JPH05281553A - 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 - Google Patents
液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH05281553A JPH05281553A JP4082047A JP8204792A JPH05281553A JP H05281553 A JPH05281553 A JP H05281553A JP 4082047 A JP4082047 A JP 4082047A JP 8204792 A JP8204792 A JP 8204792A JP H05281553 A JPH05281553 A JP H05281553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- alignment film
- dianhydride
- crystal alignment
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 100
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 84
- -1 tetracarboxylic acid dianhydride Chemical class 0.000 claims abstract description 55
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 12
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NGNMVDDYVLYALX-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]tridecan-2-yl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=CC=1C(C)(CCCCCCCCCCC)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 NGNMVDDYVLYALX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 5
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 5
- SREMUEKUWIUASP-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]cyclohexyl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C2(CCCCC2)C=2C=CC(OC=3C=C(C(C(O)=O)=CC=3)C(O)=O)=CC=2)C=C1 SREMUEKUWIUASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XZOQPRNOAGCWNT-UHFFFAOYSA-N 4-[[(3,4-dicarboxyphenyl)-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 XZOQPRNOAGCWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- CYIFVRUOHKNECG-UHFFFAOYSA-N tridecan-2-one Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C)=O CYIFVRUOHKNECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFUPLJQNEXUUDW-UHFFFAOYSA-N 2-phenylisoindole-1,3-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)N1C1=CC=CC=C1 MFUPLJQNEXUUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007718 adhesive strength test Methods 0.000 description 2
- LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diamine Chemical compound NC1(N)CCCCC1 YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- FHBXQJDYHHJCIF-UHFFFAOYSA-N (2,3-diaminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1N FHBXQJDYHHJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXCYFNKGRXZFQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-diphenylpropane-2,2-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(N)(N)C)C1=CC=CC=C1 ISXCYFNKGRXZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 2,6-dimethyl-n-[[(2s)-pyrrolidin-2-yl]methyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1NC[C@H]1NCCC1 UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQWMCSSZKNOLQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,5-dioxooxolan-3-yl)oxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CC1C1C(=O)OC(=O)C1 OLQWMCSSZKNOLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UANXVWIYZPLAAD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylphenyl)benzene-1,2-diamine Chemical group NC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1N UANXVWIYZPLAAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXMTULYAQORCGH-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O JXMTULYAQORCGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSKKUFIMCFTTRV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-phenylphenoxy)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 JSKKUFIMCFTTRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYAIDQPMXLZCG-UHFFFAOYSA-N 4-[(3,4-dicarboxybenzoyl)oxy-dimethylsilyl]oxycarbonylphthalic acid Chemical compound C(=O)(O)C=1C=C(C(=O)O[Si](C)(C)OC(C2=CC(=C(C=C2)C(=O)O)C(=O)O)=O)C=CC1C(=O)O SJYAIDQPMXLZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZBHALGYPYRUNN-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)tridecan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CCCCCCCCCCC)C1=CC=C(O)C=C1 WZBHALGYPYRUNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYOJWPFLYBARAS-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[[2-(3,4-dicarboxybenzoyl)oxyethyl-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]ethoxycarbonyl]phthalic acid Chemical compound C[Si](C)(CCOC(=O)C1=CC(=C(C=C1)C(=O)O)C(=O)O)O[Si](C)(C)CCOC(=O)C2=CC(=C(C=C2)C(=O)O)C(=O)O VYOJWPFLYBARAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNPVQOCNLFVNQE-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]dodecan-2-yl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=CC=1C(C)(CCCCCCCCCC)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 RNPVQOCNLFVNQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=C(C)C=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQRLOLEHCEMTB-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]octan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(CCCCCC)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 RRQRLOLEHCEMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWPWYUCOTALH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]pentan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(CCC)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 ISBWPWYUCOTALH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKGZLVBKSNGFNV-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[3-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,2,2,4,4,5,5,5-decafluoropentan-3-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(=CC=C1C(C2=CC=C(C=C2)OC3=CC=C(C=C3)N)(C(C(F)(F)F)(F)F)C(C(F)(F)F)(F)F)OC4=CC=C(C=C4)N SKGZLVBKSNGFNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHDKITUBLLSOS-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[[5-(3,4-dicarboxybenzoyl)oxypentyl-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]pentoxycarbonyl]phthalic acid Chemical compound C[Si](C)(CCCCCOC(=O)C1=CC(=C(C=C1)C(=O)O)C(=O)O)O[Si](C)(C)CCCCCOC(=O)C2=CC(=C(C=C2)C(=O)O)C(=O)O UFHDKITUBLLSOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BONIIQYTWOPUQI-UHFFFAOYSA-N 4-nitroisoindole-1,3-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O BONIIQYTWOPUQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYEWRNLQOAIQDL-UHFFFAOYSA-N 4-phenylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YYEWRNLQOAIQDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCOFLXCXSYIEFG-UHFFFAOYSA-N 5-(3,4-dicarboxy-5-methylphenyl)-3-methylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C)=CC(C=2C=C(C(C(O)=O)=C(C)C=2)C(O)=O)=C1 YCOFLXCXSYIEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARCLPOQJVDLHIV-UHFFFAOYSA-N NC1=CC=C(OC2=CC=C(C=C2)C(C(C)C2=CC=C(C=C2)OC2=CC=C(C=C2)N)CCCCC)C=C1 Chemical compound NC1=CC=C(OC2=CC=C(C=C2)C(C(C)C2=CC=C(C=C2)OC2=CC=C(C=C2)N)CCCCC)C=C1 ARCLPOQJVDLHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOOLMVBOMGHSNN-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)C(CCC(C)C1=CC=C(C=C1)O)CCCCCCCC Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)C(CCC(C)C1=CC=C(C=C1)O)CCCCCCCC JOOLMVBOMGHSNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- KSFBTBXTZDJOHO-UHFFFAOYSA-N diaminosilicon Chemical compound N[Si]N KSFBTBXTZDJOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Substances OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTNWKDHZTDQSST-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=C(N)C(N)=CC=C21 NTNWKDHZTDQSST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=CC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶配向膜を形成する場合、220℃以下の
温度で、短時間に硬化してイミド化率95%以上とする
ことができ、またこの液晶配向膜を有する液晶表示基板
を使用して作成した液晶表示素子はドメイン等の配向不
良が発生せず電気光学特性上高い表示品質を有する液晶
配向膜用組成物を提供する。 【構成】 2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物等、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテ
ル等および1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無
水物を反応させて得られるポリアミド酸を含有してなる
液晶配向膜用組成物、この組成物を用いた液晶配向膜の
製造法、この組成物より形成された液晶配向膜、液晶挾
持基板等。
温度で、短時間に硬化してイミド化率95%以上とする
ことができ、またこの液晶配向膜を有する液晶表示基板
を使用して作成した液晶表示素子はドメイン等の配向不
良が発生せず電気光学特性上高い表示品質を有する液晶
配向膜用組成物を提供する。 【構成】 2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物等、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテ
ル等および1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無
水物を反応させて得られるポリアミド酸を含有してなる
液晶配向膜用組成物、この組成物を用いた液晶配向膜の
製造法、この組成物より形成された液晶配向膜、液晶挾
持基板等。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶配向膜用組成物、液
晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液
晶表示素子に関する。
晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液
晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示素子用の配向膜として、
例えばピロメリツト酸二無水物と4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル縮合のポリイミド(特公昭55−10
18号公報)をはじめとし、最近では表示素子の透明性
あるいは液晶の高プレチルト角の要求から、これを目的
とするポリイミドが提案されている(特開昭63−25
9515号公報、特開昭64−25126号公報)。
例えばピロメリツト酸二無水物と4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル縮合のポリイミド(特公昭55−10
18号公報)をはじめとし、最近では表示素子の透明性
あるいは液晶の高プレチルト角の要求から、これを目的
とするポリイミドが提案されている(特開昭63−25
9515号公報、特開昭64−25126号公報)。
【0003】しかし、最近の液晶表示素子のカラー化に
伴い現行の配向膜ではポリイミド膜の硬化(イミド化率
90%以上)には、通常、高温(250℃以上)で長時
間(30分以上)の加熱が必要であるためカラーフィル
ターの退色が発生し、低温硬化化が必要となり、また、
最近の液晶表示素子の高精度化に伴い、表示品質の向上
のため液晶挾持基板の構造が変化し、液晶配向膜と液晶
挾持基板との接着力が重要となってきた。
伴い現行の配向膜ではポリイミド膜の硬化(イミド化率
90%以上)には、通常、高温(250℃以上)で長時
間(30分以上)の加熱が必要であるためカラーフィル
ターの退色が発生し、低温硬化化が必要となり、また、
最近の液晶表示素子の高精度化に伴い、表示品質の向上
のため液晶挾持基板の構造が変化し、液晶配向膜と液晶
挾持基板との接着力が重要となってきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の欠点を解決し、表示品質を保ったまま比較的低温
(220℃以下)で硬化することができる接着力の優れ
た液晶配向膜用組成物、この組成物を用いた液晶配向膜
の製造法、この組成物より得られる液晶配向膜、この配
向膜を有する液晶挾持基板および液晶表示素子を提供す
るものである。
技術の欠点を解決し、表示品質を保ったまま比較的低温
(220℃以下)で硬化することができる接着力の優れ
た液晶配向膜用組成物、この組成物を用いた液晶配向膜
の製造法、この組成物より得られる液晶配向膜、この配
向膜を有する液晶挾持基板および液晶表示素子を提供す
るものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の問題に鑑み、鋭意研究した結果、特定のポリイミ
ドを液晶配向膜として用いると、表示品質を保ったまま
接着力に優れ低温硬化化できることを見出し本発明に到
達した。
技術の問題に鑑み、鋭意研究した結果、特定のポリイミ
ドを液晶配向膜として用いると、表示品質を保ったまま
接着力に優れ低温硬化化できることを見出し本発明に到
達した。
【0006】すなわち、本発明は、 (1)一般式〔1〕
【化7】 (式中、Xは炭素数1〜4のアルキル基、
【化8】 R1およびR2は少なくとも一方が炭素数5以上のアルキ
ル基、a、b、cおよびdは0、1または2であり、X
1は異なってもよく、R1およびR2は同一の場合があ
り、a、b、cおよびdは同じでもよい)で表されるテ
トラカルボン酸二無水物、 (2)一般式〔2〕
ル基、a、b、cおよびdは0、1または2であり、X
1は異なってもよく、R1およびR2は同一の場合があ
り、a、b、cおよびdは同じでもよい)で表されるテ
トラカルボン酸二無水物、 (2)一般式〔2〕
【化9】 (式中、X2はハロゲン原子または炭素数1〜4のアル
キル基、
キル基、
【化10】 R3およびR4はアルキル基またはパーフルオロアルキル
基を示し、e、f、gおよびhは0、1または2であ
り、X2は異なってもよく、R3およびR4は同一でもよ
くe、f、gおよびhは同じでもよい)で表される芳香
族ジアミン、 (3)一般式〔3〕
基を示し、e、f、gおよびhは0、1または2であ
り、X2は異なってもよく、R3およびR4は同一でもよ
くe、f、gおよびhは同じでもよい)で表される芳香
族ジアミン、 (3)一般式〔3〕
【化11】 (式中、Arは芳香族基、R5、R6、R7およびR8は炭
素数1〜10のアルキル基、置換された炭素数1〜10
のアルキル基または芳香族基、X3は
素数1〜10のアルキル基、置換された炭素数1〜10
のアルキル基または芳香族基、X3は
【化12】 (pは1〜10の整数を示す)を示し、l、mは0また
は1、nは0または1〜5までの整数であり、X3は異
なってもよく、Arは異なってもよく、R5、R6、R7
およびR8は同一でもよく、l、mおよびnは同じ場合
がある)で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン
酸二無水物ならびに必要に応じて (4)(1)および(3)以外のテトラカルボン酸二無
水物および/または(2)以外のジアミンを反応させて
得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成
物、この組成物を用いる液晶配向膜の製造法、この組成
物を用いて形成した液晶配向膜、この配向膜を有する液
晶挾持基板及び液晶表示素子に関する。
は1、nは0または1〜5までの整数であり、X3は異
なってもよく、Arは異なってもよく、R5、R6、R7
およびR8は同一でもよく、l、mおよびnは同じ場合
がある)で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン
酸二無水物ならびに必要に応じて (4)(1)および(3)以外のテトラカルボン酸二無
水物および/または(2)以外のジアミンを反応させて
得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成
物、この組成物を用いる液晶配向膜の製造法、この組成
物を用いて形成した液晶配向膜、この配向膜を有する液
晶挾持基板及び液晶表示素子に関する。
【0007】液晶表示装置の配向膜として用いる場合
は、液晶分子のプレチルト角を高めるために、前記一般
式〔1〕で示されるテトラカルボン酸二無水物のR1お
よびR2の少なくとも一方が炭素数5以上のアルキル基
とされる。通常はこれらの炭素数は18以下とされる。
は、液晶分子のプレチルト角を高めるために、前記一般
式〔1〕で示されるテトラカルボン酸二無水物のR1お
よびR2の少なくとも一方が炭素数5以上のアルキル基
とされる。通常はこれらの炭素数は18以下とされる。
【0008】本発明に用いられる上記の一般式〔1〕で
表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば
2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕オクタン二無水物、2,2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕デカン
二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物、2,2−
ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕ドデカン二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−
ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水
物、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕−2−メチルオクタン二無水物、1,
1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕−2−メチルドデカン二無水物、1,1−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
−2−エチルペンタデカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕トデカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕オクタン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕デカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジエチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物、1,1−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
シクロヘキサン二無水物などが挙げられ、これらは1種
または2種以上を組み合わせて使用することが出来る。
上記の一般式〔1〕で表されるテトラカルボン酸二無水
物は、例えばケトンとフェノール化合物を反応させて対
応する炭素鎖数のジオール化合物を合成し、これによっ
てニトロフタルイミドのニトロ基をアルカリ中で置換さ
せて対応するビスイミドを形成し、次いでこのビスイミ
ドを加水分解してテトラカルボン酸を得、さらに、この
テトラカルボン酸を無水酢酸中で脱水反応処理して製造
される。
表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば
2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕オクタン二無水物、2,2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕デカン
二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物、2,2−
ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕ドデカン二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−
ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水
物、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕−2−メチルオクタン二無水物、1,
1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕−2−メチルドデカン二無水物、1,1−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
−2−エチルペンタデカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕トデカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕オクタン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕デカン二無水物、2,2−ビス
〔3,5−ジエチル−4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物、1,1−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
シクロヘキサン二無水物などが挙げられ、これらは1種
または2種以上を組み合わせて使用することが出来る。
上記の一般式〔1〕で表されるテトラカルボン酸二無水
物は、例えばケトンとフェノール化合物を反応させて対
応する炭素鎖数のジオール化合物を合成し、これによっ
てニトロフタルイミドのニトロ基をアルカリ中で置換さ
せて対応するビスイミドを形成し、次いでこのビスイミ
ドを加水分解してテトラカルボン酸を得、さらに、この
テトラカルボン酸を無水酢酸中で脱水反応処理して製造
される。
【0009】本発明に用いられる上記の一般式〔3〕で
表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物
のR5〜R8のアルキル基の炭素数は接着性の効果から1
〜10の範囲とされる。例えば、1,3−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラエチル
ジシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラフェニルジ
シロキサン二無水物、1,3−ビス{3−(3,4−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、1,3−
ビス{2−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
エチル}−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
二無水物、1,3−ビス{5−(3,4−ジカルボキシ
ベンゾイルオキシ)ペンチル}−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン二無水物、1,3−ビス{3−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}
−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジ
メチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシベ
ンゾイルオキシ)ジエチルシラン二無水物、1,3−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,3−ジエチ
ル−1,3−ジマチルジシロキサン二無水物、1,5−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,
3,5,5−ヘキサメチルジシロキサン二無水物、1,
7−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,
3,3,5,5,7,7−オクタメチルジシロキサン二
無水物、1,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3,5,5,7,7,9,9−デカ
メチルジシロキサン二無水物、1,11−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3,5,5,
7,7,9,9,11,11−ドデカメチルジシロキサ
ン二無水物などが挙げられ、これらは1種または2種以
上を組み合わせて使用できる。
表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物
のR5〜R8のアルキル基の炭素数は接着性の効果から1
〜10の範囲とされる。例えば、1,3−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラエチル
ジシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラフェニルジ
シロキサン二無水物、1,3−ビス{3−(3,4−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、1,3−
ビス{2−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
エチル}−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
二無水物、1,3−ビス{5−(3,4−ジカルボキシ
ベンゾイルオキシ)ペンチル}−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン二無水物、1,3−ビス{3−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}
−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジ
メチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシベ
ンゾイルオキシ)ジエチルシラン二無水物、1,3−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,3−ジエチ
ル−1,3−ジマチルジシロキサン二無水物、1,5−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,
3,5,5−ヘキサメチルジシロキサン二無水物、1,
7−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,
3,3,5,5,7,7−オクタメチルジシロキサン二
無水物、1,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3,5,5,7,7,9,9−デカ
メチルジシロキサン二無水物、1,11−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3,5,5,
7,7,9,9,11,11−ドデカメチルジシロキサ
ン二無水物などが挙げられ、これらは1種または2種以
上を組み合わせて使用できる。
【0010】本発明に用いられる上記の一般式〔2〕で
表される芳香族ジアミンとしては、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、2,2
−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケト
ン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エステル、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)〕ビフェニル、2,
2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル〕ペンタン、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕オクタン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパン、3,3−ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,2,
2,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、2,
2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,
3,4,4,4−オクタフルオロブタンなどが挙げら
れ、これらは1種でまたは2種以上を組み合わせて使用
することが出来る。
表される芳香族ジアミンとしては、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、2,2
−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケト
ン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エステル、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)〕ビフェニル、2,
2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル〕ペンタン、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕オクタン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパン、3,3−ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,2,
2,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、2,
2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,
3,4,4,4−オクタフルオロブタンなどが挙げら
れ、これらは1種でまたは2種以上を組み合わせて使用
することが出来る。
【0011】硬化温度を低温化し、かつ十分な重合度を
得るために、一般式〔1〕で表されるテトラカルボン酸
二無水物のモル数を反応に用いられる全テトラカルボン
酸二無水物のモル数の10〜80%、一般式〔3〕で示
されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物の
モル数を反応に用いられる全テトラカルボン酸二無水物
のモル数の5〜40%、および一般式〔2〕で示される
芳香族ジアミンのモル数を反応に用いられる全ジアミン
のモル数の10〜80%とすることが好ましい。
得るために、一般式〔1〕で表されるテトラカルボン酸
二無水物のモル数を反応に用いられる全テトラカルボン
酸二無水物のモル数の10〜80%、一般式〔3〕で示
されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物の
モル数を反応に用いられる全テトラカルボン酸二無水物
のモル数の5〜40%、および一般式〔2〕で示される
芳香族ジアミンのモル数を反応に用いられる全ジアミン
のモル数の10〜80%とすることが好ましい。
【0012】また上記の一般式〔1〕および〔3〕で表
されるテトラカルボン酸二無水物以外のテトラカルボン
酸二無水物および上記の一般式〔2〕で表される芳香族
ジアミン以外のジアミンについては特に制限はない。こ
のテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸
二無水物、メチルピロメリット酸二無水物、ジメチルピ
ロメリット酸二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロ
メリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、5,5′−ジメチル−3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、4−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二
無水物、2,3,3′,4′−テトラカルボキシジフェ
ニル二無水物、3,3′,4,4′−テトラカルボキシ
ジフェニルエーテル二無水物、2,3,3′,4′−テ
トラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、3,
3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノン二無
水物、2,3,3′,4′−テトラカルボキシベンゾフ
ェノン二無水物、2,3,6,7−テトラカルボキシナ
フタレン二無水物、1,4,5,7−テトラカルボキシ
ナフタレン二無水物、1,2,5,6−テトラカルボキ
シナフタレン二無水物、3,3′,4,4′−テトラカ
ルボキシジフェニルメタン二無水物、2,3,3′,
4′−テトラカルボキシジフェニルメタン二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン二無水物、3,3′,4,4′−テトラカルボキシ
ジフェニルスルホン二無水物、3,4,9,10−テト
ラカルボキシペリレン二無水物、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、3,3′,4,4′−エチレングリコール
ビス(フェニル)テトラカルボン酸二無水物、シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラ
カルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは2種以上
を併用することもできる。
されるテトラカルボン酸二無水物以外のテトラカルボン
酸二無水物および上記の一般式〔2〕で表される芳香族
ジアミン以外のジアミンについては特に制限はない。こ
のテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸
二無水物、メチルピロメリット酸二無水物、ジメチルピ
ロメリット酸二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロ
メリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、5,5′−ジメチル−3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、4−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二
無水物、2,3,3′,4′−テトラカルボキシジフェ
ニル二無水物、3,3′,4,4′−テトラカルボキシ
ジフェニルエーテル二無水物、2,3,3′,4′−テ
トラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、3,
3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノン二無
水物、2,3,3′,4′−テトラカルボキシベンゾフ
ェノン二無水物、2,3,6,7−テトラカルボキシナ
フタレン二無水物、1,4,5,7−テトラカルボキシ
ナフタレン二無水物、1,2,5,6−テトラカルボキ
シナフタレン二無水物、3,3′,4,4′−テトラカ
ルボキシジフェニルメタン二無水物、2,3,3′,
4′−テトラカルボキシジフェニルメタン二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン二無水物、3,3′,4,4′−テトラカルボキシ
ジフェニルスルホン二無水物、3,4,9,10−テト
ラカルボキシペリレン二無水物、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、3,3′,4,4′−エチレングリコール
ビス(フェニル)テトラカルボン酸二無水物、シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラ
カルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは2種以上
を併用することもできる。
【0013】また上記の一般式〔2〕で表される芳香族
ジアミン以外のジアミンとしては、p−フェニレンジア
ミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエ
ーテル、ジアミノジフェニルメタン、2,2−ジアミノ
ジフェニルプロパン、ジアミノジフェニルスルホン、ジ
アミノベンゾフェノン、ジアミノナフタレン、ジアミノ
ターフェニル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼンなどの芳香族ジアミン、ジアミノジシクロヘキ
シルエーテル、ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ジ
アミン、1,6−ジアミノヘキサン、1,8−ジアミノ
オクタンなどの脂肪族ジアミン、ジアミノシランなどが
挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
ジアミン以外のジアミンとしては、p−フェニレンジア
ミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエ
ーテル、ジアミノジフェニルメタン、2,2−ジアミノ
ジフェニルプロパン、ジアミノジフェニルスルホン、ジ
アミノベンゾフェノン、ジアミノナフタレン、ジアミノ
ターフェニル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼンなどの芳香族ジアミン、ジアミノジシクロヘキ
シルエーテル、ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ジ
アミン、1,6−ジアミノヘキサン、1,8−ジアミノ
オクタンなどの脂肪族ジアミン、ジアミノシランなどが
挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
【0014】本発明においては、上記の(1)(3)お
よび(4)のテトラカルボン酸二無水物のモル数の総和
と、上記の(2)および(4)のジアミンのモル数の総
和とをほぼ等モルにして反応させることが好ましい。
よび(4)のテトラカルボン酸二無水物のモル数の総和
と、上記の(2)および(4)のジアミンのモル数の総
和とをほぼ等モルにして反応させることが好ましい。
【0015】上記の(1)一般式〔1〕で表されるテト
ラカルボン酸二無水物、(2)一般式〔2〕で表される
芳香族ジアミン、(3)一般式〔3〕で表されるケイ素
原子を有するテトラカルボン酸二無水物および必要に応
じて、(4)(1)および(3)以外のテトラカルボン
酸二無水物および/または(2)以外のジアミンは不活
性溶媒に溶解され、反応させてポリアミド酸とされる。
ラカルボン酸二無水物、(2)一般式〔2〕で表される
芳香族ジアミン、(3)一般式〔3〕で表されるケイ素
原子を有するテトラカルボン酸二無水物および必要に応
じて、(4)(1)および(3)以外のテトラカルボン
酸二無水物および/または(2)以外のジアミンは不活
性溶媒に溶解され、反応させてポリアミド酸とされる。
【0016】不活性溶媒としては、前記単量体の全てを
溶解する必要はないが、生成するポリアミド酸を溶解す
るものが好ましく、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチルス
ルホン、1,4−ジオキサンなどの1種または2種以上
が用いられる。これらの溶媒以外に、ガラス基板への塗
れ性を良くするための溶媒を、反応前または反応終了後
に添加することもできる。これらの溶媒としては、例え
ばブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、キ
シレン、トルエンなどが用いられる。
溶解する必要はないが、生成するポリアミド酸を溶解す
るものが好ましく、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチルス
ルホン、1,4−ジオキサンなどの1種または2種以上
が用いられる。これらの溶媒以外に、ガラス基板への塗
れ性を良くするための溶媒を、反応前または反応終了後
に添加することもできる。これらの溶媒としては、例え
ばブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、キ
シレン、トルエンなどが用いられる。
【0017】本反応で得られたポリアミド酸は100〜
400℃に加熱することおよび/または無水酢酸などの
脱水剤で化学処理することによりポリイミドとされる。
液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板
および電極上に液晶配向膜組成物より得られる液晶配向
膜を形成して液晶表示素子とされる。
400℃に加熱することおよび/または無水酢酸などの
脱水剤で化学処理することによりポリイミドとされる。
液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板
および電極上に液晶配向膜組成物より得られる液晶配向
膜を形成して液晶表示素子とされる。
【0018】本発明のポリイミド層の液晶基板上の形成
は上記の液晶配向膜用組成物を、予め例えばITO(I
ndium Tin Oxide)等の透明電極が形成
されたガラス基板上に塗布した後、乾燥、脱水閉環させ
てポリイミド層とすることにより行われる。塗布方法と
しては、浸漬法、印刷法、吹き付け法等が用いられる。
脱水閉環温度は100〜400℃、好ましくは150〜
300℃の範囲で任意に選択することができる。また加
熱時間は1分〜6時間、好ましくは1分〜3時間とされ
る。
は上記の液晶配向膜用組成物を、予め例えばITO(I
ndium Tin Oxide)等の透明電極が形成
されたガラス基板上に塗布した後、乾燥、脱水閉環させ
てポリイミド層とすることにより行われる。塗布方法と
しては、浸漬法、印刷法、吹き付け法等が用いられる。
脱水閉環温度は100〜400℃、好ましくは150〜
300℃の範囲で任意に選択することができる。また加
熱時間は1分〜6時間、好ましくは1分〜3時間とされ
る。
【0019】このようにして形成されたポリイミド層
は、表面をラビングすることによって液晶配向膜として
用いられる。液晶配向膜を有する液晶表示基板を用いて
公知の方法により液晶表示素子を得ることができる。
は、表面をラビングすることによって液晶配向膜として
用いられる。液晶配向膜を有する液晶表示基板を用いて
公知の方法により液晶表示素子を得ることができる。
【0020】
【作用】本発明におけるポリイミドは、テトラカルボン
酸二無水物と芳香族ジアミンの両者が、ビス〔(ジフェ
ノキシ)フェニル〕型の基本骨格を有するため、従来の
ポリイミドに比べてフレキシブルなコンフォメーション
を有する。そして、テトラカルボン酸二無水物の中央結
合基Y1の分子短軸方向にも、長鎖のアルキル基を導入
したことによって、更にポリマのフレキシブルな性質が
高まると共に、ガラス転移温度も低下し、低温硬化性が
可能になったものと考えられる。
酸二無水物と芳香族ジアミンの両者が、ビス〔(ジフェ
ノキシ)フェニル〕型の基本骨格を有するため、従来の
ポリイミドに比べてフレキシブルなコンフォメーション
を有する。そして、テトラカルボン酸二無水物の中央結
合基Y1の分子短軸方向にも、長鎖のアルキル基を導入
したことによって、更にポリマのフレキシブルな性質が
高まると共に、ガラス転移温度も低下し、低温硬化性が
可能になったものと考えられる。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。 2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕トリデカン二無水物の合成 2−トリデカノン51.3gとフェノール98.3gを
混合し、室温で激しく撹拌しながら塩化水素ガスを吹き
込み、3時間激しく撹拌し、さらに24時間室温で放置
した。反応したことを確認後、反応混合物をジエチルエ
ーテルに溶解し、水洗、留去、水蒸気蒸留、ジエチルエ
ーテル抽出を繰返し行い、カラムクロマトグラフィー、
減圧乾燥処理でオイル状の2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)トリデカン58.3gを得た。2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)トリデカン58.3g、
ジメチルスルホキシド750mlを撹拌しながら、Na
OH14.3g、H2O14ml、トルエン110ml
を加熱撹拌還流し、共沸脱水した。その後、トルエン、
軽留分を留去し、N−フェニル−4−ニトロフタルイミ
ドを94g添加し60℃で2時間撹拌した。更に、水に
注加、ベンゼン溶液で乾燥後、留去、カラムクロマトグ
ラフィーを通して、淡黄色の2,2−ビス〔4−(N−
フェニルフタルイミド−4−オキシ)フェニル〕トリデ
カンの結晶を80.4gを得た。2,2−ビス〔4−
(N−フェニルフタルイミド−4−オキシ)フェニル〕
トリデカン80.4g、NaOH33.4g、水500
mlをオートクレーブ中で170℃で18時間反応させ
た。冷却後、減圧でオートクレーブから反応液を出し、
水洗、ジエチルエーテル抽出を繰返し、ジエチルエーテ
ル留去、減圧乾燥して赤褐色の2,2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕トリデ
カン62.7gを得た。この化合物の赤外吸収(IR)
スペクトルを図1に示す。2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕トリデカン6
2.7g、酢酸550ml、無水酢酸33.3gを6時
間加熱還流撹拌した。その後、常圧蒸留して酢酸、過剰
の無水酢酸を留去、ジエチルエーテル溶液にして、自然
ろ過によりジエチルエーテル不溶物を除去後、留去、減
圧乾燥して2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物54.7g
を得た。この化合物の赤外吸収(IR)スペクトルを図
2に示す。
シ)フェニル〕トリデカン二無水物の合成 2−トリデカノン51.3gとフェノール98.3gを
混合し、室温で激しく撹拌しながら塩化水素ガスを吹き
込み、3時間激しく撹拌し、さらに24時間室温で放置
した。反応したことを確認後、反応混合物をジエチルエ
ーテルに溶解し、水洗、留去、水蒸気蒸留、ジエチルエ
ーテル抽出を繰返し行い、カラムクロマトグラフィー、
減圧乾燥処理でオイル状の2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)トリデカン58.3gを得た。2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)トリデカン58.3g、
ジメチルスルホキシド750mlを撹拌しながら、Na
OH14.3g、H2O14ml、トルエン110ml
を加熱撹拌還流し、共沸脱水した。その後、トルエン、
軽留分を留去し、N−フェニル−4−ニトロフタルイミ
ドを94g添加し60℃で2時間撹拌した。更に、水に
注加、ベンゼン溶液で乾燥後、留去、カラムクロマトグ
ラフィーを通して、淡黄色の2,2−ビス〔4−(N−
フェニルフタルイミド−4−オキシ)フェニル〕トリデ
カンの結晶を80.4gを得た。2,2−ビス〔4−
(N−フェニルフタルイミド−4−オキシ)フェニル〕
トリデカン80.4g、NaOH33.4g、水500
mlをオートクレーブ中で170℃で18時間反応させ
た。冷却後、減圧でオートクレーブから反応液を出し、
水洗、ジエチルエーテル抽出を繰返し、ジエチルエーテ
ル留去、減圧乾燥して赤褐色の2,2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕トリデ
カン62.7gを得た。この化合物の赤外吸収(IR)
スペクトルを図1に示す。2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕トリデカン6
2.7g、酢酸550ml、無水酢酸33.3gを6時
間加熱還流撹拌した。その後、常圧蒸留して酢酸、過剰
の無水酢酸を留去、ジエチルエーテル溶液にして、自然
ろ過によりジエチルエーテル不溶物を除去後、留去、減
圧乾燥して2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物54.7g
を得た。この化合物の赤外吸収(IR)スペクトルを図
2に示す。
【0022】出発原料の2−トリデカノン、フェノール
およびN−フェニル−4−ニトロフタルイミドを、それ
ぞれ対応する化合物に変更したほかは上記に準じた操作
を行って2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物(図3に赤外線
吸収スペクトルを示す)、2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水
物(図4に赤外線吸収スペクトルを示す)、1,1−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕−2−メチルヘプタン二無水物(図5に赤外線吸収
スペクトルを示す)および1,1−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン
二無水物(図6に赤外線吸収スペクトルを示す)を合成
した。
およびN−フェニル−4−ニトロフタルイミドを、それ
ぞれ対応する化合物に変更したほかは上記に準じた操作
を行って2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物(図3に赤外線
吸収スペクトルを示す)、2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水
物(図4に赤外線吸収スペクトルを示す)、1,1−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕−2−メチルヘプタン二無水物(図5に赤外線吸収
スペクトルを示す)および1,1−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン
二無水物(図6に赤外線吸収スペクトルを示す)を合成
した。
【0023】実施例1 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン28.7g(0.07モル)および4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル6.0g(0.03
モル)にN−メチル−2−ピロリドン451gを添加
し、充分撹拌した後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物2
8.8g(0.05モル)、3,3′,4,4′−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物11.8g(0.04
モル)および1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二
無水物4.3g(0.01モル)を加え、15℃で12
時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。
この溶液を粘度調整し、2枚のITO透明電極付きガラ
ス基板上にスピンナーで塗布し、220℃で10分加熱
し、溶媒の除去およびポリアミド酸の脱水閉環を行い、
800Åのポリイミド層を形成した。2枚のガラス基板
上のこの層の表面をラビング処理して液晶配向膜として
液晶挾持基板を得、これをラビング方向がアンチパラレ
ルになるように2枚のポリイミド層を対向させて組み合
わせ、周りをエポキシ系シール剤EN−1000(日立
化成工業株式会社製商品名)で封止し、内部に液晶ZL
I−2293(メルク社製商品名)を封入し、液晶セル
を形成した。次にこの液晶セルを安定させるためエージ
ング処理として液晶ZLI−2293のTNI(85℃)
以上の温度である130℃で1時間加熱した後、プレチ
ルト角をクリスタルローテーション法で測定したとこ
ろ、プレチルト角は4.7°であった。次に前記溶液を
用いて前記と同様の方法で640×200ドットになる
ようにITO透明電極が形成された基板上にポリイミド
層を形成し、この表面をラビング処理し、上記と同様に
して240°ツイストになるようにセルを組み立てて、
カイラル剤CB−15(メルク社製商品名)を添加した
上記の液晶を封入し、エージング処理を行って液晶表示
素子を作製した。該液晶表示素子は、640×200ド
ットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコン
トラスト良好で高表示品質であった。この液晶挟持基板
を用いて接着性試験を行った。試験法はJIS K54
00準拠碁盤目法を用いた。121℃、1気圧で促進試
験を行ったところ、24時間後でも配向膜の剥離はみら
れなかった。なお、前記の2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水
物のIRスペクトル図3には、2930cm-1、285
0cm-1にアルキル基に基づく吸収が、また、1780
cm-1、1850cm-1にカルボニル基に基づく吸収が
みられる。なお、上記ポリイミド層のイミド化率は95
%以上であり、220℃で5分加熱することにより充分
硬化が起こっていることが確認できた。
ル〕プロパン28.7g(0.07モル)および4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル6.0g(0.03
モル)にN−メチル−2−ピロリドン451gを添加
し、充分撹拌した後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物2
8.8g(0.05モル)、3,3′,4,4′−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物11.8g(0.04
モル)および1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二
無水物4.3g(0.01モル)を加え、15℃で12
時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。
この溶液を粘度調整し、2枚のITO透明電極付きガラ
ス基板上にスピンナーで塗布し、220℃で10分加熱
し、溶媒の除去およびポリアミド酸の脱水閉環を行い、
800Åのポリイミド層を形成した。2枚のガラス基板
上のこの層の表面をラビング処理して液晶配向膜として
液晶挾持基板を得、これをラビング方向がアンチパラレ
ルになるように2枚のポリイミド層を対向させて組み合
わせ、周りをエポキシ系シール剤EN−1000(日立
化成工業株式会社製商品名)で封止し、内部に液晶ZL
I−2293(メルク社製商品名)を封入し、液晶セル
を形成した。次にこの液晶セルを安定させるためエージ
ング処理として液晶ZLI−2293のTNI(85℃)
以上の温度である130℃で1時間加熱した後、プレチ
ルト角をクリスタルローテーション法で測定したとこ
ろ、プレチルト角は4.7°であった。次に前記溶液を
用いて前記と同様の方法で640×200ドットになる
ようにITO透明電極が形成された基板上にポリイミド
層を形成し、この表面をラビング処理し、上記と同様に
して240°ツイストになるようにセルを組み立てて、
カイラル剤CB−15(メルク社製商品名)を添加した
上記の液晶を封入し、エージング処理を行って液晶表示
素子を作製した。該液晶表示素子は、640×200ド
ットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコン
トラスト良好で高表示品質であった。この液晶挟持基板
を用いて接着性試験を行った。試験法はJIS K54
00準拠碁盤目法を用いた。121℃、1気圧で促進試
験を行ったところ、24時間後でも配向膜の剥離はみら
れなかった。なお、前記の2,2−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水
物のIRスペクトル図3には、2930cm-1、285
0cm-1にアルキル基に基づく吸収が、また、1780
cm-1、1850cm-1にカルボニル基に基づく吸収が
みられる。なお、上記ポリイミド層のイミド化率は95
%以上であり、220℃で5分加熱することにより充分
硬化が起こっていることが確認できた。
【0024】実施例2 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン15.6g(0.03モル)および1,6−ジアミノ
ヘキサン8.1g(0.07モル)にN−メチル−ピロ
リドン368gを添加し、充分撹拌した後、2,2−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕トリデカン二無水物19.8g(0.03モル)、
ピロメリット酸二無水物8.7g(0.04モル)およ
び1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物1
2.8g(0.03モル)を加え、25℃で10時間反
応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この溶
液を用いて実施例1と同様な方法で処理して200℃で
10分加熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間加
熱することによりエージング処理した後、プレチルト角
をクリスタルローテーション法で測定したところ、プレ
チルト角は6.7°であった。さらにこの溶液を用いて
実施例1と同様の方法で260°ツイストの液晶表示素
子を形成したが、該液晶表示素子は、640×200ド
ットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコン
トラスト良好で高表示品質であった。なお、前記の2,
2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕トリデカン二無水物のIRスペクトル図2には
2930cm-1、2850cm-1にアルキル基に基づく
吸収が、また、1780cm-1、1850cm-1にカル
ボニル基に基づく吸収がみられる。なお、上記ポリイミ
ド層のイミド化率は95%以上であり、200℃で10
分加熱することにより充分硬化が起こっていることが確
認できた。
ル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン15.6g(0.03モル)および1,6−ジアミノ
ヘキサン8.1g(0.07モル)にN−メチル−ピロ
リドン368gを添加し、充分撹拌した後、2,2−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕トリデカン二無水物19.8g(0.03モル)、
ピロメリット酸二無水物8.7g(0.04モル)およ
び1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物1
2.8g(0.03モル)を加え、25℃で10時間反
応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この溶
液を用いて実施例1と同様な方法で処理して200℃で
10分加熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間加
熱することによりエージング処理した後、プレチルト角
をクリスタルローテーション法で測定したところ、プレ
チルト角は6.7°であった。さらにこの溶液を用いて
実施例1と同様の方法で260°ツイストの液晶表示素
子を形成したが、該液晶表示素子は、640×200ド
ットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコン
トラスト良好で高表示品質であった。なお、前記の2,
2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕トリデカン二無水物のIRスペクトル図2には
2930cm-1、2850cm-1にアルキル基に基づく
吸収が、また、1780cm-1、1850cm-1にカル
ボニル基に基づく吸収がみられる。なお、上記ポリイミ
ド層のイミド化率は95%以上であり、200℃で10
分加熱することにより充分硬化が起こっていることが確
認できた。
【0025】実施例3 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン36.3g(0.07モル)および4,4′−ジアミ
ニジフェニルエーテル6.0g(0.03モル)にN−
メチル−2−ピロリドン530gを添加し、充分撹拌し
た後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水物31.5g(0.
055モル)、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物13.3g(0.03モル)および1,
3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物6.4g
(0.015モル)を加え、20℃で6時間反応させた
ところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この溶液を用い
て実施例1と同様な方法で処理して210℃で10分加
熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間加熱するこ
とによりエージング処理した後、プレチルト角をクリス
タルローテーション法で測定したところ、プレチルト角
は5.0°であった。さらにこの溶液を用いて実施例1
と同様の方法で240°ツイストの液晶表示素子を形成
したが、該液晶表示素子は、640×200ドットで駆
動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコントラスト
良好で高表示品質であった。なお、前記の2,2−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
ヘプタン二無水物のIRスペクトル図4には、2930
cm-1、2850cm-1にアルキル基に基づく吸収が、
また、1780cm-1、1850cm-1にカルボニル基
に基づく吸収がみられる。なお、上記ポリイミド層のイ
ミド化率は95%以上であり、210℃で10分加熱す
ることにより充分硬化が起こっていることが確認でき
た。
ル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン36.3g(0.07モル)および4,4′−ジアミ
ニジフェニルエーテル6.0g(0.03モル)にN−
メチル−2−ピロリドン530gを添加し、充分撹拌し
た後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水物31.5g(0.
055モル)、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物13.3g(0.03モル)および1,
3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物6.4g
(0.015モル)を加え、20℃で6時間反応させた
ところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この溶液を用い
て実施例1と同様な方法で処理して210℃で10分加
熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間加熱するこ
とによりエージング処理した後、プレチルト角をクリス
タルローテーション法で測定したところ、プレチルト角
は5.0°であった。さらにこの溶液を用いて実施例1
と同様の方法で240°ツイストの液晶表示素子を形成
したが、該液晶表示素子は、640×200ドットで駆
動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコントラスト
良好で高表示品質であった。なお、前記の2,2−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕
ヘプタン二無水物のIRスペクトル図4には、2930
cm-1、2850cm-1にアルキル基に基づく吸収が、
また、1780cm-1、1850cm-1にカルボニル基
に基づく吸収がみられる。なお、上記ポリイミド層のイ
ミド化率は95%以上であり、210℃で10分加熱す
ることにより充分硬化が起こっていることが確認でき
た。
【0026】実施例4 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕ケトン11.9g(0.03モル)および1,8−
ジアミノオクタン10.1g(0.07モル)にN−メ
チル−2−ピロリドン384gを添加し、充分撹拌した
後、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二無水物35.
4g(0.06モル)、シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物5.9g(0.03モル)およびビス(3,4
−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジメチルシラン二無
水物4.4g(0.01モル)を加え、45℃で9時間
反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この
溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理して220℃
で10分加熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間
加熱することによりエージング処理した後、プレチルト
角をクリスタルローテーション法で測定したところ、プ
レチルト角は5.3°であった。さらにこの溶液を用い
て実施例1と同様の方法で240°ツイストの液晶表示
素子を形成したが、該液晶表示素子は、640×200
ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコ
ントラスト良好で高表示品質であった。上記液晶挟持基
板を用いて実施例1と同様の方法で接着力試験を行った
ところ、24時間後でも配向膜の剥離はみられなかっ
た。なお、前記の1,1−ビス〔4−(3,4−ジカル
ボキシフェノキシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二
無水物のIRスペクトル図5には、2930cm-1、2
850cm-1にアルキル基に基づく吸収が、また、17
80cm-1、1850cm-1にカルボニル基に基づく吸
収がみられる。なお、上記ポリイミド層のイミド化率は
95%以上であり、220℃で10分加熱することによ
り充分硬化が起こっていることが確認できた。
ル〕ケトン11.9g(0.03モル)および1,8−
ジアミノオクタン10.1g(0.07モル)にN−メ
チル−2−ピロリドン384gを添加し、充分撹拌した
後、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二無水物35.
4g(0.06モル)、シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物5.9g(0.03モル)およびビス(3,4
−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジメチルシラン二無
水物4.4g(0.01モル)を加え、45℃で9時間
反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体となった。この
溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理して220℃
で10分加熱して液晶セルを形成し、130℃で1時間
加熱することによりエージング処理した後、プレチルト
角をクリスタルローテーション法で測定したところ、プ
レチルト角は5.3°であった。さらにこの溶液を用い
て実施例1と同様の方法で240°ツイストの液晶表示
素子を形成したが、該液晶表示素子は、640×200
ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せずコ
ントラスト良好で高表示品質であった。上記液晶挟持基
板を用いて実施例1と同様の方法で接着力試験を行った
ところ、24時間後でも配向膜の剥離はみられなかっ
た。なお、前記の1,1−ビス〔4−(3,4−ジカル
ボキシフェノキシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二
無水物のIRスペクトル図5には、2930cm-1、2
850cm-1にアルキル基に基づく吸収が、また、17
80cm-1、1850cm-1にカルボニル基に基づく吸
収がみられる。なお、上記ポリイミド層のイミド化率は
95%以上であり、220℃で10分加熱することによ
り充分硬化が起こっていることが確認できた。
【0027】実施例5 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕オクタン33.6g(0.07モル)および1,4
−ジアミノシクロヘキサン3.4g(0.03モル)に
N−メチル−2−ピロリドン431gを添加し、充分撹
拌した後、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物28.
0g(0.05モル)、ピロメリット酸二無水物6.5
g(0.03モル)および1,3−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン二無水物8.5g(0.2モル)を加え、5
℃で15時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体と
なった。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理
して220℃で10分加熱して液晶セルを形成し、13
0℃で1時間加熱することによりエージング処理した
後、プレチルト角をクリスタルローテーション法で測定
したところプレチルト角は9.2°であった。さらにこ
の溶液を用いて実施例1と同様の方法で260°ツイス
トの液晶表示素子を形成したが、該液晶表示素子は、6
40×200ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良
が発生せずコントラスト良好で高表示品質であった。な
お、前記の1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物のIR
スペクトル図6は、2930cm-1、2850cm-1に
アルキル基に基づく吸収が、また、1780cm-1、1
850cm-1にカルボニル基に基づく吸収がみられる。
なお、上記ポリイミド層のイミド化率は95%以上であ
り、220℃で10分加熱することにより充分硬化が起
こっていることが確認できた。
ル〕オクタン33.6g(0.07モル)および1,4
−ジアミノシクロヘキサン3.4g(0.03モル)に
N−メチル−2−ピロリドン431gを添加し、充分撹
拌した後、1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物28.
0g(0.05モル)、ピロメリット酸二無水物6.5
g(0.03モル)および1,3−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン二無水物8.5g(0.2モル)を加え、5
℃で15時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な液体と
なった。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理
して220℃で10分加熱して液晶セルを形成し、13
0℃で1時間加熱することによりエージング処理した
後、プレチルト角をクリスタルローテーション法で測定
したところプレチルト角は9.2°であった。さらにこ
の溶液を用いて実施例1と同様の方法で260°ツイス
トの液晶表示素子を形成したが、該液晶表示素子は、6
40×200ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良
が発生せずコントラスト良好で高表示品質であった。な
お、前記の1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物のIR
スペクトル図6は、2930cm-1、2850cm-1に
アルキル基に基づく吸収が、また、1780cm-1、1
850cm-1にカルボニル基に基づく吸収がみられる。
なお、上記ポリイミド層のイミド化率は95%以上であ
り、220℃で10分加熱することにより充分硬化が起
こっていることが確認できた。
【0028】比較例1 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン28.7g(0.07モル)および4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル6.0g(0.03
モル)にN−メチル−2−ピロリドン443gを添加
し、充分撹拌した後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物2
8.8g(0.05モル)および3,3′,4,4′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14.7g(0.
05モル)を加え、20℃で8時間反応させたところ、
淡黄色の粘稠な液体となった。この溶液を用いて実施例
1と同様な方法で処理して220℃で5分加熱して液晶
セを形成し、130℃で1時間加熱することによりエー
ジング処理した後、プレチルト角をクリスタルローテー
ション法で測定したところ、プレチルト角は4.1°で
あった。さらにこの溶液を用いて実施例1と同様の方法
で240°ツイストの液晶表示素子を形成したが、該液
晶表示素子は、640×200ドットで駆動でき、ドメ
イン等の配向不良が発生せずコントラスト良好で高表示
品質であった。上記液晶挟持基板を用いて実施例1と同
様の方法で接着力試験を行ったところ、配向膜は2時間
後に剥離した。
ル〕プロパン28.7g(0.07モル)および4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル6.0g(0.03
モル)にN−メチル−2−ピロリドン443gを添加
し、充分撹拌した後、2,2−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物2
8.8g(0.05モル)および3,3′,4,4′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14.7g(0.
05モル)を加え、20℃で8時間反応させたところ、
淡黄色の粘稠な液体となった。この溶液を用いて実施例
1と同様な方法で処理して220℃で5分加熱して液晶
セを形成し、130℃で1時間加熱することによりエー
ジング処理した後、プレチルト角をクリスタルローテー
ション法で測定したところ、プレチルト角は4.1°で
あった。さらにこの溶液を用いて実施例1と同様の方法
で240°ツイストの液晶表示素子を形成したが、該液
晶表示素子は、640×200ドットで駆動でき、ドメ
イン等の配向不良が発生せずコントラスト良好で高表示
品質であった。上記液晶挟持基板を用いて実施例1と同
様の方法で接着力試験を行ったところ、配向膜は2時間
後に剥離した。
【0029】
【発明の効果】本発明の液晶配向膜用組成物によって液
晶配向膜を形成する場合、良好な接着力のまま220℃
以下の温度で、短時間に硬化してイミド化率95%以上
とすることができる。またこの液晶配向膜を有する液晶
表示基板を使用して作製した液晶表示素子はドメイン等
の配向不良が発生せず電気光学特性上高い表示品質を有
するため、本発明の液晶配向膜用組成物は、高表示品質
の液晶表示素子に用いることが好ましい。
晶配向膜を形成する場合、良好な接着力のまま220℃
以下の温度で、短時間に硬化してイミド化率95%以上
とすることができる。またこの液晶配向膜を有する液晶
表示基板を使用して作製した液晶表示素子はドメイン等
の配向不良が発生せず電気光学特性上高い表示品質を有
するため、本発明の液晶配向膜用組成物は、高表示品質
の液晶表示素子に用いることが好ましい。
【図1】2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕トリデカンの赤外線吸収スペクト
ルである。
ェノキシ)フェニル〕トリデカンの赤外線吸収スペクト
ルである。
【図2】2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物の赤外線吸収
スペクトルである。
ェノキシ)フェニル〕トリデカン二無水物の赤外線吸収
スペクトルである。
【図3】2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物の赤外線吸収ス
ペクトルである。
ェノキシ)フェニル〕オクタン二無水物の赤外線吸収ス
ペクトルである。
【図4】2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水物の赤外線吸収ス
ペクトルである。
ェノキシ)フェニル〕ヘプタン二無水物の赤外線吸収ス
ペクトルである。
【図5】1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二無水物の
赤外線吸収スペクトルである。
ェノキシ)フェニル〕−2−メチルヘプタン二無水物の
赤外線吸収スペクトルである。
【図6】1,1−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物の赤外線
吸収スペクトルである。
ェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン二無水物の赤外線
吸収スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 直紀 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 川上 正洋 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 佐藤 任廷 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 横倉 久男 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 大原 周一 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内
Claims (10)
- 【請求項1】 (1)一般式〔1〕 【化1】 (式中、X1は炭素数1〜4のアルキル基、 【化2】 R1およびR2は少なくとも一方が炭素数5以上のアルキ
ル基、a、b、cおよびdは0、1または2であり、X
1は異なってもよく、R1およびR2は同一の場合があ
り、a、b、cおよびdは同じでもよい)で表されるテ
トラカルボン酸二無水物、 (2)一般式〔2〕 【化3】 (式中、X2はハロゲン原子または炭素数1〜4のアル
キル基、 【化4】 R3およびR4はアルキル基またはパーフルオロアルキル
基を示し、e、f、gおよびhは0、1または2であ
り、X2異なってもよく、R3およびR4は同一でもよく
e、f、gおよびhは同じでもよい)で表される芳香族
ジアミン、 (3)一般式〔3〕 【化5】 (式中、Arは芳香族基、R5、R6、R7およびR8は炭
素数1〜10のアルキル基、置換された炭素数1〜10
のアルキル基または芳香族基、X3は 【化6】 (pは1〜10の整数を示す)を示し、l、mは0また
は1、nは0または1〜5の整数であり、X3は異なっ
てもよく、Arは異なってもよく、R5、R6、R7およ
びR8は同一でもよく、l、mおよびnは同じ場合があ
る)で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二
無水物ならびに必要に応じて (4)(1)および(3)以外のテトラカルボン酸二無
水物および/または(2)以外のジアミンを反応させて
得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成
物。 - 【請求項2】 一般式〔1〕で表されるテトラカルボン
酸二無水物のモル数を反応に用いられる全テトラカルボ
ン酸二無水物のモル数の10〜80%、一般式〔3〕で
示されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物
のモル数を反応に用いられる全テトラカルボン酸二無水
物のモル数の5〜40%、および一般式〔2〕で示され
る芳香族ジアミンのモル数を反応に用いられる全ジアミ
ンのモル数の10〜80%とした請求項1記載の液晶配
向膜用組成物。 - 【請求項3】 液晶挾持基板の電極を形成した面上に、
請求項1記載の液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱
水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングす
る液晶配向膜の製造法。 - 【請求項4】 液晶挾持基板の電極を形成した面上に、
請求項2記載の液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱
水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングす
る液晶配向膜の製造法。 - 【請求項5】 請求項1記載の液晶配向膜組成物より形
成された液晶配向膜。 - 【請求項6】 請求項2記載の液晶配向膜組成物より形
成された液晶配向膜。 - 【請求項7】 請求項5記載の液晶配向膜を有する液晶
挾持基板。 - 【請求項8】 請求項6記載の液晶配向膜を有する液晶
挾持基板。 - 【請求項9】 液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極
を設け、該基板および電極上に請求項1記載の液晶配向
膜用組成物より得られる液晶配向膜を形成した液晶表示
素子。 - 【請求項10】 液晶挾持基板上の液晶に面する側に電
極を設け、該基板および電極上に請求項2記載の液晶配
向膜用組成物より得られる液晶配向膜を形成した液晶表
示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4082047A JPH05281553A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4082047A JPH05281553A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05281553A true JPH05281553A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13763604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4082047A Pending JPH05281553A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05281553A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1060503C (zh) * | 1997-06-11 | 2001-01-10 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 液晶显示器用聚酰亚胺取向排列剂的制备方法 |
WO2014207963A1 (ja) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 東レ株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、それを用いたフレキシブル基板、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにフレキシブル表示デバイス |
CN106662779A (zh) * | 2014-08-04 | 2017-05-10 | 捷恩智株式会社 | 液晶显示元件 |
-
1992
- 1992-04-03 JP JP4082047A patent/JPH05281553A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1060503C (zh) * | 1997-06-11 | 2001-01-10 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 液晶显示器用聚酰亚胺取向排列剂的制备方法 |
WO2014207963A1 (ja) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 東レ株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、それを用いたフレキシブル基板、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにフレキシブル表示デバイス |
JP5660249B1 (ja) * | 2013-06-26 | 2015-01-28 | 東レ株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、それを用いたフレキシブル基板、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにフレキシブル表示デバイス |
CN104395375A (zh) * | 2013-06-26 | 2015-03-04 | 东丽株式会社 | 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、使用了它们的柔性基板、滤色器及其制造方法以及柔性显示器件 |
KR20160023531A (ko) * | 2013-06-26 | 2016-03-03 | 도레이 카부시키가이샤 | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 그것을 사용한 플렉시블 기판, 컬러 필터와 그 제조 방법, 및 플렉시블 표시 디바이스 |
CN106662779A (zh) * | 2014-08-04 | 2017-05-10 | 捷恩智株式会社 | 液晶显示元件 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7303792B2 (en) | Diaminobenzene derivative, polyimide precursor and polyimide obtained therefrom, and aligning agent for liquid crystal | |
EP0219336B1 (en) | Liquid crystal orientation controlling film and liquid crystal device using the same | |
JP4928729B2 (ja) | 光活性材料 | |
KR100330385B1 (ko) | 폴리이미드와니스 | |
WO2004021076A1 (ja) | 液晶配向剤およびそれを用いた液晶表示素子 | |
TWI637026B (zh) | Liquid crystal alignment treatment agent and liquid crystal display element using same | |
KR101148812B1 (ko) | 수직 배향용 액정 배향 처리제 및 액정 표시 소자 | |
EP1408067B1 (en) | Colorless and transparent polyimidesilicone resin having thermosetting functional groups | |
JP2006511696A (ja) | トリアジン基を含むジアミン化合物、それにより製造されたポリアミック酸及び液晶配向膜 | |
KR101746042B1 (ko) | 액정 배향제, 액정 배향막, 액정 표시 소자 및 중합체 조성물 | |
KR101418465B1 (ko) | 액정 배향막의 제조 방법 및 액정 표시 소자 | |
JP2002348374A (ja) | ポリアミック酸又はポリイミド及び液晶配向剤 | |
WO2013094646A1 (ja) | ビス(ヒドロキシアミド)型酸二無水物、その製造法及びポリイミド | |
JPH11249148A (ja) | 液晶配向処理剤 | |
JPH05281553A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 | |
JPH07109438A (ja) | ポリイミドワニス | |
JPH05247209A (ja) | 液晶配向膜用塗布液およびその製造方法 | |
JPH05281554A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 | |
JPH05281552A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 | |
JP4092558B2 (ja) | 新規な液晶配向処理剤 | |
JPH05281549A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 | |
JP7376274B2 (ja) | ポリイミド前駆体樹脂組成物 | |
JPH06337425A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挟持基板および液晶表示素子 | |
JPH06194670A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 | |
JPH06337424A (ja) | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挟持基板および液晶表示素子 |