JPH05283328A - レジスト膜塗布装置 - Google Patents
レジスト膜塗布装置Info
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- JPH05283328A JPH05283328A JP7973192A JP7973192A JPH05283328A JP H05283328 A JPH05283328 A JP H05283328A JP 7973192 A JP7973192 A JP 7973192A JP 7973192 A JP7973192 A JP 7973192A JP H05283328 A JPH05283328 A JP H05283328A
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- JP
- Japan
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- chamber
- resist film
- solvent vapor
- film coating
- gas
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- Granted
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
行なうチャンバ内の蒸気濃度をモニタすることにより、
レジスト膜の密着性低下を防止する。 【構成】チャンバ3内のガスの一部を配管5b,5cに
より取出してガス検知器7に導入し、チャンバ3内の溶
剤蒸気の濃度を検出し、濃度異常時にアラームを出す。
Description
する。
ェーハを装着するチャンバと、このチャンバ内に溶剤蒸
気を導入する配管と、使用済の溶剤蒸気を排気する排管
とを有しており、チャンバ内に導入した溶剤蒸気により
レジスト膜塗布前の半導体ウェーハの表面を処理してレ
ジスト膜との密着性を強化していた。
装置では溶剤蒸気を送っている配管がはずれたり、溶剤
が欠乏したりしてチャンバ内に溶剤蒸気が送られず、半
導体ウェーハの表面の処理が実行されない場合でも、リ
アルタイムで欠陥を発見することができずに被害を大き
なものにしていた。
装置は、チャンバ内に半導体ウェーハを装着し、前記チ
ャンバ内に導入した溶剤蒸気によりレジスト膜塗布前の
半導体ウェーハの表面を処理するレジスト膜塗布装置に
おいて、前記チャンバ内のガスの一部を取出して前記溶
剤蒸気の濃度を検出するガス検知器を備えている。
る。
である。
着するプレート2と、プレート2を内蔵し、配管5aよ
り溶剤蒸気を導入してレジスト膜塗布前の半導体ウェー
ハ1の表面にレジスト膜との密着性を強化するための表
面処理を行なうチャンバ3と、処理済の廃ガスを外部へ
導出する排気管6とチャンバ3内のガスの一部を配管5
b,5cにより取出して溶剤蒸気の濃度を検出して異常
時にアラームを出すガス検知器7とを備えて構成され
る。なお、バブリングタンク4は溶剤9の中にキャリア
ガス10を吹込んで溶剤9を気化した溶剤蒸気8を配管
5aによりチャンバ3内へ送るためのものである。
濃度をモニタリングするガス検知器を取り付けたことに
より、チャンバ内での溶剤蒸気の濃度異常を即座に発見
できるという効果をする。
Claims (1)
- 【請求項1】 チャンバ内に半導体ウェーハを装着し、
前記チャンバ内に導入した溶剤蒸気により前記半導体ウ
ェーハの表面を処理するレジスト膜塗布装置において、
前記チャンバ内のガスの一部を取出して前記溶剤蒸気の
濃度を検出するガス検知器を備えたことを特徴とするレ
ジスト膜塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7973192A JP2833917B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 溶剤蒸気処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7973192A JP2833917B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 溶剤蒸気処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05283328A true JPH05283328A (ja) | 1993-10-29 |
JP2833917B2 JP2833917B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=13698357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7973192A Expired - Fee Related JP2833917B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 溶剤蒸気処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2833917B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07142311A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-06-02 | Sony Corp | シランカップリング剤を用いた基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2005334810A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Alps Electric Co Ltd | スプレーコート装置及びスプレーコート方法 |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP7973192A patent/JP2833917B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07142311A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-06-02 | Sony Corp | シランカップリング剤を用いた基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2005334810A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Alps Electric Co Ltd | スプレーコート装置及びスプレーコート方法 |
JP4602699B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-12-22 | アルプス電気株式会社 | スプレーコート装置及びスプレーコート方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2833917B2 (ja) | 1998-12-09 |
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