JPH05273751A - ポジネガ型感光層 - Google Patents

ポジネガ型感光層

Info

Publication number
JPH05273751A
JPH05273751A JP5001670A JP167093A JPH05273751A JP H05273751 A JPH05273751 A JP H05273751A JP 5001670 A JP5001670 A JP 5001670A JP 167093 A JP167093 A JP 167093A JP H05273751 A JPH05273751 A JP H05273751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
light
resin
layer according
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5001670A
Other languages
English (en)
Inventor
Mario Piro
マリオ・ピロ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from ITMI920029A external-priority patent/IT1262924B/it
Priority claimed from IT92MI2441 external-priority patent/IT1255551B/it
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of JPH05273751A publication Critical patent/JPH05273751A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は広い反転温度幅、優れた焼成能、耐
溶剤性および優れた貯蔵安定性および現像性を有する材
料を提供する。 【構成】 すなわち、本発明は4−および/または5−
置換ジアゾ樹脂およびポリマー樹脂を含有する感光層
が、更に分子量108以上のヒンダードフェノールまた
はポリフェノールを含むことを特徴とする反転工程では
ネガ型層として作用するポジ型感光層を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は特にオフセット印刷版の
調製に有用なネガ型層としても作用しうるポジ型感光層
に関する。
【従来の技術】
【0002】主としてオフセット印刷に用いられている
オルトキノンジアジドに基づくポジ型感光層は、特定の
成分を配合し、しかも熱的反転工程を付与すれば、ネガ
型としても作用する感光層であることは、当業者にすで
に知られている。ポジ画像は感光層をポジフィルムを介
して露光し、アルカリ溶液で現像することにより得られ
る。光照射時にオルトキノンジアジドは酸性光分解生成
物に分解し、これがアルカリ溶液で溶出される。
【0003】ネガ画像は次のごとき一連の工程で得られ
ることが知られている。米国特許第3,264,104号
には、この種の反転(reversal)工程が記載されている。
すなわち、感光層(好ましくは熱可塑性ポリマーを含む)
を露光し、露光部分を除去せずにアルカリ溶液または水
で(好ましくは昇温下)処理して、次いでオリジナルなし
に再度露光し、最後に通常の方法で現像する。この方法
により最初に露光された部分が基材上に残り、他の部分
が除去される。この工程は種々の欠点を有する。例え
ば、処理工程数が多いこと。アルカリでの最初の処理が
露光層(これはアルカリ水溶液に可溶性である)をできる
だけ剥がさないように、特に注意が必要であること。ア
ルカリに余り可溶でないポリマーを添加する必要があ
り、これが材料を他の用途に適用する場合に制限にな
る。
【0004】米国特許第4,576,901号には、オル
トキノンジアジド4−スルホンまたはカルボン酸誘導体
(通常、214ジアゾ樹脂と呼ばれている。)およびノボ
ラック樹脂を含有する感光層を露光後加熱し、次いで再
度露光した後アルカリ溶液で現像するネガティブ画像を
得る方法が示されている。ノボラック樹脂はキノンジア
ジドによって生じた光反応の生成物と加熱することによ
り反応し、アルカリ不溶性化合物を生成する。前記21
4ジアゾ樹脂は十分な熱反転を提供する。一方、215
ジアゾ樹脂(スルホン酸基またはカルボキシル基が5−
位に有する化合物)の熱反転は不可能である。
【0005】種々の添加剤が熱反転を促進することも当
業者に公知である。EP24,916号には、同様の反
転方法、すなわち、オルトキノンジアジドをベースとす
る感光性材料を露光後加熱して、さらにオリジナルなし
で露光し、次いで水性アルカリ溶液で現像してネガ画像
を形成することが開示されている。ここに開示された材
料の感光層は、特定のホトクロミック化合物(材料の加
熱時にキノンジアジドによって得られた光反応生成物と
反応し、感光層の硬化を行う)を含む。しかしながら、
このホトクロミック材料の光反応は退色を引き起こし、
ある種の用途に不利である。
【0006】GB2,082,339号には、オルトキノ
ンジアジドおよび少なくとも1つのレゾールを含有する
感光性組成物が開示されており、この組成物はリソグラ
フ印刷版の製造に用いられ、しかも、ネガおよびポジの
両方の工程に用いることができる。この反転工程はEP
24,916号に記載された方法と同様の工程をとる。
反転作用は、オルトキノンジアジドの光分解生成物が加
熱下にレゾールと不溶性反応生成物を形成することに基
づく。この種の反応はノボラック樹脂が存在しないと起
こりえない。このように、得られた印刷版はレゾールの
自己硬化特性に基づいて比較的短い保存期間の欠点を有
する。
【0007】DE−2,885,723号および米国特許
第4,104,070号には、オルトキノンジアジドを含
有する感光層が記載されており、この感光層は反転工程
にも用いることができる。この感光層は感光層の熱硬化
を行うためにN−アシル−N'−メチロールエチレンジ
アミンまたはヒドロキシエチルイミダゾールを含む。同
様の第2級または第3級アミンを含む材料は米国特許第
4,196,003号にも記載されている。
【0008】米国特許第4,581,321号には、ヘキ
サメチロールメラミンエーテルの添加によるオルトキノ
ンジアジドスルホン酸またはカルボン酸の反転工程が記
載されている。しかしながら、この種の化合物は一般に
記録層の保存期間や露光後の光や画像コントラストに関
する特定の性能に悪影響を与える。さらに、多くの用途
において、画像反転をうるのに必要な温度が余りのにも
高すぎたり、低い温度では要求される加熱時間が余りに
も長すぎたりする。
【0009】イタリア特許出願84932A/90に
は、フェノールおよび/またはフェノール誘導体のホル
ムアルデヒドによる縮合により得られる樹脂および/ま
たはジアゾ樹脂、もしくは遊離ラジカル重合に基づいて
得られたビニルフェノールおよび/またはビニルフェノ
ール誘導体から誘導された樹脂の使用が開示されてい
る。この樹脂は、遊離のフェノールおよび/またはクレ
ゾールと低分子量ポリマー部分を減少させる精製工程に
かけることにより、ポリマーの多分散率を減少させ、熱
反転による好ましい特性が得られる。
【0010】上記イタリア特許出願に記載された物質お
よび方法に、優れた特性、例えば遊離のフェノールおよ
び/またはクレゾールの存在が少ないための臭いの低
下、毒性の低下、反転に使用しうる温度範囲の広がりお
よび一般的に製造プロセスの簡略化が得られる。しかし
ながら、低い貯蔵安定性と2、3ケ月の間に現像特性の
低下が起こる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は広い反転温
度、優れた焼き付け特性、耐溶剤性、優れた貯蔵安定性
および現像性を有する材料を提供する。
【0012】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は4−
および/または5−置換ジアゾ樹脂およびポリマー樹脂
を含有する感光層が、更に分子量108以上のヒンダー
ドフェノールまたはポリフェノールを含むことを特徴と
する反転工程ではネガ型層として作用するポジ型感光層
を提供する。
【0013】本発明は、また以下の工程: (a)(i)光の作用により分解し得る4−および/または5
−置換ジアゾ樹脂、(ii)ポリマー樹脂、および(iii)分
子量108以上のヒンダードフェノールまたはポリフェ
ノールを含有する感光層を基材上に有する感光材料にオ
リジナルを介して光を照射して画像処理する工程、(b)
該感光材料を加熱して光照射部分をアルカリ不溶性にす
る工程、(c)該感光材料を冷却する工程、(d)該感光材料
全体を光に照射する工程、および(e)感光材料をアルカ
リ現像剤により現像する工程からなるネガ画像を得る方
法を提供する。
【0014】さらに、本発明は以下の工程: (a)(i)光の作用で分解しうる4−および/または5−置
換ジアゾ樹脂、(ii)ポリマー樹脂、および(iii)分子量
108以上のヒンダードフェノールまたはポリフェノー
ルを含有する感光層を基材上に塗布した感光材料にオリ
ジナルを介して光を照射し画像を形成する工程、および
(b)該感光材料をアルカリ現像剤で現像する工程からな
るポジ画像を形成する方法を提供する。
【0015】本発明に用いるジアゾ樹脂はホルムアルデ
ヒドで縮合したクレゾールおよび/またはフェノール樹
脂にその4または5位に結合した少なくとも1つのオル
トキノンジアジドグループを有する化合物である。オル
トキノンジアジド基は活性光に照射したときにアルカリ
溶液に対する溶解性が増大する。光はオルトキノンジア
ジド基の光分解を促進し、窒素を放出し、光分解酸性生
成物を形成し、これがアルカリ溶液に可溶である。
【0016】オルトキノンジアジド誘導体から誘導され
るジアゾ樹脂は式:
【0017】
【化6】
【0018】(式中、Rは酸性水素基を有するポリマー
化合物、例えばアクリル酸およびメタクリル酸のポリマ
ーまたはコポリマー、フェノールホルムアルデヒド樹
脂、ポリビニルフェノール、ポリビニルスルホン酸、ポ
リビニルホスホン酸等である。)で表わされる。本発明
の好ましい態様では、Rはホルムアルデヒドで縮合した
フェノールまたはクレゾール樹脂である。ジアゾ樹脂は
通常214または215ジアゾ樹脂と呼ばれ、それは各
々4−または5−位に置換基を有することを意味する。
そのような樹脂の例としては、ローナー(Rohner)(スイ
ス)によって生産されたRO849(214ジアゾ樹脂)
およびRO223(215ジアゾ樹脂)として市販されて
いる。
【0019】感光性ジアゾ樹脂は、本発明の感光層中に
その感光層組成物の固体分全量に基づいて20〜80重
量%、好ましくは30〜70重量%の量で配合する。オ
ルトキノンジアジド誘導体の具体例は、「感光システム
(Light SensitiviSystems)、J.コーサー(Kosa
r)、ウィリー・アンド・サンズ・インク(Wiley& Son
s.Inc.)に見られる。スルホンまたはカルボン酸誘導体
が好ましい。4−および5−スルホン酸誘導体の例は米
国特許第3,046,118、3,046,119、3,0
46,121、3,046,122および3,046,12
3号に記載されており、4−および5−カルボン酸誘導
体の例は、米国特許4,581,321および4,576,
901に見られる。
【0020】感光層組成物は上記ジアゾ樹脂とともにも
しくはに代えてオルトキノンジアジドを含んでもよい。
本発明の好ましい態様によれば、オルトキノンジアジド
は一般式:
【0021】
【化7】
【0022】(式中、Rはアリール基を示す)で表わされ
る。別に、2つのオルトキノンジアジド誘導基がRと結
合してもよい。オルトキノンジアジド類の具体的な例と
しては:
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】が挙げられる。
【0026】本発明の分子量108以上のヒンダードフ
ェノールまたはポリフェノールは1またはそれ以上のヒ
ドロキシル基がベンゼン環に結合した芳香族化合物であ
って、そのベンゼン環はまたはアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基等で置換されている。「ヒンダードフェ
ノール」とはベンゼン環の2−および/または5位(すな
わち、ヒドロキシル基に対し、オルト位)に置換基を有
し、その置換基がヒドロキシル基の立体障害をもたらす
フェノール誘導体を意味する。上記ヒンダードフェノー
ルおよびポリフェノールは抗酸化剤として当業者に公知
である。それらは種々の製造元から種々の名前で市販さ
れており、例えばイルガノックス(チバガイギー社)、ア
ンチオキシダント(バイエル社)、トパノール(Topanol)
およびノノクッス(Nonox)(インペリアル・ケミカル
社)、イオノール(Ionol)(シェル化学社)、テノックス
(Tenox:イーストマン・ケミカル・インターナショナ
ル社)、サントホワイト(Santowhite:モンサント社)、
エージライト(アンカー・ケミカル社)等が挙げられる。
各々の化合物はそこに付されている文字や番号によって
分類され、例えばイルガノックス1010、トパノール
OC、エージライトSPAR等である。
【0027】本発明の好ましい態様によれば、ヒンダー
ドフェノールまたはポリフェノール化合物は一般式:
【0028】
【化10】
【0029】(式中、RはHまたはアルキル基であり、
1はアルキル基またはアルキレン基であり、R2はp−
価アルキル基、アリール基、アラルキル基またはヘテロ
環基であり、mは0〜3の整数、nは1〜4の整数、p
は0〜3の整数およびqは1〜4の整数を示す。)で表わ
される。「ポリフェノール化合物」とは、1つのベンゼン
環上に1以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合
物および有機基によって結合された1以上のフェノール
基を有するフェノール化合物の両者を意味する。
【0030】本発明中において「基」とは、化学的化合物
または置換基を表現するのに用いられ、化学物質は基礎
となる基と通常の置換で置換された基を含む。Rは好ま
しくは炭素数1〜8のアルキル鎖、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソブチル、オクチル等である。R1
は炭素数1〜8を有するアルキルまたはアルキレン基で
あって、メチル、エチル、プロピル、プロペニル、ブチ
ル、t−ブチル、ブテニル、ペンチル、ネオペンチル等
が挙げられる。
【0031】R1は好ましくは炭素数3以上の脂肪族鎖
であり、式: -CH2−CH2−CO−X(R3)z (式中、Xは酸素または窒素であり、R3は炭素数1〜2
0のアルキルまたはシクロアルキル基であり、zは1ま
たは2である。)で表わされる。また、R2は置換または
非置換アリール、または芳香族または非芳香族窒素含有
ヘテロ環基を示す。
【0032】特に、上記一般式(II)によって表わされ
るポリフェノール化合物はチバガイギー社から市販のイ
ルガノックスとして知られている化合物を包含する。上
記フェノールおよびポリフェノール化合物は感光層中に
その固形分に基づいて0.1〜50重量%、好ましくは
0.5〜30重量%、より好ましくは0.5〜5重量%の
量で配合される。
【0033】本発明によるヒンダードフェノールまたは
ポリフェノール化合物の具体的な例としては:
【0034】
【化11】
【0035】
【化12】
【0036】
【化13】
【0037】
【化14】
【0038】
【化15】
【0039】
【化16】
【0040】
【化17】
【0041】が挙げられる。本発明の感光層はさらに感
光層組成物に用いられる溶剤に可溶で、かつ、水性アル
カリ溶液に可溶もしくは少なくとも膨潤しうるポリマー
樹脂を含む。本発明の感光層に有用なポリマー樹脂の例
としては、ノボラック樹脂またはその誘導体、レゾール
樹脂またはその誘導体、マレイン酸無水物とスチレンと
の共重合体、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、
ビニルポリマーおよびコポリマー(例えば、ポリビニル
アセテート、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルフェノール)等が挙げられる。本発明の
好ましい態様によれば、アルカリ可溶性ポリマー樹脂は
一般式:
【0042】
【化18】
【0043】(式中、RはH、またはアルキル基(好ま
しくは炭素数1〜12)またはアリール基(好ましくは炭
素数20まで、例えばフェニルおよびナフチル)であっ
てよい。)が挙げられる。アルカリ可溶性ポリマー樹脂
は、本発明の感光層組成物中にその固形分に基づいて2
0〜80重量%、好ましくは30〜70重量%配合して
もよい。
【0044】本発明の好ましい態様では、フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂およびポリビニルアルコール樹脂か
らなる群から選択されるポリマーならびにジアゾ樹脂の
両者とも、好ましくは数平均分子量(Mn)900〜20
00、より好ましくは1100〜1800、例えば16
00を有し、かつ、多分散率(D=Mw/Mn、ただし
Mwは平均分子量)1.2〜4、好ましくは2〜3、例え
ば2.8を有し、0.5%アセトン溶液中でpH3〜7、
好ましくは4〜5、好ましくは4.5を示す。Mnおよ
びMwは以下の式:
【0045】
【数1】
【0046】(式中、Niは分子量Miを有する分子の
数を示し、Nは分子の総数を示し、Wiは分子量Miを
有する分子の重量部分を示し、Wは総分子量を示す。)
により得られる。
【0047】上記樹脂およびジアゾ樹脂精製方法は、イ
タリア特許出願IT84932A/90に記載のよう
に、樹脂(またはジアゾ樹脂)を市販のアセトンに溶解
し、得られた溶液を1滴づつ分散し、沈澱物を濾過し、
残渣を50〜60℃で1mmHgの圧力で乾燥すること
からなる。乾燥後、処理を繰り返して所望の数平均分子
量および多分散率になるまで繰り返す。好ましくは、本
発明のホトレジストまたは感光層の組成物は適当な添加
剤をレオロジーまたは化学−物理特性を改良するために
加えてもよく、例えばBYKケミー(ドイツ)より市販の
DISTERBYKおよび米国3M社から市販のFLU
ORAT FC等が挙げられる。
【0048】好ましい態様では、組成物は光照射により
遊離ラジカルまたは酸残基を形成する他の感光性化合物
を含んでもよく、そのような例としては米国特許3,9
87,037、3,954,475、4,239,850お
よび4,189,323に記載のごときハロゲン化トリア
ジン誘導体が挙げられる。ホトレジスト組成物は現像後
所望のコントラストを得るために染料、例えばBASF
(ドイツ)から市販のFLEXO615バイオレット、F
LEXO615ブルーおよびSUDAN670ブルー等
を含んでもよい。
【0049】上記染料のほかに、光照射およびpH変化
時にトーンが変化する染料を所望により含んでもよい。
これらの染料の使用は露光部分と未露光部分とを区別す
る。このことは上述のように反転層のために特に有用で
ある。何故ならば、最初の露光が行なわれた部分をすぐ
にチェックでき(この層はネガ型として働く)、第2の露
光が行なわれた部分(この層はポジ型と働く)をチェック
できる。そのような染料の例としては、3M社(米国)か
ら市販のブロモフェノールブルー、ブロモクレゾールグ
リーン、メチルオレンジおよびメチルレッドやエチルバ
イオレット等が挙げられる。
【0050】公知のように、感光性組成物の層は適当な
基材上に塗装される。有用な基材としては、シリコンプ
レート、無水ケイ酸で被覆されたシリコンプレート、ア
ルミニウムまたはその合金のプレート、クロムプレー
ト、ニッケルプレート、ステンレススチールプレート、
黄銅プレート、クロムもしくは銅メッキ鉄プレート、エ
ポキシ樹脂−ガラスのロールドセクション、ポリエステ
ル樹脂−ガラスのロールドセクション、ガラスプレー
ト、セラミック基材、熱可塑性物質層が挙げられる。例
えば、オフセット印刷マトリックスにおいて、支持体は
公知の電気化学技術によってアノード化された機械的お
よび/もしくは電気化学的に粗面化されたアルミニウム
から得られる。その後、アルミニウムプレートを上記感
光性組成物で被覆する。
【0051】被覆前に、組成物は一般に適当な溶剤に溶
解する。溶剤の選択は使用する塗装方法、所望の層の厚
さ、乾燥条件および成分に対する化学的不活性を考慮す
べきである。有用な溶剤は例えば、ケトン類(例えば、
メチルエチルケトン)、アルコール類(例えば、n−プロ
パノール)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラ
ン)、アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル)およびエステル類(例えば、ブチ
ルアセテート)が挙げられる。特定の用途のためにはア
クリロニトリル、ジオキサンまたはジメチルホルムアミ
ドの混合物を用いてもよい。本発明の好ましい態様によ
れば、好ましい溶剤はメチルエーテルエチレングリコー
ルである。感光性被覆組成物を適当な成分の固体混合物
を溶剤中に10:90〜30:70の重量比で溶解するこ
とにより調製する。
【0052】支持体の被覆は当業者に公知の方法、例え
ばスプレーコーティング、スプレー、浸漬、ロールコー
ティング、スロットダイ、ブレードコーティング等によ
り行ってもよい。露光に際し、常套の光源または、別に
電子またはレーザー源を用いてもよい。現像に用いる水
性アルカリ溶液はpH10〜14を有し、少量の溶剤お
よび界面活性剤を含んでもよい。露光後、感光性材料を
中間的な処理なしに加熱する。加熱は方射、対流、熱源
への接触(例えば、ヒートローラ)または加熱された不活
性溶液中への浸漬によって行ってもよい。加熱温度は1
00〜200℃、好ましくは125〜170℃である。
本発明の感光層の成分は未露光部分では変化しない。露
光部分の成分はその化学的特性が変化し、アルカリ不溶
性になる。加熱時間は10秒〜10分、好ましくは30
秒〜5分、より好ましくは40秒〜2分である。熱反転
は露光部分におけるアルカリ不溶性の形成を促進する。
【0053】加熱および冷却後、本発明の感光層を第2
の露光により全面を露光する。この第2の露光の間に、
最初の未露光部分(ここはまだ感光性を有している)がそ
の化学性組成をその光分解生成物(これはアルカリ可溶
性である)に変える。第2の露光に続いて、本発明の感
光層を常套のアルカリ現像剤により現像する。最初の露
光の間に露光されなかった部分は除去される。本発明の
感光層の処理に用いられる現像剤の例としては、アルカ
リ金属ホスフェート、シリケート、カーボネートまたは
ヒドロキシドおよび少量の界面活性剤および/または有
機溶剤を含むアルカリ溶液である。本発明の利点は、か
なり広い範囲の反転温度、短い反転時間、非常にシャー
プなネガ像、非常に優れた耐溶剤性、焼成能、優れた貯
蔵安定性や現像性に存する。
【0054】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
すべての%は特に指示がない限り総固形分重量によって
表わされる。
【0055】標準工程 感光層組成物を以下の実施例に記載の固体混合物をメチ
ルエーテルエチレングリコールおよびエチレングリコー
ルの8:1混合物からなる溶媒中に溶解し、室温で一昼
夜撹拌することにより調製した。電気化学的に酸化した
アルミニウムプレートを、前処理および乾燥した後、被
覆基材として用いた。被覆は通常の被覆機械(R&Kコ
ート・インスツルメント社(英国))によって市販されて
いるコーティングマシンによって行った。塗装プレート
を100℃で5分、120℃で1分間乾燥した後、塗装
層は約2.5g/mm2であった。露光はサック(Sack)
LCXインスツルメントにより5KWランプでエネルギ
ー強度118mj/cm2で行った。ポジ画像の反転は
135℃で60秒間エヤーオーブンの中で行った。現像
はダイヤプリント3Mイタリアによって製造されている
アルカリ現像剤LL/Tを用いて総現像時間30秒(2
2℃)で行った。
【0056】露光適性、解像度、階調、ドット鮮明度の
結果はグラフィック・アート社(Grahic Art Industr
y)のプローモーション・オブ・リサーチのためのアソシ
エーション(The Association for the Promotion of
Research)のUGRA−プレート・コントロール・ウ
ェッジ(plate Control Wedge)によって得られる。U
GRAプレートの「クリーン」ステップの数はポジ材料に
は、白(すなわち、印刷されていない部分)であり、階調
およびプレートの適性露光の指数を示すステップ数を示
す。ネガティブ材料に対しては同じ指数が「ソリッド」ス
テップ(すなわち、黒、印刷されている部分)によって表
わされる。解像度は可視化方法によりプレート上に再生
されたUGRAプレートコントロールフェッジのより細
いミクロラインの幅(マイクロメートル)により表わされ
る。ドット鮮明度はプレート上に再生されたUGRAプ
レート・コントロール・ウェッジのドット%によって表
わされる。勿論、解像度およびドット鮮明度の値はとも
にプレートの正しい露光性を意味する。
【0057】実施例1 以下の成分を有する固体混合物を調製した:高い平均分
子量とモノ、ジおよびトリクレゾールの低い含有量を有
する精製p−クレゾールノボラック樹脂(35.0%)、
t−クレゾールノボラック樹脂と5−スルホニルクロラ
イド−o−キノンジアジドとの反応により得られた21
5ジアゾ樹脂(50.5%)、シェネクタディー社(Schen
ectady)(米国)によって市販されているm−クレゾール
ノボラック樹脂HJR11119(12.0%)、ハロゲ
ン化トリアジン誘導体(0.44%)、エチルバイオレッ
ト染料(1.40%)およびマキシロン(Maxillon)ブルー
染料(0.64%)。標準条件に記載された方法の後、画
像がプレート上に得られなかった。すべての皮膜が除去
された。
【0058】実施例2 以下の成分を有する固体混合物を調製した:高い平均分
子量とモノ、ジおよびトリクレゾールの低い含有量を有
する精製p−クレゾールノボラック樹脂(35.0%)、
p−クレゾールノボラック樹脂と5−スルホニルクロラ
イド−o−キノンジアジドとの反応により得られた21
5ジアゾ樹脂(50.5%)、米国シェネクタディー社に
より市販のm−クレゾールノボラック樹脂HJR111
19 (9.0%)、チバガイギー社から市販のイルガノ
ックス 1010 (3.0%)、ハロゲン化トリアジン
誘導体(0.44%)、エチルバイオレット染料(1.40
%)およびマキシロンブルー染料(0.64%)。上記標準
工程の後、プレートは強いネガ画像を示した。(2UG
RAソリッドステップおよび6UGRAミクロライ
ン)。
【0059】実施例3 以下の成分を有する固体混合物を調製した:高い平均分
子量とモノ、ジおよびトリクレゾールの低い含有量を有
する精製p−クレゾールノボラック樹脂(35.0%)、p
−クレゾールノボラック樹脂と5−スルホニルクロライ
ド−o−キノンジアジドとの反応により得られた215
ジアゾ樹脂(50.5%)、チバガイギー社から市販のイ
ルガノックス1010 (12.0%)、ハロゲン化トリ
アジン誘導体(0.44%)、エチルバイオレット染料
(1.40%)およびマキシロンブルー染料(0.64%)。
上記標準工程の後、プレートは良好なネガ画像を示し
た。(3UGRAソリッドステップおよび8UGRAミ
クロライン)。
【0060】実施例4 以下の成分を有する固体混合物を調製した:ベークライ
ト社(Bakelite AG;ドイツ)から市販のp−クレゾ
ールノボラック樹脂LB744(35.0%)、p−クレ
ゾールノボラック樹脂と5−スルホニルクロライド−o
−キノンジアジドとの反応により得られた215ジアゾ
樹脂(45.5%)、ワード・ブレンキンソップ社(Ward
Blenkinsop Ltd.;英国)より市販の215ビス−
ジアゾエステル(2.0%)、チバガイギー社から市販の
イルガノックス1010 (15.0%)、ハロゲン化ト
リアジン誘導体(0.44%)、エチルバイオレット染料
(1.40%)およびマキシロンブルー染料(0.64
%)。 上記標準工程の後、プレートは良好なネガ画像を示し
た。(3UGRAソリッドステップおよび8UGRAミ
クロライン)。
【0061】実施例5 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:ローナー社
(スイス)より市販の214ジアゾ樹脂RO849 (5
0.0%)、米国シェネクタリー社から市販のm−クレゾ
ールノボラック樹脂L−6484(47.5%)、ハロゲ
ン化トリアジン誘導体(0.44%)、エチルバイオレッ
ト染料(1.40%)およびマキシロンブルー染料(0.6
4%)。上記標準工程をした後、プレート上には画像が
なかった。すべての皮膜が除去された。
【0062】実施例6 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:ローナー社
(スイス)より市販の214ジアゾ樹脂RO849 (1
2.0%)、米国シェネクタリー社から市販のm−クレゾ
ールノボラック樹脂L−6484(35.0%)、p−ク
レゾールノボラック樹脂および4−スルホニルクロライ
ド−o−キノンジアジドとの反応により得られた214
ジアゾ樹脂(25.0%)米国シェネタリー社から市販の
m−クレゾールノボラック樹脂HJR11119(25.
5%) ハロゲン化トリアジン誘導体(0.44%)、エチルバイ
オレット染料(1.40%)およびマキシロンブルー染料
(0.64%)。上記標準工程をした後、プレート上にネ
ガ画像が少し存在した。
【0063】実施例7 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:ローナー社
(スイス)から市販の214ジアゾ樹脂RO849 (5
7.5%)、p−クレゾールノボラック樹脂および4−ス
ルホニルクロライド−o−キノンジアジドとの反応によ
り得られた214ジアゾ樹脂(7.0%)、米国シェネク
タリー社により市販m−クレゾールノボラック樹脂HJ
R11119 (30.0%)、チバガイギー社から市販
のイルガノックス1198 (3.0%)、ハロゲン化ト
リアジン誘導体(0.44%)、エチルバイオレット染料
(1.40%)およびマキシロンブルー染料(0.64%)。
上記標準工程の後、プレートはネガ画像を示す(2UG
RAソリッドステップおよび6UGRAミクロライ
ン)。
【0064】実施例8 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:p−クレゾ
ールノボラック樹脂および4−スルホニルクロライド−
o−キノンジアジドとの反応により得られた214ジア
ゾ樹脂(48.7%)、米国シェネクタリー社により市販
m−クレゾールノボラック樹脂HJR11119 (4
8.8%)、ハロゲン化トリアジン誘導体0.44%、エ
チルバイオレット染料1.40%およびマキシロンブル
ー染料0.64%。上記標準工程の後、プレートにはネ
ガ画像が少し存在した。
【0065】実施例9 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:p−クレゾ
ールノボラック樹脂および4−スルホニルクロライド−
o−キノンジアジドとの反応により得られた214ジア
ゾ樹脂(48.2%)、米国シェネクタリー社により市販
m−クレゾールノボラック樹脂HJR11119 (3
7.4%)、チバガイギー社から市販のイルガノックス1
330 (11.9%)、ハロゲン化トリアジン誘導体
(0.44%)、エチルバイオレット染料(1.40%)およ
びマキシロンブルー染料(0.64%)。上記標準工程の
後、プレートはネガ画像を示す(2UGRAソリッドス
テップおよび6UGRAミクロライン)。
【0066】実施例10 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:p−クレゾ
ールノボラック樹脂および4−スルホニルクロライド−
o−キノンジアジドとの反応により得られた214ジア
ゾ樹脂(48.2%)、米国シェネクタリー社により市販
m−クレゾールノボラック樹脂HJR11119 (3
7.4%)、チバガイギー社から市販のイルガノックス1
076 (11.9%)、ハロゲン化トリアジン誘導体
(0.44%)、エチルバイオレット染料(1.40%)およ
びマキシロンブルー染料(0.64%)。上記標準工程の
後、プレートはネガ画像を示す(1UGRAソリッドス
テップおよび6UGRAミクロライン)。
【0067】実施例11 以下の成分を用いて固体混合物を調製した:p−クレゾ
ールノボラック樹脂およびスルホニルクロライド−o−
キノンジアジドとの反応により得られた214ジアゾ樹
脂(48.2%)、米国シェネクタリー社により市販m−
クレゾールノボラック樹脂HJR11119 (37.4
%)、チバガイギー社から市販のイルガノックス311
4 (11.9%)、ハロゲン化トリアジン誘導体(0.4
4%)、エチルバイオレット染料(1.40%)およびマキ
シロンブルー染料(0.64%)。上記標準工程の後、プ
レートはネガ画像を示す(2UGRAソリッドステップ
および8UGRAミクロライン)。
【0068】実施例12 以下の成分を用いて固体混合物を調製:数平均分子量(M
n)約1600、多分散率値(D)約2.8およびモノ、ジ
およびクレゾール含有量0.2%以下を有する精製m−ク
レゾールノボラック樹脂(60%)、ローナー社(スイス)
から市販の214ジアゾ樹脂RO849 (10%)、p
−クレゾールノボラック樹脂および5−スルホニルクロ
ライド−o−キノンジアジドの反応により得られた21
5ジアゾ樹脂(24%)、ハロゲン化トリアジン誘導体
(4%)、染料(エチルバイオレット約1.4%とマキシロ
ンブルー0.6%)(2%)。上記標準工程の後にプレート
をポジティブとして露光し、現像した。結果は以下の通
りであった: UGRAグレーテップ 4クリーン 5ゴースト UGRAミクロ−ライン 15 ドット 2% 室温で2ケ月間貯蔵後、同様の露光を行い現像した。そ
の結果は以下の通りである: UGRAグレーテップ 2クリーン 3ゴースト UGRAミクロライン 8〜10 ドット 1〜2% 室温で2ケ月貯蔵後、イルガノックス1010 (0.5
%)を加えたプレートを前記と同様にポジティブで露光
し、結果は以下の通りであった: UGRAグレーテップ 4クリーン 5ゴースト UGRAミクロライン 15 ドット 2% 結果における変化は露光前に室温で6ケ月または12ケ
月貯蔵したプレートでも見られなかった。イルガノック
ス1010(0.25%)およびイルガノックス1076
(0.25%)またはイルガノックス1010(0.25%)
およびBHT(0.25%)の混合物の使用は室温で2ケ
月後でも同じ結果をもたらした。「BHT」は2,6−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエンを表わす。
【0069】実施例13 以下の成分を用いて固体混合物を調製:数平均分子量
(Mn)約1600、多分散率値(D)約2.8およびモ
ノ、ジおよびクレゾール含有量0.2%以下を有する精
製m−クレゾールノボラック樹脂(60%)、ローナー社
(スイス)から市販の214ジアゾ樹脂RO849 (1
0%)、p−クレゾールノボラック樹脂および4−スル
ホニルクロライド−o−キノンジアジドの反応により得
られた214ジアゾ樹脂(24%)、ハロゲン化トリアジ
ン誘導体(4%)、染料(エチルバイオレット約1.4%と
マキシロンブルー0.6%)(2%)。上記標準工程の後に
プレートをポジティブとして露光し、現像した。結果は
以下の通りであった: UGRAグレーテップ 4クリーン 5ゴースト UGRAミクロ−ライン 12〜15 ドット 2% 室温で2ケ月間貯蔵後、同様の露光を行い現像した。そ
の結果は以下の通りである: UGRAグレーテップ 2クリーン UGRAミクロライン 8 ドット 1〜2% 室温で2ケ月貯蔵後、イルガノックス1010 (0.5
%)を加えたプレートを前記と同様にポジティブで露光
し、上記と同じ結果を得た。結果における変化は露光前
に室温で6ケ月または12ケ月貯蔵したプレートでも見
られなかった。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 4−および/または5−置換ジアゾ樹脂
    およびポリマー樹脂を含有する感光層が、更に分子量1
    08以上のヒンダードフェノールまたはポリフェノール
    を含むことを特徴とする反転工程ではネガ型層として作
    用するポジ型感光層。
  2. 【請求項2】 該ヒンダードフェノールまたはポリフェ
    ノールが式: 【化1】 (式中、RはHまたはアルキル基であり、R1はアルキル
    基またはアルキレン基であり、mは0〜3の整数であ
    り、nは1〜4の整数である。)で表わされる請求項1
    記載の感光層。
  3. 【請求項3】 該ヒンダードフェノールまたはポリフェ
    ノールが式: 【化2】 (式中、RはHまたはアルキル基を示し、R1はアルキル
    基またはアルキレン基を示し、R2はp−価のアルキ
    ル、アリール、アラルキルまたはヘテロ環基であり、m
    は0〜3の整数であり、pは0〜3の整数であり、qは
    1〜4の整数である。)で表わされる請求項1記載の感
    光層。
  4. 【請求項4】 該ヒンダードフェノールまたはポリフェ
    ノールがすべての固体の感光層組成物の重量に基づいて
    0.1〜50重量%である請求項1記載の感光層。
  5. 【請求項5】 該ジアゾ樹脂が式: 【化3】 (式中、Rは酸性水素を含有するポリマー化合物であ
    る。)を有する請求項1記載の感光層。
  6. 【請求項6】 Rがホルムアルデヒドで縮合したフェノ
    ールまたはクレゾール樹脂である請求項5記載の感光
    層。
  7. 【請求項7】 該ジアゾ樹脂が数平均分子量Mn900
    〜2000を有し、多分散率(D=Mw/Mn)1.2
    〜4である請求項5記載の感光層。
  8. 【請求項8】 組成物が、前記ジアゾ樹脂に加えてまた
    は代えて、式: 【化4】 (式中、Rはアリール基を示す。)で表わされる感光性オ
    ルトキノンジアジド誘導体を含有する請求項1記載の感
    光層。
  9. 【請求項9】 該ポリマー樹脂がノボラック樹脂および
    その誘導体、レゾール樹脂およびその誘導体、マレイン
    酸とスチレンとの共重合体、ポリアクリレート、ポリメ
    タクリレート、ビニルポリマーおよびコポリマーからな
    る群から選択される請求項1記載の感光層。
  10. 【請求項10】 該ポリマー樹脂が一般式: 【化5】 (式中、RはH、炭素数1〜12のアルキル基または炭
    素数20以下のアリール基である。)で表わされるフェ
    ノール−ホルムアルデヒド樹脂およびポリビニルフェノ
    ール樹脂からなる群から選択される請求項1記載の感光
    層。
  11. 【請求項11】 該ポリマー樹脂が数平均分子量Mn9
    00〜2000および多分散率(D=Mw/Mn)1.
    2〜4を有する請求項10記載の感光層。
  12. 【請求項12】 組成物が感光層のレオロジー特性およ
    び化学−物理特性を改良するために少なくとも1種の添
    加剤を含む前記いずれかに記載の感光層。
  13. 【請求項13】 感光層が光照射時に遊離ラジカルまた
    は酸基を形成するハロゲン化トリアジアジン誘導体を含
    む前記いずれかに記載の感光層。
  14. 【請求項14】 感光層が所望のコントラストを現像後
    に提供する少なくとも1種の染料を含む前記いずれかに
    記載の感光層。
  15. 【請求項15】 感光層が露光部分と非露光部分を区別
    するための、少なくとも1つの光照射時またはpH変化
    時にトーンを変える染料を含む前記いずれかに記載の感
    光層。
  16. 【請求項16】 以下の工程: (a)(i)光の作用により分解し得る4−および/または5
    −置換ジアゾ樹脂、(ii)ポリマー樹脂、および(iii)分
    子量108以上のヒンダードフェノールまたはポリフェ
    ノールを含有する感光層を基材上に有する感光材料にオ
    リジナルを介して光を照射して画像処理する工程、(b)
    該感光材料を加熱して光照射部分をアルカリ不溶性にす
    る工程、(c)該感光材料を冷却する工程、(d)該感光材料
    全体を光に照射する工程、および(e)感光材料をアルカ
    リ現像剤により現像する工程からなるネガ画像を得る方
    法。
  17. 【請求項17】 以下の工程: (a)(i)光の作用で分解しうる4−および/または5−置
    換ジアゾ樹脂、(ii)ポリマー樹脂、および(iii)分子量
    108以上のヒンダードフェノールまたはポリフェノー
    ルを含有する感光層を基材上に塗布した感光材料にオリ
    ジナルを介して光を照射し画像を形成する工程、および
    (b)該感光材料をアルカリ現像剤で現像する工程からな
    るポジ画像を形成する方法。
JP5001670A 1992-01-10 1993-01-08 ポジネガ型感光層 Pending JPH05273751A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ITMI920029A IT1262924B (it) 1992-01-10 1992-01-10 Composizione di uno strato fotosensibile resistente all'invecchiamento
IT92A002441 1992-10-26
IT92A000029 1992-10-26
IT92MI2441 IT1255551B (it) 1992-10-26 1992-10-26 Composizione fotosensibile per materiale da stampa positiva-negativa.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05273751A true JPH05273751A (ja) 1993-10-22

Family

ID=26330819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5001670A Pending JPH05273751A (ja) 1992-01-10 1993-01-08 ポジネガ型感光層

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0550893A1 (ja)
JP (1) JPH05273751A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001323037A (ja) * 2000-05-11 2001-11-20 Inst Of Physical & Chemical Res 光熱硬化性樹脂組成物
JP2011013390A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Fujifilm Corp 層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、有機el表示装置、及び液晶表示装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH063544B2 (ja) * 1988-07-07 1994-01-12 住友化学工業株式会社 ポジ型感放射線性レジスト組成物
DE69132694T2 (de) * 1990-03-08 2002-06-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende Photolackzusammensetzung
JPH0450851A (ja) * 1990-06-14 1992-02-19 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型感放射線性レジスト組成物

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001323037A (ja) * 2000-05-11 2001-11-20 Inst Of Physical & Chemical Res 光熱硬化性樹脂組成物
JP2011013390A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Fujifilm Corp 層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、有機el表示装置、及び液晶表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0550893A1 (en) 1993-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4308368A (en) Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JP3258014B2 (ja) ポジ型放射線感応性混合物およびそれを使用して製造した記録材料
JPS63271346A (ja) 感光性組成物及び感光性複写材料
JPS6039641A (ja) ネガチブレリーフコピーの製造方法
JPS58114031A (ja) レリ−フ像の製造法
US5837417A (en) Quinone diazide compositions containing low metals p-cresol oligomers and process of producing the composition
US4460674A (en) Posi-type quinone diazide photosensitive composition with sensitizer therefor
JPS5934293B2 (ja) 感光性組成物
US4931381A (en) Image reversal negative working O-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment
KR960015635B1 (ko) 감광성 조성물, 이로부터 제조한 감광성 복사물질 및 네가티브 릴리프 복사물의 생산방법
JPH01263647A (ja) 感光性組成物、感光性複写材料及びネガチブレリーフ複写の製法
JP2806474B2 (ja) 感光性組成物
JPH05273751A (ja) ポジネガ型感光層
US5645969A (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPH04214564A (ja) 照射感応性混合物、それから製造する照射感応性記録材料およびレリーフ記録物の製造方法
JP3066068B2 (ja) 陽画フォトレジスト組成物
JP2754304B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPH11194489A (ja) 平版印刷版用感光性組成物
KR100447950B1 (ko) 포지티브형 포토레지스트 조성물
WO1993018438A1 (en) Positive photoresist composition
JPH0643636A (ja) 感光性平版印刷版
JPH04204453A (ja) 感光性組成物
JPH04122939A (ja) 感光性組成物
JPH02186352A (ja) 界面活性剤で処理された感光性平版印刷版
JPH0342463B2 (ja)