磁気ヘッド（所謂ラミネート型ヘッド）等の
各種磁気ヘッドに適用して有効である。

【００３４】即ち、これら磁気ヘッドにおいて、上記磁
気コアＡ，Ｂの突き合わせ面には、第１の非磁性酸化膜
２４ａ，２４ｂと第２の非磁性酸化膜２５ａ，２５ｂか
らなるギャップ材２３ａ，２３ｂがそれぞれ形成される
とともに、これら磁気コアＡ，Ｂ同士が該磁気コアＡ，
Ｂに設けられたトラック幅規制溝２７内に充填されたガ
ラス材２６によってガラス融着され接合一体化されてい
る。そして、何れの磁気ヘッドにおいても、上記金属磁
性薄膜２２ａ，２２ｂの表面に上記第１の非磁性酸化膜
２４ａ，２４ｂが形成され、上記ガラス材２６と接する
面に臨んで上記第２の非磁性酸化膜２５ａ，２５ｂが形
成された構成とされている。これにより、上記ガラス材
２６に対して十分なぬれ性が得られるとともに、該ガラ
ス材２６と上記第１の非磁性酸化膜２４ａ，２４ｂとの
相互拡散が防止され、なお且つ上記金属磁性薄膜２２
ａ，２２ｂと第２の非磁性酸化膜２５ａ，２５ｂとの反
応が防止される。安定で且つ高精度な磁気ギャップ形成
を行うことができる。

【００３５】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気コア同士の突き合わせ面に第１のギ
ャップ材と第２のギャップ材が積層形成されているの
で、上記磁気コア同士のガラス融着時に融着ガラスに対
して十分なぬれ性が得られ、充填率良くガラス融着を行
うことができる。また、この第２のギャップ材がバリア
膜として機能するために、上記融着ガラスと第１のギャ
ップ材との相互拡散が防止され、磁気特性の劣化が抑え
られる。

【００３６】更に、本発明では、上記磁気コアを構成し
てなる金属磁性薄膜の表面に上記第１のギャップ材が形
成されているので、この金属磁性薄膜と上記第２のギャ
ップ材との反応が防止される。従って、ギャップ長が変
化することなく、精度良く磁気ギャップを形成すること
ができるので、信頼性が著しく向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる磁気ヘッドの一例の構成を示す
斜視図である。

【図２】本発明にかかる磁気ヘッドの一例を磁気記録媒
体対接面から見た場合の磁気ギャップ部近傍の構成を示
す要部拡大平面図である。

【図３】本発明にかかる磁気ヘッドの他の例を磁気記録
媒体対接面から見た場合の磁気ギャップ部近傍の構成を
示す要部拡大平面図である。

【図４】本発明を適用した所謂ＴＳＳヘッドを磁気記録
媒体対接面から見た場合の磁気ギャップ部近傍の構成を
示す要部拡大平面図である。

【図５】本発明を適用した所謂Ｘ型ヘッドを磁気記録媒
体対接面から見た場合の磁気ギャップ部近傍の構成を示
す要部拡大平面図である。

【図６】本発明を適用した所謂ラミネート型ヘッドを磁
気記録媒体対接面から見た場合の磁気ギャップ部近傍の
構成を示す要部拡大平面図である。

【符号の説明】

Ａ，Ｂ・・・磁気コア１ａ，１ｂ・・・補助コア２ａ，２ｂ・・・金属磁性薄膜３ａ，３ｂ・・・ギャップ材４ａ，４ｂ・・・第１の非磁性酸化膜５ａ，５ｂ・・・第２の非磁性酸化膜６・・・ガラス材７・・・トラック幅規制溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐藤平吉東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者木村均東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の磁気コア同士がガラス融着により
接合されてなり、少なくとも一方の磁気コアが金属磁性
薄膜からなる磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性薄膜の表面にＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ
₂Ｏ₅のうちの１種からなる第１のギャップ材が形成さ
れるとともに、上記磁気コアの接合面の間にＺｒＯ₂又はＹ₂Ｏ₃を含
むＺｒＯ₂からなる第２のギャップ材が介在されている
ことを特徴とする磁気ヘッド。