JPH05221674A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- JPH05221674A JPH05221674A JP5443492A JP5443492A JPH05221674A JP H05221674 A JPH05221674 A JP H05221674A JP 5443492 A JP5443492 A JP 5443492A JP 5443492 A JP5443492 A JP 5443492A JP H05221674 A JPH05221674 A JP H05221674A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、ＶＡＤ法などにより、多孔質母材
合成工程、脱水工程および透明ガラス化工程を経て得ら
れた透明ガラス母材において、レイリー散乱などの光伝
送損失要因を低減させ、光伝送特性などの改善を図った
光ファイバ母材の製造方法を提供せんとするものであ
る。 【構成】 本発明は、多孔質母材合成工程１、脱水工程
２および透明ガラス化工程３を経て得られた透明ガラス
母材透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０℃で
加熱するアニール工程４と１．０×１０3 〜３．０×１
０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１０００〜１４００
℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）５とを組み合
わせて施した光ファイバ母材の製造方法にあって、これ
により、透明ガラス化の際の焼結により生じる歪みや、
脱水剤、その他のドーパントなどによって生じる特性低
下領域が除去され、光伝送特性に優れた光ファイバ母材
が得られる。
合成工程、脱水工程および透明ガラス化工程を経て得ら
れた透明ガラス母材において、レイリー散乱などの光伝
送損失要因を低減させ、光伝送特性などの改善を図った
光ファイバ母材の製造方法を提供せんとするものであ
る。 【構成】 本発明は、多孔質母材合成工程１、脱水工程
２および透明ガラス化工程３を経て得られた透明ガラス
母材透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０℃で
加熱するアニール工程４と１．０×１０3 〜３．０×１
０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１０００〜１４００
℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）５とを組み合
わせて施した光ファイバ母材の製造方法にあって、これ
により、透明ガラス化の際の焼結により生じる歪みや、
脱水剤、その他のドーパントなどによって生じる特性低
下領域が除去され、光伝送特性に優れた光ファイバ母材
が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＡＤ法などにより、
多孔質母材合成工程、脱水工程、透明ガラス化工程を経
て得られた透明ガラス母材において、レイリー散乱など
の光伝送損失要因を低減されるため、さらにアニール工
程や高温加圧工程（ＨＩＰ工程）を施して、光伝送特性
などの改善を図った光ファイバ母材の製造方法にある。
多孔質母材合成工程、脱水工程、透明ガラス化工程を経
て得られた透明ガラス母材において、レイリー散乱など
の光伝送損失要因を低減されるため、さらにアニール工
程や高温加圧工程（ＨＩＰ工程）を施して、光伝送特性
などの改善を図った光ファイバ母材の製造方法にある。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバ母材を製造するには、
例えばＶＡＤ法などで、バーナから噴出されたガラス微
粒子（スート）により多孔質母材を成長させ（多孔質母
材合成工程）、この得られた多孔質母材は白色の不透明
体であるため、この多孔質母材を脱水して（脱水工
程）、透明ガラス化していた（透明ガラス化工程）。
例えばＶＡＤ法などで、バーナから噴出されたガラス微
粒子（スート）により多孔質母材を成長させ（多孔質母
材合成工程）、この得られた多孔質母材は白色の不透明
体であるため、この多孔質母材を脱水して（脱水工
程）、透明ガラス化していた（透明ガラス化工程）。
【０００３】上記脱水工程では、多孔質母材中に含有さ
れるＯＨ基などの水分を除去するため、８００〜１２０
０℃程度、より好ましくは９００〜１０５０℃程度の雰
囲気中において、塩素系の脱水剤をＨｅガスなどと共に
流して行い、さらに透明ガラス化工程では、Ｈｅガスな
どの不活性ガス中で、約１５００℃程度まで高温加熱処
理して透明なガラス母材を得ていた。
れるＯＨ基などの水分を除去するため、８００〜１２０
０℃程度、より好ましくは９００〜１０５０℃程度の雰
囲気中において、塩素系の脱水剤をＨｅガスなどと共に
流して行い、さらに透明ガラス化工程では、Ｈｅガスな
どの不活性ガス中で、約１５００℃程度まで高温加熱処
理して透明なガラス母材を得ていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにして得られた透明ガラス母材について、本発明者等
がさらに鋭意検討を加えたところ、透明ガラス化の際の
焼結時に歪みが生じ、その歪みがそのまま母材内部に残
留したり、あるいは脱水剤やその他のドーパントなどに
よって非常に小さな局部的な特性低下領域が生じること
などが判った。このような歪みや特性低下領域が残留し
ていると、当然その後紡糸して得られた光ファイバの光
伝送損失要因の一つとなり、特にレイリー散乱などの散
乱を大きくするという欠点があった。
うにして得られた透明ガラス母材について、本発明者等
がさらに鋭意検討を加えたところ、透明ガラス化の際の
焼結時に歪みが生じ、その歪みがそのまま母材内部に残
留したり、あるいは脱水剤やその他のドーパントなどに
よって非常に小さな局部的な特性低下領域が生じること
などが判った。このような歪みや特性低下領域が残留し
ていると、当然その後紡糸して得られた光ファイバの光
伝送損失要因の一つとなり、特にレイリー散乱などの散
乱を大きくするという欠点があった。
【０００５】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、レイリー散乱などの光伝送損失を低
減されるため、透明ガラス母材にさらにアニール工程や
高温加圧工程（ＨＩＰ工程）を施して、歪みや特性低下
領域の解消を図って、光伝送特性の改善を図ろうとする
ものである。
てなされたもので、レイリー散乱などの光伝送損失を低
減されるため、透明ガラス母材にさらにアニール工程や
高温加圧工程（ＨＩＰ工程）を施して、歪みや特性低下
領域の解消を図って、光伝送特性の改善を図ろうとする
ものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる本発明のより具体
的な構成は、ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を成
長させた後、該多孔質母材を脱水、透明ガラス化して得
られた透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０℃
で加熱するアニール工程を施し、または１．０×１０3
〜３．０×１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１００
０〜１４００℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）
を施し、さらにはこれらのアニール工程と高温加圧工程
とを組み合わせて施した光ファイバ母材の製造方法にあ
る。
的な構成は、ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を成
長させた後、該多孔質母材を脱水、透明ガラス化して得
られた透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０℃
で加熱するアニール工程を施し、または１．０×１０3
〜３．０×１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１００
０〜１４００℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）
を施し、さらにはこれらのアニール工程と高温加圧工程
とを組み合わせて施した光ファイバ母材の製造方法にあ
る。
【０００７】
【作用】このように本発明によると、透明ガラス母材に
対して、少なくともアニール工程や高温加圧工程（ＨＩ
Ｐ工程）が施されるため、透明ガラス化の際の焼結によ
り生じる歪みや、脱水剤、その他のドーパントなどによ
って生じる特性低下領域が除去され、光伝送特性に優れ
た光ファイバ母材が得られる。
対して、少なくともアニール工程や高温加圧工程（ＨＩ
Ｐ工程）が施されるため、透明ガラス化の際の焼結によ
り生じる歪みや、脱水剤、その他のドーパントなどによ
って生じる特性低下領域が除去され、光伝送特性に優れ
た光ファイバ母材が得られる。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明に係る光ファイバ母材の製造
方法の一実施例を示したものである。この製造方法で
は、先ず、多孔質母材合成工程１において、ＶＡＤ法な
どでバーナから噴出されたガラス微粒子（スート）によ
り多孔質母材を成長させ、次に、この得られた多孔質母
材に対して、脱水工程２により脱水し、透明ガラス化工
程３により透明ガラス化処理を施す。
方法の一実施例を示したものである。この製造方法で
は、先ず、多孔質母材合成工程１において、ＶＡＤ法な
どでバーナから噴出されたガラス微粒子（スート）によ
り多孔質母材を成長させ、次に、この得られた多孔質母
材に対して、脱水工程２により脱水し、透明ガラス化工
程３により透明ガラス化処理を施す。
【０００９】脱水工程２では、多孔質母材中に含有され
るＯＨ基などの水分を除去するため、８００〜１２００
℃程度、より好ましくは９００〜１０５０℃程度の雰囲
気中において、塩素系の脱水剤をＨｅガスなどと共にを
流して脱水し、透明ガラス化工程３では、Ｈｅガスなど
の不活性ガス中で、約１５００℃程度まで加熱焼結して
透明ガラス化させ、透明ガラス母材を得ている。この両
工程は、別々に行ったり、あるいは連続して行うことも
できる。
るＯＨ基などの水分を除去するため、８００〜１２００
℃程度、より好ましくは９００〜１０５０℃程度の雰囲
気中において、塩素系の脱水剤をＨｅガスなどと共にを
流して脱水し、透明ガラス化工程３では、Ｈｅガスなど
の不活性ガス中で、約１５００℃程度まで加熱焼結して
透明ガラス化させ、透明ガラス母材を得ている。この両
工程は、別々に行ったり、あるいは連続して行うことも
できる。
【００１０】このようにして得られた透明ガラス母材に
は、上記焼結時に生じた歪みや、脱水剤、その他のドー
パントなどによって生じた非常に小さい局部的な特性低
下領域が残留されている恐れがあるため、引き続き、ア
ニール工程４を実施する。
は、上記焼結時に生じた歪みや、脱水剤、その他のドー
パントなどによって生じた非常に小さい局部的な特性低
下領域が残留されている恐れがあるため、引き続き、ア
ニール工程４を実施する。
【００１１】このアニール工程４は、１１５０〜１２５
０℃で４〜２０時間程度加熱した後、徐々に室温まで降
温させて行う。このアニール工程４により、透明ガラス
母材にあっては、焼結時に生じた歪みを除く効果と、脱
水剤、その他のドーパントなどによって生じた非常に小
さな局部的な特性低下領域内に残る特性低下原因物質の
拡散効果により、上述した歪みや、局部的な特性低下領
域が除去される。したがって、このアニール後の透明ガ
ラス母材を紡糸すれば、光伝送特性に優れた光ファイバ
が得られる。
０℃で４〜２０時間程度加熱した後、徐々に室温まで降
温させて行う。このアニール工程４により、透明ガラス
母材にあっては、焼結時に生じた歪みを除く効果と、脱
水剤、その他のドーパントなどによって生じた非常に小
さな局部的な特性低下領域内に残る特性低下原因物質の
拡散効果により、上述した歪みや、局部的な特性低下領
域が除去される。したがって、このアニール後の透明ガ
ラス母材を紡糸すれば、光伝送特性に優れた光ファイバ
が得られる。
【００１２】図２は、本発明に係る光ファイバ母材の製
造方法の他の実施例を示したものである。この製造方法
では、上記図１の場合と同様、多孔質母材合成工程１、
脱水工程２および透明ガラス化工程３を実施して得られ
た透明ガラス母材に対して、引き続き、高温加圧工程
（ＨＩＰ工程）５を実施する。
造方法の他の実施例を示したものである。この製造方法
では、上記図１の場合と同様、多孔質母材合成工程１、
脱水工程２および透明ガラス化工程３を実施して得られ
た透明ガラス母材に対して、引き続き、高温加圧工程
（ＨＩＰ工程）５を実施する。
【００１３】高温加圧工程（ＨＩＰ工程＝Ｈｏｔ Ｉｓ
ｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅｓｓｉｎｇ工程）５は、１．０
×１０3 〜３．０×１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下
において、１０００〜１４００℃で２〜５時間程度加熱
した後、徐々に室温まで降温させて行う。この高温加圧
工程５により、透明ガラス母材にあっては、密度が増加
し欠陥などを減少させる効果により、上述した歪みや、
局部的な特性低下領域を低減させることができる。した
がって、この高温加圧後の透明ガラス母材を紡糸すれ
ば、光伝送特性に優れた光ファイバが得られる。
ｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅｓｓｉｎｇ工程）５は、１．０
×１０3 〜３．０×１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下
において、１０００〜１４００℃で２〜５時間程度加熱
した後、徐々に室温まで降温させて行う。この高温加圧
工程５により、透明ガラス母材にあっては、密度が増加
し欠陥などを減少させる効果により、上述した歪みや、
局部的な特性低下領域を低減させることができる。した
がって、この高温加圧後の透明ガラス母材を紡糸すれ
ば、光伝送特性に優れた光ファイバが得られる。
【００１４】図３は、本発明に係る光ファイバ母材の製
造方法のさらに別の実施例を示したものである。この製
造方法では、上記図１〜図２の場合と同様、多孔質母材
合成工程１、脱水工程２および透明ガラス化工程３を実
施して得られた透明ガラス母材に対して、引き続き、ア
ニール工程４と高温加圧工程５とを組み合わせて実施す
る。このアニール工程４と高温加圧工程５はその順序は
特に問わないが、好ましくは図示の如く、アニール工程
４を先に実施した後、高温加圧工程５を実施するように
するとよい。
造方法のさらに別の実施例を示したものである。この製
造方法では、上記図１〜図２の場合と同様、多孔質母材
合成工程１、脱水工程２および透明ガラス化工程３を実
施して得られた透明ガラス母材に対して、引き続き、ア
ニール工程４と高温加圧工程５とを組み合わせて実施す
る。このアニール工程４と高温加圧工程５はその順序は
特に問わないが、好ましくは図示の如く、アニール工程
４を先に実施した後、高温加圧工程５を実施するように
するとよい。
【００１５】このアニール工程４と高温加圧工程５との
組み合わせにより、透明ガラス母材にあっては、焼結時
に生じた歪みを除く効果と、脱水剤、その他のドーパン
トなどによって生じた非常に小さな局部的な特性低下領
域内に残る特性低下原因物質の拡散効果と、高密度化に
よりる欠陥などを減少させる効果により、上述した歪み
や、局部的な特性低下領域がさらに良好に除去される。
したがって、このアニールと高温加圧を受けた後の透明
ガラス母材を紡糸すれば、より一層光伝送特性に優れた
光ファイバが得られる。
組み合わせにより、透明ガラス母材にあっては、焼結時
に生じた歪みを除く効果と、脱水剤、その他のドーパン
トなどによって生じた非常に小さな局部的な特性低下領
域内に残る特性低下原因物質の拡散効果と、高密度化に
よりる欠陥などを減少させる効果により、上述した歪み
や、局部的な特性低下領域がさらに良好に除去される。
したがって、このアニールと高温加圧を受けた後の透明
ガラス母材を紡糸すれば、より一層光伝送特性に優れた
光ファイバが得られる。
【００１６】
【発明の効果】このように本発明に係る光ファイバ母材
の製造方法によれば、多孔質母材合成工程、脱水工程お
よび透明ガラス化工程を経て得られた透明ガラス母材に
対して、少なくともアニール工程や高温加圧工程（ＨＩ
Ｐ工程）が施されるため、透明ガラス化の際の焼結によ
り生じる歪みや、脱水剤、その他のドーパントなどによ
って生じる特性低下領域が除去され、光伝送特性に優れ
た光ファイバ母材が得られる。特に、アニール工程と高
温加圧工程（ＨＩＰ工程）とを組み合わせて実施した場
合、より一層光伝送特性に優れた光ファイバが得られ
る。
の製造方法によれば、多孔質母材合成工程、脱水工程お
よび透明ガラス化工程を経て得られた透明ガラス母材に
対して、少なくともアニール工程や高温加圧工程（ＨＩ
Ｐ工程）が施されるため、透明ガラス化の際の焼結によ
り生じる歪みや、脱水剤、その他のドーパントなどによ
って生じる特性低下領域が除去され、光伝送特性に優れ
た光ファイバ母材が得られる。特に、アニール工程と高
温加圧工程（ＨＩＰ工程）とを組み合わせて実施した場
合、より一層光伝送特性に優れた光ファイバが得られ
る。
【図１】本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の一実
施例を示した概略ブロッグ図である。
施例を示した概略ブロッグ図である。
【図２】本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の他の
実施例を示した概略ブロッグ図である。
実施例を示した概略ブロッグ図である。
【図３】本発明に係る光ファイバ母材の製造方法のさら
に別の実施例を示した概略ブロッグ図である。
に別の実施例を示した概略ブロッグ図である。
１ 多孔質母材合成工程、 ２ 脱水工程、 ３ 透明ガラス化工程、 ４ アニール工程、 ５ 高温加圧工程（ＨＩＰ工程）、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山内 良三 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株式 会社佐倉工場内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を
成長させた後、該多孔質母材を脱水、透明ガラス化して
得られた透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０
℃で加熱するアニール工程を施したことを特徴とする光
ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を
成長させた後、該多孔質母材を脱水、透明ガラス化して
得られた透明ガラス母材に対して、１．０×１０3 〜
３．０×１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１０００
〜１４００℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）を
施したことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項３】 ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を
成長させた後、該多孔質母材を脱水、透明ガラス化して
得られた透明ガラス母材に対して、１１５０〜１２５０
℃で加熱するアニール工程と１．０×１０3 〜３．０×
１０3 （ｋｇｆ／ｃｍ2 ）の加圧下、１０００〜１４０
０℃で加熱する高温加圧工程（ＨＩＰ工程）とを組み合
わせて施したことを特徴とする光ファイバ母材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5443492A JPH05221674A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5443492A JPH05221674A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221674A true JPH05221674A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=12970610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5443492A Pending JPH05221674A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05221674A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013230978A (ja) * | 2013-07-02 | 2013-11-14 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法 |
| WO2017019746A1 (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | The Penn State Research Foundation | Method and apparatus for producing crystalline cladding and crystalline core optical fibers |
-
1992
- 1992-02-05 JP JP5443492A patent/JPH05221674A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013230978A (ja) * | 2013-07-02 | 2013-11-14 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法 |
| WO2017019746A1 (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | The Penn State Research Foundation | Method and apparatus for producing crystalline cladding and crystalline core optical fibers |
| US9995875B2 (en) | 2015-07-28 | 2018-06-12 | The Penn State Research Foundation | Method and apparatus for producing crystalline cladding and crystalline core optical fibers |
| US10274673B2 (en) | 2015-07-28 | 2019-04-30 | The Penn State Research Foundation | Method and apparatus for producing crystalline cladding and crystalline core optical fibers |
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