JPH05270164A - 保護ガム液塗布処理装置 - Google Patents

保護ガム液塗布処理装置

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JPH05270164A
JPH05270164A JP6872492A JP6872492A JPH05270164A JP H05270164 A JPH05270164 A JP H05270164A JP 6872492 A JP6872492 A JP 6872492A JP 6872492 A JP6872492 A JP 6872492A JP H05270164 A JPH05270164 A JP H05270164A
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貞夫 栗生
Yasuhiro Aizawa
泰洋 相澤
Yuji Takagami
裕二 高上
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Abstract

(57)【要約】 【目的】少量の液供給量で版面に均一に保護ガム液を供
給して塗布ムラを抑制し、断続運転での保護ガム液供給
手段の目詰まりを抑制して、長期間安定な塗布処理を可
能にすると共に、起動から時間を経ずに処理が開始でき
る保護ガム液塗布処理装置を提供する。 【構成】アルカリ性処理液により非画像部が溶解除去さ
れた平版印刷版をロ−ル搬送しながら保護ガム液を塗布
して処理する保護ガム液塗布処理装置に於て、平版印刷
版を搬送すると共に版面に保護ガム液を塗布延展する保
護ガム液塗布ロ−ルと、該ロ−ルの版搬送方向手前にあ
ってその外周の一部に当接して平版印刷版へ付与される
保護ガム液量を制限する液計量ロ−ルと、両ロ−ルに保
護ガム液を供給する、少なくとも単位時間当たりの供給
量または供給時間の何れかが異なる少なくとも二系統の
保護ガム液供給手段を有する保護ガム液塗布処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ性処理液によ
って非画像部が溶解除去された平版印刷版をロ−ル搬送
しながら保護ガム液を塗布して処理する保護ガム液塗布
処理装置に関し、経時的変動を防止して長期間安定な処
理が行なえ、最少量に近い供給量で均一な塗布処理を可
能にする保護ガム液塗布処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】非画像部アルカリ溶解除去型平版印刷版
には、親水性支持体上に少なくとも活性線による化学構
造変化を伴う活性線誘起処理液可溶化物質或は活性線硬
化性物質を含有する感光層を設けてなる感光性平版印刷
版(所謂PS版)が知られており、高耐刷性が要求され
る重印刷に広く利用されている。これらは、走査露光の
光源(例えば半導体レ−ザ等)域に画像形成出来る感度
を有し、かつ明室での取扱いが容易な印刷版は未だ一般
化しておらず、予め画像記録された銀塩写真フィルム原
版を印刷版感光面に密着させて露光するが、これにより
最終印刷物に於ける画像部に対応する硬化部分或は非画
像部に対応する処理液可溶化部分を形成させ、非画像部
感光層はアルカリ性処理液によって溶解除去する。
【0003】また、電子写真技術を利用して画像形成す
る電子写真平版印刷版も知られており、走査露光対応の
印刷版も製造されている。電子写真技術を利用した非画
像部アルカリ除去型平版印刷版は、親水性支持体上に一
般に有機光導電性物質を樹脂中に分散させたインク受理
性の光導電層を設けてなり、支持体との接着が強固であ
ればにPS版よりインク受理層が厚いためにPS版と同
等以上の耐刷性を有している。これらは、電子写真法に
より光導電層上にトナ−画像を形成した後、アルカリ剤
からなる溶出液で非画像部を溶出処理して印刷版として
使用される。
【0004】通常これら非画像部アルカリ溶解除去型平
版印刷版は製版処理の最終工程として、版面保護剤(所
謂保護ガム液)が塗設される。この目的は、版面保護剤
によって版面全体を被覆することにより、非画像部支持
体表面の親水性を保持させるのみならず、製版後印刷に
供するまでまたは再使用するまでの期間の保存、印刷機
に装着するまでの取扱いに於て被る指紋、油脂、塵芥等
の付着により誘引される汚染の防止、及び耐傷強度の向
上等にあり、製版後の印刷版の取扱いを容易にすると同
時に印刷地汚れの発生を防止することにある。
【0005】従来、平版印刷版に保護ガム液を塗布する
装置(構造)としては、シャワ−パイプより搬入ロ−ル
対上部ロ−ル及び/または印刷版に直接液供給して、過
剰量の保護ガム液を搬出ロ−ルで計量する装置や、印刷
版搬送方向と直角に渡されたパイプにベロ−ズポンプ等
から保護ガム液を間欠的に供給し、パイプ軸方向に複数
個設けられた貫通孔から平版印刷版上に滴下した後にロ
−ルで延展して、より少量の液供給で塗布を実施する装
置が知られている。
【0006】また、実開昭59−30141号公報に記
載の、保護ガム液塗布部の搬送ロ−ル対の上部ロ−ルを
高液保持性材料で構成して、下部ロ−ルに付着した液を
上部ロ−ルに移行させて、印刷版両面の保護ガム液の均
一塗布の向上を図った装置、実開昭62−185065
号公報に記載の、搬送方向後方に上部ロ−ルの軸中心を
ずらしたロ−ル対に対し、搬送ロ−ル噛込み側(搬送方
向手前)ウエッジ部に保護ガム液を供給して、特に先後
端部の塗布不良を改善した装置、特開昭63−1673
65号公報に記載の、版搬送水平方向に対し下方に搬送
し、下流側に一対の絞りロ−ルのみを配して、構造の簡
略化やコンパクト化を図った装置が開示されている。
【0007】これら従来の保護ガム液塗布処理装置に於
ては、保護ガム液貯液槽からの液供給はポンプによりシ
ャワ−パイプからロ−ル及び/または印刷版に吐出する
方式が一般的であって、保護ガム液塗布の均一化は搬送
や保護ガム液の塗布・延展・絞液等を司る給液ロ−ルの
配置や材質のみが考案され、ロ−ル及び/または直接印
刷版へ供給する手段や供給条件、特に保護ガム液の経時
変化を主因とする液性の変動がもたらす実処理上の問題
にはあまり配慮がなされていなかった。
【0008】その結果、従来多くの保護ガム液塗布処理
装置では、断続処理により液吐出を間欠的に行なうとシ
ャワ−パイプの吐出孔に残存した保護ガム液が乾燥して
目詰まりを誘発することが多かった。従って、全ての吐
出孔が詰まって全く供給出来ない場合は問題外として
も、吐出孔の幾つかが目詰まりすれば、印刷版に直接供
給する場合は勿論、給液ロ−ルを介して液供給したとし
ても版搬送幅方向で供給ムラが発生して塗布不良を誘発
した。また、シャワ−パイプの吐出孔を大きくしても結
果的には目詰まりを起こし、処理不良の発現が遅延する
だけで本質的解決には到らない。
【0009】そこで特開平1−200993号公報に
は、絞りロ−ルの外周の一部に印刷版へ付与される保護
ガム液量を制限すると共に軸方向へ均一化するための周
回溝を有する制御ロ−ルを当接配備し、両ロ−ル間に供
給パイプから間欠的に液供給して、特に版搬送幅方向の
塗布の均一化を図った装置が開示されている。この装置
では、多少シャワ−パイプが目詰まりしたとしても、用
いる保護ガム液が低粘であるため、供給部位に関係なく
最終的には当接部位幅方向に流れて整流され、印刷版へ
の塗布にあまり影響を及ぼさないから、むしろ両ロ−ル
当接部位への供給量が問題となる。則ち、当接部位への
供給量は計量されて流下する液量より多くなければなら
ないが、多過ぎると少なくともどちらかのロ−ルを越え
てしまい、本来の機能を果たさなくなる。
【0010】従って、当接部位への単位時間当たりの供
給量は、両ロ−ルを越えて溢れない量であって、計量さ
れて印刷版に供給される量よりやや高目程度が適当であ
る。計量された保護ガム液は絞りロ−ル対によって更に
絞液されるから、計量液量は最終塗布量よりあまり多く
する必要はなく、結果として両ロ−ル間への給液は僅か
な量で充分である。そこで、従来一般的に行なわれてい
た様な単位時間当たりの供給量が一様な給液では、両ロ
−ル間を保護ガム液で充満させるにはかなりの時間を要
ため、起動から時間を経ずに処理を開始することは出来
なかった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アルカリ性
処理液により非画像部が溶解除去された平版印刷版をロ
−ル搬送しながら保護ガム液を塗布して処理する保護ガ
ム液塗布処理装置であって、最少量に近い保護ガム液供
給量で版面を均一に被覆して塗布ムラを防止すると共
に、余剰液を減少させて塗りきり方式にも対応可能な保
護ガム液塗布処理装置を提供することにある。更に本発
明は、保護ガム液処理に於ける経時的変動、より詳しく
は保護ガムの乾燥による液吐出孔の目詰まりを防止し
て、長期間安定な保護ガム液の均一供給と塗布処理を可
能にする保護ガム液塗布処理装置を提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
検討した結果、アルカリ性処理液により非画像部が溶解
除去された平版印刷版をロ−ル搬送しながら保護ガム液
を塗布して処理する保護ガム液塗布処理装置であって、
平版印刷版を搬送すると共に版面に保護ガム液を塗布延
展する保護ガム液塗布ロ−ルと、該ロ−ルの版搬送方向
手前にあってその外周の一部に当接して平版印刷版へ付
与される保護ガム液量を制限する液計量ロ−ルと、両ロ
−ル当接部位に保護ガム液を供給する、少なくとも単位
時間当たりの供給量または供給時間の何れかが異なる少
なくとも二系統の保護ガム液供給手段を有する保護ガム
液塗布処理装置により達成された。
【0013】
【作用】本発明の保護ガム液塗布処理装置は、平版印刷
版を搬送すると共に版面に保護ガム液を塗布延展する保
護ガム液塗布ロ−ルと、該ロ−ルの版搬送方向手前にあ
ってその外周の一部に当接して平版印刷版へ付与される
保護ガム液量を制限する液計量ロ−ルと、両ロ−ル当接
部位に保護ガム液を供給する保護ガム液供給手段とから
なる。保護ガム液は両ロ−ルで形成されるロ−ル軸方向
(版幅方向)の溝部である保護ガム液貯留部に供給され
て貯留され、ロ−ル軸方向全幅にわたって保護ガム液塗
布ロ−ルと液計量ロ−ルとの間隙から計量されて連続的
に印刷版へと供給される。これにより、印刷版幅方向へ
ほぼ均一に保護ガム液を供給出来、保護ガム液塗布ロ−
ルによって更に延展されるため一層均一に印刷版表面に
塗布され、更に保護ガム液供給具を複数組設けること
で、液供給孔の目詰まりによる液供給不良の危険性を分
散低下させることが出来る。
【0014】また、単一の給液手段に於て充満後に単位
時間当たりの供給量を減少させたり間欠的に給液するこ
とは困難であり煩雑であったが、少なくとも単位時間当
たりの供給量または供給時間の何れかを変えた二系統以
上の保護ガム液供給手段を設けることで、主に処理装置
起動初期に於て上記両ロ−ル当接部位に保護ガム液を迅
速に充満させる機能と、主に処理(ロ−ル回転)中に計
量消費される保護ガム液分を補充する機能とを分離する
ことが出来、もって処理前調整時間を短縮すると共に処
理中の余剰保護ガム液量を低下させ、究極的には両ロ−
ル当接部位充満分のみの廃液で新液塗りきりが可能にな
る。
【0015】保護ガム液供給具を複数組設け、主に処理
装置起動初期に於て上記両ロ−ル当接部位に保護ガム液
を迅速に充満させる保護ガム液供給具と、主に計量消費
される保護ガム液分を補充する保護ガム液供給具とに機
能分離することにより、更に安定した処理が出来る。ま
た、保護ガム液供給具に圧搾空気により閉開栓を行なう
スプレ−ガンを用いれば、間欠給液に於ける液吐出孔の
目詰まりが著しく減少し、給液をより確実なものに出来
る。
【0016】以上の様に、本発明の保護ガム液塗布処理
装置をアルカリ性処理液により非画像部が溶解除去され
た平版印刷版の保護ガム液塗布処理に用いれば、版面に
均一に保護ガム液を供給して塗布ムラを抑制するばかり
でなく、処理前調整時間を短縮すると共に処理中の余剰
保護ガム液量を低下させつつ長期間安定な塗布処理が可
能となる。
【0017】
【実施例】以下、図1に例示する処理装置を基にして、
本発明に係わる保護ガム液塗布処理装置に於ける各工程
及びそれらに具有或は志向する作用の詳細について説明
する。本発明に於ける系統とは、少なくとも送液手段
(ポンプ)、配管、及び液供給具(液吐出部分を構成す
る部品)からなる保護ガム液流路を意味し、これら系統
構成要素を部分的に共有していても、最終的に少なくと
も単位時間当たりの給液量が明らかに同一となる構成で
なければ別系統と見なす。尚、本発明はその主旨を越え
ない限り、本説明及び実施例に何ら制限されるものでは
ない。
【0018】実施例1 図示しない露光装置及びアルカリ処理装置非画像部除去
工程を経て非画像部が溶解除去された平版印刷版(以
下、印刷版と略記)1は、図1に示される様に矢印A方
向に搬送されて保護ガム液塗布工程へと搬入され、図示
しない駆動手段によって駆動力が伝達されて回転された
保護ガム液塗布ロ−ル5及びバックアップロ−ル6対に
挟持されて、保護ガム液が塗布されると共に、図示しな
い保護ガム液乾燥工程へと搬出される様になっている。
【0019】図1及び図2に示される様に、保護ガム液
塗布処理工程は一次貯液槽2、保護ガム液供給機構、排
液一次貯留槽17、廃液二次貯溜槽8、及びロ−ル洗浄
液供給管36からなり、更に保護ガム液供給機構は保護
ガム液塗布ロ−ル5、バックアップロ−ル6、液計量ロ
−ル7、及び複数組の保護ガム液供給手段から構成され
ている。保護ガム液塗布ロ−ル5、バックアップロ−ル
6、及び液計量ロ−ル7は図示しない一対の側板に軸支
されており、保護ガム液塗布ロ−ル5の両端は軸受け上
部の図示しない加圧機構によって加圧される様になって
いる。また液計量ロ−ル7は、保護ガム液塗布ロ−ル5
の回転軸中心に向かって加工された図示しない軸受けに
よって軸支され、保護ガム液塗布ロ−ル5に接触して回
転駆動が伝達される様になっている。
【0020】保護ガム液塗布ロ−ル5及びバックアップ
ロ−ル6は耐酸・防錆性の回転軸にゴム硬度25〜50
度程度の耐酸性のゴムが巻かれてあり、液計量ロ−ル7
は例えば金属や硬質プラスチック等回転軸と同質の材質
が用いられ、所望量の保護ガム液を印刷版1に供給する
ため、その周接表面は特定の粗さ及び形状に仕上げられ
ている。
【0021】図1に示される様に、保護ガム液塗布ロ−
ル5・液計量ロ−ル7当接部位(以下、当接部位と略
記)26上方には保護ガム液供給具である給液ノズル1
3及び14が、また保護ガム液塗布ロ−ル5上方にはロ
−ル洗浄液供給管36が配置されている。給液ノズル1
3及び14、及びロ−ル洗浄液供給管36は夫々図示し
ない保持機構により保持されてロ−ル軸方向に沿って配
置されており、給液ノズル13及び14の液吐出孔は夫
々鉛直下方、ロ−ル洗浄液供給管36液吐出孔は斜め下
方の当接部位26に向けられている。
【0022】図2に示される様に、一次貯液槽2には夫
々ポンプ63及び64、管路47及び48、電磁バルブ
40及び41を含む二系統の保護ガム液供給路が配置さ
れており、両管路47及び48は管路50で一本化さ
れ、更に再び管路53及び54に分岐されて夫々給液ノ
ズル13及び14へ供給される様になっている。一次貯
液槽2中の保護ガム液15は、ポンプ63を作動させ電
磁バルブ40を解放しても、ポンプ64を作動させ電磁
バルブ41を解放しても、両給液ノズル13及び14に
供給出来る様になっている。両給液ノズル13及び14
の液吐出部位は、保護ガム液の液切れを向上させる様に
少なくとも管内が撥水性を有している。
【0023】本装置では、装置作動に合わせ保護ガム液
15の単位時間当たりの給液量を制御するため、保護ガ
ム液供給路を二系統有する。単位時間当たりの保護ガム
液供給量は、異なった最大吐出量を有する2台のポンプ
により制御される様になっている。則ち、少なくとも他
方より最大吐出量の多いポンプ63を作動させ電磁バル
ブ40を解放して、図示しないポンプ作動制御機構の制
御により、ポンプ能力と当接部位26の最大貯液量とか
ら予め裁定された時間だけ保護ガム液が当接部位26に
供給される様になっている。当接部位26に保護ガム液
15が所定量充満された後、少なくとも電磁バルブ40
を閉栓して最大吐出量の少ないポンプ64のみを作動さ
せ、当接部位26からの液減量に伴った補充が行なえる
様になっている。同様な給液制御が、異なる電磁バルブ
40及び41最小内径或は管路47及び48内径の選
定、及び同様なポンプ作動制御に於ても実現出来る。
【0024】当接部位26に供給された保護ガム液15
は、保護ガム液塗布ロ−ル5の回転と共に液計量ロ−ル
7で計量されて、保護ガム液塗布ロ−ル5とバックアッ
プロ−ル6とで形成される接触部(以下、接触部と略
記)27に滞留され、印刷版1が保護ガム液塗布ロ−ル
5及びバックアップロ−ル6対に挟持搬送されると共に
印刷版1上に塗布され絞液される。印刷版1から絞液さ
れた液及び接触部27からの余剰液は、バックアップロ
−ル6を介して排液一次貯留槽17に流落し、排液一次
貯留槽17底部に連結された配管67を経て、循環に供
する場合はバルブ42のみを解放し、管路68を経て一
次貯留槽2に戻し、廃棄する場合はバルブ44を解放す
ることにより、循環にも使捨てにも出来る様になってい
る。
【0025】実施例2 図3に示される保護ガム液塗布処理装置では、保護ガム
液塗布ロ−ル5及び液計量ロ−ル7上方には給液ノズル
13及び14に加えてスプレ−ガン10が配置されてい
る。スプレ−ガン10及び給液ノズル13及び14は図
示しない保持機構により保持されてロ−ル軸方向に沿っ
て配置されており、スプレ−ガン10及び給液ノズル1
3及び14の液吐出孔は夫々鉛直下方の当接部位26に
向けられている。
【0026】スプレ−ガン10の上方には、図示しない
保持手段によって保持された二次貯液槽3が配置されて
いる。スプレ−ガン10には二次貯液槽3に連通された
管路60が接続されており、バルブ37の解放により二
次貯液槽3に貯留された保護ガム液16が供給される様
になっている。また、二次貯液槽3には一端が一次貯液
槽2下方に連通された管路65と接続されている。この
管路65の途中には送液ポンプ28及び電磁バルブ35
が配置されており、この送液ポンプ28の作動及び図示
しない制御手段による電磁バルブ35の解放によって、
一次貯液槽2内の保護ガム液15が二次貯液槽3に供給
される様になっている。
【0027】バルブ37は通常解放させておくが、スプ
レ−ガン10中の液ノズル液吐出孔には通常(未使用
時)ニ−ドルがバネ等の押圧により挿入されて閉栓さ
れ、保護ガム液16の供給が停止される様になってい
る。当接部位26への給液は、ニ−ドルを圧縮空気によ
り作動させて開栓し、二次貯液槽3から自然滴下して保
護ガム液16が供給される様になっている。また圧縮空
気は、図示しない圧縮空気供給制御手段により電磁バル
ブ31の解放により、コンプレッサ18からフィルタ2
3、減圧弁25、電磁バルブ31、及び管路51を経
て、スプレ−ガン10に供給される様になっている。
【0028】給液ノズル13及び14への給液は、一次
貯液槽2からの保護ガム液15が送液ポンプ29及び管
路70を経て夫々の給液ノズルへと分岐されて送液され
る様になっている。供給ノズル13へは送液ポンプ29
の作動及び図示しない制御手段による電磁バルブ45の
解放によって管路71を経て、同様に給液ノズル14へ
は電磁バルブ46の解放によって管路72を経て給液さ
れる。これら給液ノズル給液系統及びスプレ−ガン給液
系統に於ける給液は夫々単独に制御される様になってい
る。
【0029】当接部位26に供給された保護ガム液16
は、保護ガム液塗布ロ−ル5の回転と共に液計量ロ−ル
7で計量されて接触部27に滞留され、印刷版1が保護
ガム液塗布ロ−ル5及びバックアップロ−ル6対に挟持
搬送されると共に印刷版1上に塗布され絞液される。印
刷版1から絞液された液及び接触部からの余剰液は、バ
ックアップロ−ル6を介して排液一次貯留槽17に流落
し、排液一次貯留槽17底部に連結された配管67を経
て、循環に供する場合はバルブ42のみを解放し、管路
68を経て一次貯留槽2に戻し、廃棄する場合はバルブ
43を解放することにより、循環にも使捨てにも出来る
様になっている。
【0030】実施例3 図4に示される保護ガム液塗布処理装置では、保護ガム
液供給具であるスプレ−ガン10、11、及び12は、
保護ガム液塗布ロ−ル5及び液計量ロ−ル7の上方に配
置されている。スプレ−ガン10、11、及び12は、
図示しないスプレ−ガン保持機構により保持されてロ−
ル軸方向に沿って一定間隔に配置されており、スプレ−
ガン10、11、及び12の液吐出孔(液ノズル)は鉛
直下方の保護ガム液塗布ロ−ル5・液計量ロ−ル7接触
部に向けられている。
【0031】スプレ−ガンの上方には、図示しない保持
手段によって保持された二次貯液槽3が配置されてい
る。スプレ−ガン10、11、及び12には、夫々二次
貯液槽3に連通された管路60、61、及び62が接続
されており、二次貯液槽3に貯留された保護ガム液16
は、夫々のバルブ37、38、及び39の解放により夫
々のスプレ−ガンに供給される様になっている。また、
二次貯液槽3には一端が一次貯液槽2下方に連通された
管路65と接続されている。この管路65の途中には送
液ポンプ28及び電磁バルブ35が配置されており、こ
の送液ポンプの作動及び図示しない制御手段による電磁
バルブ35の開栓によって、一次貯液槽2内の保護ガム
液15が二次貯液槽3に供給される様になっている。
【0032】スプレ−ガン中の液ノズル液吐出孔には通
常(未使用時)ニ−ドルがバネ等の押圧により挿入され
て閉栓される様になっているが、保護ガム液塗布ロ−ル
5と液計量ロ−ル7とから形成される部位への供給は、
ニ−ドルを圧縮空気により作動させて開栓し、二次貯液
槽3から自然滴下して保護ガム液16が供給される様に
なっている。圧縮空気は、コンプレッサ18から配管5
1、フィルタ23、及び減圧弁25を経て個々のスプレ
−ガンへと分岐され、図示しない圧縮空気供給制御手段
により電磁バルブ31、32、及び33が解放される
と、配管56、57、或は58を経て夫々スプレ−ガン
10、11、及び12に供給される様になっている。
【0033】各スプレ−ガンの液吐出量は、液ノズルの
内径の変更により容易に選定されるが、液ノズルの内径
に関係なく電磁バルブ31、32、及び33夫々を単独
に制御することにより、処理装置作動中の総吐出量を制
御することが出来る様になっている。則ち、処理装置起
動時には図示しない作動制御手段によってポンプ28が
始動されると共に電磁バルブ31、32、及び33全て
が解放されて、3スプレ−ガンからの保護ガム液16で
両ロ−ル当接部位が充満された後、電磁バルブ38及び
39が閉栓されてスプレ−ガン10のみで計量消費され
る保護ガム液分が補充供給される様になっている。スプ
レ−ガン11及び12の液ノズル内径をスプレ−ガン1
0のそれより大きくしておくことで、保護ガム液を充満
するに要する時間は短縮される。
【0034】保護ガム液塗布ロ−ル5・液計量ロ−ル7
当接部位に供給された保護ガム液16は、保護ガム液塗
布ロ−ル5の回転と共に液計量ロ−ル7で計量されて、
保護ガム液塗布ロ−ル5とバックアップロ−ル6とで形
成される保護ガム液貯留部に滞留され、印刷版1が保護
ガム液塗布ロ−ル5及びバックアップロ−ル6対に挟持
搬送されると共に印刷版1上に塗布され絞液される。
【0035】次に本実施例の作用について説明する。図
示しない露光装置及びアルカリ処理装置の非画像部除去
工程を経て非画像部が溶解除去された印刷版1は、搬送
されて保護ガム液塗布工程へと搬入され、保護ガム液塗
布ロ−ル5及びバックアップロ−ル6対に挟持されて、
保護ガム液が塗布されると共に、図示しない保護ガム液
乾燥工程へと搬出される。一次貯液槽2内の保護ガム液
15は、送液ポンプの作動及び図示しない制御手段によ
る電磁バルブの解放によって、最終的に給液ノズル及び
/またはスプレ−ガンに供給される様になっている。保
護ガム液供給具を複数組設けることで、液供給孔の目詰
まりによる液供給不良の危険性を分散低下させることが
出来る。
【0036】給液ノズル及び/またはスプレ−ガンから
当接部位26に供給された保護ガム液16は、保護ガム
液塗布ロ−ル5幅方向に流動して貯留部全域を充満し、
保護ガム液塗布ロ−ル5の回転と共に液計量ロ−ル7に
よって均一に整流されて一定量にまで計量され、更に保
護ガム液塗布ロ−ルとバックアップロ−ル6とで形成さ
れる部位に滞留されて、印刷版1が保護ガム液塗布ロ−
ル5及びバックアップロ−ル6対に挟持搬送されると共
に印刷版1上に塗布され延展され絞液される。これによ
り、版搬送幅方向にわたって均一な塗膜が得られると共
に、保護ガム液は必要以上に供給されることがなくな
る。
【0037】また、少なくとも単位時間当たりの供給量
または供給時間の何れかを変えた二系統以上の保護ガム
液供給手段を設けることで、主に処理装置起動初期に於
て上記両ロ−ル当接部位に保護ガム液を迅速に充満させ
る機能と、主に処理(ロ−ル回転)中に計量消費される
保護ガム液分を補充する機能とを分離することが出来、
もって処理前調整時間を短縮すると共に処理中の余剰保
護ガム液量を低下させ、究極的には両ロ−ル当接部位充
満分のみの廃液で新液塗りきりが可能になる。
【0038】保護ガム液供給具を複数組設け、主に処理
装置起動初期に於て上記両ロ−ル当接部位に保護ガム液
を迅速に充満させる保護ガム液供給具と、主に計量消費
される保護ガム液分を補充する保護ガム液供給具とに機
能分離することにより、更に安定した処理が出来る。ま
た、保護ガム液供給具が圧搾空気により閉開栓を行なう
スプレ−ガンであれば、間欠給液に於ける液吐出孔の目
詰まりを著しく減少させ、給液をより確実なものに出来
る。
【0039】
【発明の効果】以上説明した様に本発明の保護ガム液塗
布処理装置をアルカリ性処理液により非画像部が溶解除
去された平版印刷版の保護ガム液塗布処理に用いれば、
必要最少量に近い液供給量で版面に均一に保護ガム液を
供給して塗布ムラが抑制されるばかりでなく、保護ガム
液処理に於ける経時的変動、則ち処理装置の断続運転に
よる保護ガム液供給手段の目詰まりを防止して、長期間
安定な塗布処理が可能となる秀逸なる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用された保護ガム液塗布処理装置を
示す縦断面概略構成図。
【図2】保護ガム液塗布処理装置の第1実施例を示す横
断面概略構成図。
【図3】保護ガム液塗布処理装置の第2実施例を示す横
断面概略構成図。
【図4】保護ガム液塗布処理装置の第3実施例を示す横
断面概略構成図。
【符号の説明】
1 平版印刷版 2 一次貯液槽 3 二次貯液槽 5 保護ガム液塗布ロ−ル 6 バックアップロ−ル 7 液計量ロ−ル 10、11、12 スプレ−ガン 13、14 給液ノズル 15、16 保護ガム液 17 排液一次貯留槽 18 コンプレッサ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルカリ性処理液により非画像部が溶解
    除去された平版印刷版をロ−ル搬送しながら保護ガム液
    を塗布して処理する保護ガム液処理装置であって、平版
    印刷版を搬送すると共に版面に保護ガム液を塗布延展す
    る保護ガム液塗布ロ−ルと、該ロ−ルの版搬送方向手前
    にあってその外周の一部に当接して平版印刷版へ付与さ
    れる保護ガム液量を制限する液計量ロ−ルと、両ロ−ル
    当接部位に保護ガム液を供給する、少なくとも単位時間
    当たりの供給量または供給時間の何れかが異なる少なく
    とも二系統の保護ガム液供給手段を有する保護ガム液塗
    布処理装置。
  2. 【請求項2】 該保護ガム液供給手段の少なくとも1組
    が圧搾空気により閉開栓を行なうスプレ−ガンからなる
    請求項1記載の保護ガム液塗布処理装置。
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