JPH05214323A - 帯電防止硬質膜を有する光学記録媒体 - Google Patents

帯電防止硬質膜を有する光学記録媒体

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JPH05214323A
JPH05214323A JP4172120A JP17212092A JPH05214323A JP H05214323 A JPH05214323 A JP H05214323A JP 4172120 A JP4172120 A JP 4172120A JP 17212092 A JP17212092 A JP 17212092A JP H05214323 A JPH05214323 A JP H05214323A
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perfluorosurfactant
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ionic
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Edward J Woo
ジィーフィー ウー エドワード
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】特に光学記録媒体上に硬質被膜を形成するのに
好ましい帯電防止組成物を提供する。 【構成】１００重量部の非弗素化共重合性、放射線硬化
初期重合体を含む混合物中に、０．５から５．０重量部
のイオンペルフルオロ界面活性剤及び０．５から５．０
重量部の非イオンペルフルオロ界面活性剤を含むペルフ
ルオロ−ベースの帯電防止組成物、この組成物から得ら
れる帯電防止硬化被膜、また少なくとも一個の側面に帯
電防止硬化被膜を有する光学記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はイオンペルフルオロ界面
活性剤及び非イオンペルフルオロ界面活性剤を非弗素化
共重合性、放射線硬化初期重合体と混ぜ合せたものを含
むペルフルオロ−ベースの帯電防止組成物に関し、また
これらから得られた帯電防止硬質被膜に関する。本発明
はまた光学記録媒体の少なくとも一つの表面上に帯電防
止硬質被膜を有する記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学記録媒体は、典型的には支持体の上
に光学記録被膜を包含する。マグネット光学記録媒体及
びＷＯＲＭ（write-once-read-many）光学記録媒体の如
き媒体においては、一般に光学記録被膜は、ガドリニウ
ム−コバルト（Ｇｄ−Ｃｏ），ガドリニウム−鉄（Ｇｄ
−Ｆｅ），テルビウム−鉄（Ｔｂ−Ｆｅ），ジスプロシ
ウム−鉄（Ｄｙ−Ｆｅ），Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｄ
ｙ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，テルビウム−鉄−クロム
（Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｒ），ガドリニウム−鉄−ビスマス
（Ｇｄ−Ｆｅ−Ｂｉ），Ｇｄ−Ｃｏ−Ｂｉ，ガドリニウ
ム−鉄−錫（Ｇｄ−Ｆｅ−Ｓｎ），Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，
Ｇｄ−Ｃｏ−Ｂｉ及びＧｄ−Ｄｙ−Ｆｅの如き稀土類遷
移金属合金の薄いフイルムを包含する。
【０００３】このような合金の例は、米国特許第４，８
２２，６７５号に開示されている。コンパクトディスク
の如き媒体においては、光学記録被膜はパターン化され
た情報記憶面を有するポリカーボネート層である。
【０００４】光学記録被膜に適した多くの物質は、光学
記録媒として使用する環境に存在する酸素及び他の成分
と強力に反応する。更に支持体自体不純物を含んでいて
光学記録被膜と反応する。従って、透明誘電膜を光学記
録被膜の一面又は両面に設けることになる。このような
誘電膜は、例えば、米国特許第４，８３３，０４３号及
び同第４，９１７，９７０号に開示されている。
【０００５】光学的反射層は光学記録媒体中に設けられ
ると、最初に光学記録被膜を通過した入射光は、反射し
そして次に光学記録被膜を通過して戻ってくる。いわゆ
るファラデー効果がケルー効果に加えられ、このような
反射は入射光のマグネット光学回転を増加する。反射層
については、例えば米国特許第４，８２２，６７５号に
開示されている。
【０００６】光学記録層は支持体と反射層との間に設け
られるように、反射層は磁気記録媒体の中に取り入れら
れる。このような媒体において、透明な支持体が使用さ
れると、入射光はまず支持体を通過し、次いで光学記録
層を通過し、そして反射層によって反射し光学記録層を
通って戻ることになる。このような媒体は基体入射媒体
（substrate incident media）として知られている。
【０００７】光学反射層が支持体と光学記録層との間に
設けられた場合、読みそして書くためのビームは支持体
を通しては進まない。一般にはこのような場合光学記録
層と空気との間に少なくとも一つの層が存在するが、こ
のような媒体は空気入射媒体（air incident medium )
として知られている。
【０００８】基体入射媒体においては、支持体は代表的
にはポリカーボネートから形成される。ポリカーボネー
ト支持体はすぐれた剛性、寸法安定性、透明性及び衝撃
強さを有しているが、しかし残念ではあるが耐磨耗性に
欠ける。同様に、ポリカーボネート支持体は掻ききず、
すりへり等の物理的損傷に影響されやすい。
【０００９】支持体を物理的損傷から守るために、硬質
被膜を支持体上に設け、支持体と空気との間に保護バリ
ヤーを形成する。例えば、特開平２−２６０１４５号公
報には光学カードの支持体に硬質被膜を設けることが開
示されている。硬質被膜は、電子線又は紫外線放射によ
り硬化する樹脂から得られる。特開平２−２６０１４５
号公報に記載された硬質被膜は、また滑剤の如き表面ス
リップ剤を包有する。
【００１０】靜電荷の形成は光学記録媒体の硬質被膜に
ほこりを吸着し、読み書きの課程でのいづれに相当する
ビームが光学記録被膜に到着するのに妨害となる。従っ
て、一般にはこの靜電荷の形成を減ずるため帯電防止剤
を使用するのが望ましい。
【００１１】帯電防止組成物は、光学記録媒体に適切に
使用されるために、厳格な要件を満足しなくてはならな
い。帯電防止組成物は靜電荷の形成を防止する他に、耐
磨耗性であって成分的にも安定であると共に、長時間透
明性を維持ための透明でなくてはならない。
【００１２】もしこの組成物が曇ったような状態である
と、光学記録被膜に到達する入射光の量は減少し、誤差
の割合が増加し、空白部分が増加し、又はデータの損失
をきたす。他の要件は帯電防止組成物の粘度に関係す
る。均一な厚さの帯電防止被膜を得るためには、帯電防
止組成物は、好ましくは、例えば１００センチポイズ又
はそれ以下の如き低粘度でなければならない。例えば、
約１００℃の温度又はそれ以上の高温度では、光学記録
媒体は損傷し及び／又は媒体の性能に悪影響を与えるの
で、熱硬化性又は熱可塑性組成物を使用するのは、また
避けなければならない。
【００１３】一般には、硬質被膜の帯電防止剤を使用す
るのに二つの方法がある。一つの方法は帯電防止剤を直
接に硬質被膜に塗布する。この方法は、しかしながら、
被膜が容易にぬぐい取られるような場合、長期間帯電防
止をすることができない。
【００１４】他の方法は、硬質被膜を媒体に塗布する前
に帯電防止剤を硬膜材料と事前に混合することである。
しかしながら、この方法では、満足すべき帯電防止効果
を得るために、通常の帯電防止剤を比較的多量に使用す
ることになるので、得られた硬質被膜は時間と共に曇っ
たようになり、耐磨耗性が減少し、そして媒体から剥離
することになる。
【００１５】特開昭５７−４２７４１号公報には、非イ
オン弗化物界面活性剤及びイオン弗化物界面活性剤を含
む帯電防止組成物が開示されている。この帯電防止組成
物は浸漬又は噴霧によってプラスチックの表面に塗布す
るか、又はこの組成物を成形加工する前にプラスチック
に事前に混ぜ合わされる。特開昭５７−４２７４１号公
報によると、熱で硬化でき、また熱可塑性の物質が好ま
しいプラスチックとしている。
【００１６】特開昭６１−２６５号公報には、エチレン
オキシド基の両端にペルフルオロアルキル基を有する化
合物を含む塗布組成物が開示されている。この組成物
は、例えば磁気テープ又はディスクの固体表面の保護塗
膜として使用される。
【００１７】特開昭６３−２０８５６１号公報には、ペ
ルフルオロスルホンアミドが合成樹脂用の帯電防止剤と
して有用であることが記載されている。
【００１８】特開昭６２−２０７３５２号公報には、１
００重量部の樹脂及び０．０５から１０重量部のアニオ
ンペルフルオロ化合物を含む帯電防止樹脂組成物が記載
されている。
【００１９】米国特許第４，２０８，４６６号には、重
合体成形物に対する帯電防止剤及び滑剤として有用であ
るイオンフルオロケミカル界面活性剤が開示されてい
る。これらの界面活性剤は、成形を行う前に直接重合体
成形用化合物に適用される。
【００２０】米国特許第４，６２３，５９４号には、電
子線照射により硬化する初期重合物及びこの初期重合物
に可溶であって電子線照射に反応性である帯電防止剤か
らの帯電防止組成物が記載されている。好ましい帯電防
止剤はトリアルキルエーテルアンモニウム塩の如き第４
級アンモニウム塩である。
【００２１】米国特許第４，５０５，９９０号には、フ
イルム形成性合成樹脂並びにペルフルオロアルキルスル
ホン酸又はペルフルオロアルキルカルボン酸のアルカ
リ、アルカリ土類、アンモニウム若しくはアミン塩を含
む帯電防止組成物が開示されている。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】イオンペルフルオロ界
面活性剤及び非イオンペルフルオロ界面活性剤を非弗素
化共重合性、放射線硬化性初期重合体に混ぜ合せたもの
は、特に光学記録媒体上に硬質被膜を形成するのに好ま
しい帯電防止組成物を与えることを、今回新たに見い出
した。本発明の好ましい帯電防止組成物は、例えば１０
０センチポイズ又はそれ以下の低粘度であることが特徴
である。粘度が低いということは、支持体に容易にスピ
ン塗布でき、極めて薄く且つ均一に被膜を形成すること
ができる。
【００２３】放射線によって硬化できるということは、
塗布後放射線を使用して急速に硬化することのできる組
成物は、長期間透明であって、耐磨耗性、透明性そして
成分的に安定な帯電防止被膜を形成する。有利には、熱
による硬化又は熱可塑性物質の利用は必要ないので、光
学記録媒体を損傷するような高温は避けることができ
る。
【００２４】更に、硬化後本発明の帯電防止被膜は、光
学記録媒体のポリカーボネート支持体に強力に接着す
る。この結果、硬化組成物は剥離に対して抵抗を示し、
又は媒体の耐用年数内において摩擦により拭き取られる
ことはない。
【００２５】本発明の利点は、１００重量部の非弗素化
共重合性、放射線硬化初期重合体、０．５から５．０重
量部の非イオンペルフルオロ界面活性剤、及び０．５か
ら５．０重量部のイオンペルフルオロ界面活性剤を含む
帯電防止組成物によって達成される。この帯電防止組成
物は、硬化後耐磨耗性で透明な被膜を形成する。
【００２６】本発明の他の側面は、光学記録媒体の少な
くとも一面に耐磨耗性で透明な帯電防止被膜を提供する
ことに関する。帯電防止被膜は、１００重量部の非弗素
化共重合性、放射線硬化初期重合体、０．５から５．０
重量部の非イオンペルフルオロ界面活性剤、及び０．５
から５．０重量部のイオンペルフルオロ界面活性剤を含
む反応体から得られる硬化組成物である。
【００２７】透明とは、所望の波長又は波長範囲の入射
光の少なくとも８０％が被膜を透過することである。被
膜の光透過特性は、市場において入手できる島津（社）
の紫外線分光光度計の如き装置を使用して測定できる。
【００２８】耐磨耗性とは、市場において入手できるア
トラス（社）のクロックメータを使用し、１０００グラ
ムの重量のナイロンクロスで２００サイクル被膜をこす
って、目に見えるような曇を生じない被膜を意味する。
この試験によると、光学記録ディスクはクロックメータ
の設置台に確実に密着し、一方ディスクは平らにしかも
ディスクの端部は台のマークに合せ整列して設置した。
【００２９】ナイロンクロスはアームヘッドに置き、そ
してスムースに且つ平らになるよう調節した。作業回数
（cycle ）は２００にセットし、そして２００作業回数
にわたって装置を稼動した。２００作業回数後、ディス
クの表面が曇っているかどうかを調べた。一般に、ディ
スクは二回垂直方向に試験を行った。
【００３０】曇りがないということは、ディスクの摩擦
した部分に目視により曇りのバンドが見えないことを意
味する。小さな引掻きは受容でき、そしてディスクを台
の上に着実に且つ平らに載置しなかったり、またナイロ
ンクロスがアームの上で不適切に設置したときに、その
引掻は生ずることがある。
【００３１】
【発明が解決しようとする課題】図１は、本発明の磁気
光学記録ディスク（ＭＯ）１０の説明のための拡大した
横断図を示す。しかし、本発明の帯電防止組成物は、Ｍ
Ｏ媒体のみに使用することに限定するものではなく、む
しろ広範囲の種々の物質に使用できる好ましいものであ
る。
【００３２】例えば、ＭＯディスクに使用される以外
に、本発明の帯電防止剤は、特にコンパクトディスク、
ＣＤ−ＲＯＭ及びＷＯＲＭ（write-once-read-many）媒
体等の如き他の種類の光学記録媒体の使用に好適であ
る。
【００３３】図１についてみると、光学記録被膜１２は
透明支持体１４の上に設けられる。磁気光学記録被膜１
２を透過し、次に光学記録被膜１２に戻って透過する入
射光４０を反射させるために、反射面１８を有する膜１
６を配置する。保護層２０は、環境から光学記録被膜１
２を保護するために膜１６の上に設ける。
【００３４】任意には、透明誘電層１５及び１７は、光
学記録層１２の片面又は両面に設けられる。良く知られ
ていることではあるが、このような誘電層は光学記録層
１２からの光学的信号を増幅し、また熱、湿気又は不純
物の化学反応による酸化又は腐蝕から光学記録被膜１２
を保護する。本発明の硬質被膜２２は、支持体１４を物
理的損傷から守るため支持体１４の上に設けられる。
【００３５】支持体１４、光学記録被膜１２、膜１６、
保護層２０、並びに誘電層１５及び１７は、当技術分野
において公知の形態のものであって良い。例えば、米国
特許第４，９１７，９７０号参照。しかしながら、本発
明の帯電防止組成物はポリカーボネート支持体に大変良
く密着するので、支持体１４は望ましくはポリカーボネ
ートから製造される。
【００３６】このような本発明の可能性ある理論的根拠
は、次のように考えることができる。非弗素化放射線硬
化性、共重合性初期重合体は一般にポリカーボネートと
混合するので、支持体の上に塗布するとポリカーボネー
トへ移行する傾向がある。その結果、硬化するとポリカ
ーボネートと架橋網状構造を形成し、初期重合体は支持
体に強力に密着する。
【００３７】硬質被膜２２は、１００重量部の非弗素化
放射線硬化性、共重合性初期重合体を含む組成物から得
られる。初期重合体は、電子線放射又は紫外線放射の如
き適当な形態の放射線を使用して硬化される。しかしな
がら、初期重合体は、例えば紫外線放射により硬化する
光硬化性であるのが好ましい。
【００３８】望ましい非弗素化放射線硬化初期重合体の
例は、アクリル、メタクリル、ビニル及びアリル官能物
質の如きエチレン性不飽和化合物が含まれる。このよう
なエチレン性不飽和物質の混合物もまた本発明において
使用される。好ましくは、非弗素化放射線硬化初期重合
体は、アクリレート若しくはメタクリレート又はこれら
の混合物である。
【００３９】特に非弗素化放射線硬化、共重合性単量体
の市場において入手できる例は、ＧＡＦ（社）から販売
されているガフガード２３３、米国スリーボンド（社）
から販売されているＴＢ３０７０ｍ、そして大日本イン
キ（社）から販売されているＥＸ７０４が含まれる。こ
れらの中で、ＥＸ７０４を用いるのが好ましい。
【００４０】好ましくは、初期重合体のすべては実質的
に単量体の形態であるが、しかし任意には、重合体又は
オリゴマーの形態であっても良い。例えば、アクリレー
ト末端のポリウレタン又はビニル基末端のポリウレタン
を使用しても良い。しかしながら、このような重合体又
はオリゴマーの使用は、帯電防止組成物の溶液粘度を増
加することになる。
【００４１】もし帯電防止組成物の溶液粘度が、例えば
約２００センチポイズより大きいと、以下に検討するス
ピン塗布方法において使用する場合、この溶液は不適当
なものとなる。
【００４２】帯電防止組成物は、更に０．５から５重量
部、好ましくは２から３重量部の非イオンペルフルオロ
界面活性剤、及び０．５から５重量部、好ましくは２か
ら３重量部のイオンペルフルオロ界面活性剤を含む。も
しいづれの一つの非イオン又はイオンペルフルオロ界面
活性剤が０．５重量部以下で使用されると、帯電防止組
成物は靜電荷形成の防止に対し効果的に作用しない。
【００４３】他方、いづれの一つの非イオン又はイオン
ペルフルオロ界面活性剤が５重量部以上使用されても、
それよりも少ない量で用いた場合と比較して、殆んど付
加的な帯電防止効果を示さない。更にいづれの界面活性
剤を５重量部以上使用すると、得られた帯電防止被膜の
耐磨耗性、透明性及び密着性に悪影響を与える。最も好
ましい場合は、イオンペルフルオロ界面活性剤に対する
非イオンペルフルオロ界面活性剤の割合は約１である。
【００４４】好ましくは、非イオン及び／又はイオンペ
ルフルオロ界面活性剤のペルフルオロ部分は、４から１
６個の炭素原子、好ましくは８個の炭素原子を有する直
鎖又は分技鎖を含有する。最も好ましくは、非イオン界
面活性剤及び／又はイオンペルフルオロ界面活性剤のペ
ルフルオロ部分はＣ8 Ｆ17である。
【００４５】試験結果によると、ペルフルオロ部分がＣ
8 Ｆ17である場合の非イオン及び／又はイオンペルフル
オロ界面活性剤は、同量使用した他の非イオン及び／又
はイオンペルフルオロ界面活性剤と比較して、靜電荷の
形成をより良好に防止する。最も好ましくは、非イオン
ペルフルオロ界面活性剤のペルフルオロ部分は、イオン
ペルフルオロ界面活性剤のペルフルオロ部分と同じであ
る。
【００４６】本発明において好ましい非イオンペルフル
オロ界面活性剤の例は、次のものが含まれる。
【化１】
【００４７】ここで、ｎは４−１６で好ましくは８、ｍ
は１−２０で好ましくは８、ｍ′は１−２０で好ましく
は１４、ｍ″は０−８、Ｒは水素原子又はメチル基、エ
チル基等の如き１−１２の炭素原子を有する低級アルキ
ル基、そしてＲ″は水素原子又は１−１２の炭素原子を
有する低級アルキル基であって、好ましくは水素原子又
はメチル基である。
【００４８】本発明において好ましいイオンペルフルオ
ロ界面活性剤の例は次に示す化合物が含まれる。
【化２】
【００４９】ここでｎは４−１６で好ましくは８、ｍは
Ｎａ+ ，Ｌｉ+ ，Ｋ+ ，Ｈ+ 又はＮＨ4 + で好ましくは
Ｌｉ+ 、ｍは１−１０で好ましくは８、ｘは１−３で好
ましくは１、そしてＲはＨ，ＣＨ3 ，ＣＨ3 ＣＨ2 の如
き水素原子又は１−１２炭素原子の低級アルキル基であ
る。
【００５０】本発明の帯電防止組成物は、好ましくはス
ピン塗布方法を用いて磁気光学記録デスク１０の如き光
学記録媒体に適用する。スピン塗布は厚さがわずか０．
５から２０ミクロン、好ましければ０．８から１０ミク
ロン、そしてより好ましければ５から７ミクロンを有す
る特に均一の硬質被膜を容易に且つ急速に形成する。有
利には、このような被膜は十分に薄く、従って硬質被膜
２２の光学指数（optical index ）を透明支持体１４の
光学指数に合せる必要はない。
【００５１】スピン塗布方法においては、非弗素化放射
線硬化共重合性初期重合体、非イオンペルフルオロ界面
活性剤、イオンペルフルオロ界面活性剤そして任意には
適当な溶剤を含む混合物を準備する。溶剤の使用は必要
ではない。しかしながら、例えば界面活性剤と初期重合
体とを混ぜ合せると二つの液相を形成するような如き界
面活性剤と初期重合体が混合しない場合には、溶媒を使
用するのが好ましい。
【００５２】好ましい溶剤の例は、メチルアルコール、
イソプロピルアルコール、Ｎ−ビニル−２−ピロリド
ン、及びこれらの溶剤の混合物等が含まれる。このよう
な溶剤では、１０容積部のイソプロピルアルコールと１
容積部のｎ−ブタノールとの溶剤混合物、又はイソプロ
ピルアルコール自体が好ましい。
【００５３】好ましくは、１００センチポイズ又はそれ
以下の粘度、そしてより好ましくは約５センチポイズの
粘度になるような溶剤を含む混合物である。一般に、本
発明を実施するに当り、非イオン及びイオンペルフルオ
ロ界面活性剤の全体のグラムに対して、０．７から１．
５グラムの溶剤を使用するのが好ましい。
【００５４】好ましくは、まず初めにイオンペルフルオ
ロ界面活性剤を溶剤と混ぜ合せる。次に、非イオンペル
フルオロ界面活性剤を攪拌しながら加える。次いで、非
弗素化放射硬化、共重合性初期重合体をゆっくりと加
え、そして均質な溶液になるまで攪拌する。攪拌時間は
３０分程度が好ましい。攪拌後、得られた混合物は少な
くとも使用前１時間は放置する。
【００５５】通常のスピン塗布方法を適用して、この混
合物を磁気光学ディスク１０の支持体１４に塗布する。
このような装置は、通常分配ニードル、シリンジ及びポ
ンプを有している。好ましくは、スピン塗布を行う前
に、磁気光学ディスクをイオン化Ｎ2 で事前に清淨して
おく。混合物は５センチポイズ又はそれ以下であるの
で、ディスクを３０から５０rpm で回転させると、５か
ら２０psi のニードル圧力で、約２秒間でディスクの中
央に適切量の混合物が送られる。
【００５６】分配ニードルに混合物が送られる前に、フ
ィルター（０．２から２ミクロンのin-line filter）を
使用して混合物からの粒子を取り除く。送達後、３から
５秒間１８００から２４００rpm の高スピードによって
薄い、均一の塗膜を得る。使用した場合、殆んどの溶剤
は高速回転によって取り除かれる。
【００５７】この湿った塗膜は、次いで直ちに紫外線の
如き適当な放射線によって、排気ファンを有する炉の中
で、室温で硬化する。典型的には、排気ファンは硬化の
課程で炉から低沸点、揮発性成分を取り除くために稼動
される。
【００５８】放射線の線源は特に臨界的なものではな
い。一例として、本発明を実施するについて、２８０か
ら３６５nmの波長及び２００から４５０mj／cm2 のエネ
ルギーを発生する中程度の強さの紫外線アークランプを
使用して、４から６秒間行うのが適切である。
【００５９】溶媒を含む帯電防止組成物を使用した場
合、硬化して溶媒を揮発させる前に、ディスクを炉の中
に置いて、２，３秒間排気ファンを動かすのが好まし
い。他方、溶媒を含まない帯電防止組成物においては、
組成物の硬化は例えば更に２から４秒間より長い時間硬
化する。
【００６０】粘度が３５センチポイズより高い混合物の
場合には、スピン塗装において上に述べたと同じパラメ
ータを用いることができる。しかし、この場合溶液は塗
装する前に５０から６０℃に事前に加熱しておかなけれ
ばならない。好ましくは、スピン塗装及び／又は硬化は
不活性雰囲気で行う。例えば、９０％またはこれ以上の
窒素を含む雰囲気が採用される。
【００６１】
【実施例】次に実施例を参照して、更に本発明を説明す
る。例１ 本発明の種々の組成物（試料１−１８）を次に示す式の
非イオンペルフルオロ界面活性剤、
【化３】 次に示す式のイオンペルフルオロ界面活性剤、
【化４】 及び非弗素化共重合性、放射線硬化性初期重合体（ＴＢ
３０７０Ｍ、米国スリーボント（社）から入手した３０
％固体を含む初期重合体溶液）を、表１に示す割合に従
って準備した。
【００６２】
【表１】
【００６３】（１）初期重合体は３０％固体の溶液から
のものであるが、この表に示した重量部は使用した初期
重合体の実際の量である。 （２）イオンペルフルオロ界面活性剤は４０％溶液から
のものであるが、この表に示した重量部は使用したイオ
ン界面活性剤の実際の量である。
【００６４】試料（１−１８）を準備するため、４０グ
ラムのイオンペルフルオロ界面活性剤を攪拌しながら６
０グラムのイソプロピルアルコールに溶解し、イオンペ
ルフルオロ界面活性剤の４０％溶液を得た。各試料につ
いては、この適当量の溶液を攪拌しながら非イオンペル
フルオロ界面活性剤と混ぜ合せた。
【００６５】この後、初期重合体の３０％固体溶液をこ
の界面活性剤と混ぜ合せ、そして得られた混合物を３０
分間攪拌を行った。この試料を１時間放置後、３号Meye
r Bar を使用してポリエチレンテレフタレートフイルム
に塗布した。次いでこの塗膜を、３６５nmの波長及び２
４０mj／cm2 のエネルギの紫外線を４から５秒照射して
硬化した。硬化は窒素雰囲気中５０℃から６０℃の範囲
の温度で行った。
【００６６】例２ 本発明の試料（１９）は、Ｃ8 Ｆ17ＳＯ3 - Ｌｉ+ に代
えＣＦ3 ＳＯ3 - Ｌｉ + を使用した点を除いて、例１に
従って準備した。 試 料 初期重合体 非イオン界面活性剤 イオン界面活性剤 １９ １００ ２．５ ２．５
【００６７】例３ 本発明の試料（２０）は、Ｃ8 Ｆ17ＳＯ3 - Ｌｉに代え
Ｃ4 Ｆ9 ＳＯ3 - Ｌｉ + を使用した点を除いて、例１に
準じて準備した。 試 料 初期重合体 非イオン界面活性剤 イオン界面活性剤 ２０ １００ ２．５ ２．５
【００６８】例４ 本発明の試料（２１）は、ＴＢ３０７０Ｍに代え大日本
インク（社）から入手した非弗素化共重合性、放射線硬
化初期重合体の１００％固体混合物を使用した点を除い
て、例１に従って準備した。 試 料 初期重合体 非イオン界面活性剤 イオン界面活性剤 ２１ １００ ２．５ ２．５ この試料を、ＵＬアダプターを有すBrook field （社）
の粘度計を使用して粘度を測定し、そして２５℃におい
て４３から４５センチポイズとあり、回転速度は１２rp
m であった。
【００６９】比較例Ａ ５グラムの例１の非イオンペルフルオロ界面活性剤を攪
拌しながらゆっくりと３００グラムのＴＢ３０７０に加
えた。この溶液を１時間放置後、例１に従ってＰＥＴフ
イルムに塗布した。
【００７０】比較例Ｂ ４０グラムのＣＦ3 ＳＯ3 - Ｌｉ+ を攪拌しながらゆっ
くりと６０グラムのイソプロピルアルコールに溶解し
た。次いで、３．８グラムのこの溶液を攪拌しながら１
００グラムのＴＢ３０７０Ｍに加えた。この溶液を１時
間放置した後、例１に準じてＰＥＴフイルムに塗布し
た。
【００７１】比較例Ｃ ＣＦ3 ＳＯ3 - Ｌｉ+ に代えＣ8 Ｆ17ＳＯ3 - Ｌｉ+ を
使用した点を除いて、比較例Ｂに従って、同様に行っ
た。
【００７２】比較例Ｄ ＣＦ3 ＳＯ3 - Ｌｉ+ に代えＣ4 Ｆ9 ＳＯ3 - Ｌｉ+ を
使用した点を除いて、比較例Ｂと同様にして行った。
【００７３】比較例Ｅ １００重量部の初期重合体固体に対し、いづれの界面活
性剤をわずか０．２５重量部を使用した点を除いて、例
１と同様にして処理を行った。
【００７４】例５ 試料１−２１の帯電防止特性を、比較例Ａ−Ｅの帯電防
止特性と比較した。更に、ＴＢ３０７０Ｍのみを塗布し
たＰＥＴフイルムの帯電防止特性（比較例Ｆ）、及び何
も塗布しないＰＥＴフイルム（比較例Ｇ）についても、
また測定を行った。
【００７５】各試料は約５０００ボルトの電圧をかけ、
そして５０ボルトに減少するまでの時間（秒）を測定し
た。この測定は、２５℃において１５％の相対湿度のも
とに行った。エレクトロテク（社）から入手したＥＴＳ
４０６Ｃメータを使用して電圧の低下を測定した。各試
料は３．５インチ×５．５インチ四方のサイズである。
この測定結果を次に示す。
【００７６】
【表２】
【００７７】この表において、無限とは、試料の残留電
圧が１時間後５０ボルト以上であることを意味する。電
圧の減衰が無限であるとしたすべての試料は、試料の残
留電圧が１時間後少なくとも２０００ボルトであった。
【００７８】例６ （ａ）試料２２ ４０グラムの例１のイオンペルフルオロ界面活性剤を、
攪拌しながら６０グラムのイソプロピルアルコールにゆ
っくりと加え、帯電防止組成物を準備した。次いで、４
０グラムの例１の非イオンペルフルオロ界面活性剤を、
攪拌しながらイソプロピルアルコール溶液に加えた。こ
の溶液中におけるペルフルオロ界面活性剤の全重量％は
約５７％であった。
【００７９】次に、８．７グラムのペルフルオロ界面活
性剤のイソプロピルアルコールを、ゆっくりと１００グ
ラムのＥＸ７０４に加えた。この溶液を攪拌テーブルの
上で３０分間十分に混合した。攪拌後、使用前に１時間
この溶液を放置した。
【００８０】（ｂ）試料２３ ４０グラムの例１のイオンペルフルオロ界面活性剤を、
攪拌しながら６０グラムのイソプロピルアルコールに溶
解して準備した。次に、４０グラムの例１の非イオンペ
ルフルオロ界面活性剤を、攪拌しながらイソプロピルア
ルコール溶液に加えた。この溶液中のペルフルオロ界面
活性剤の全重量％は約５７％であった。
【００８１】次に、８．７グラムのペルフルオロ界面活
性剤のイソプロピルアルコール溶液を、ゆっくりと３０
０グラムのＴＢ３０７０Ｍに加えた。次いでこの溶液を
攪拌テーブルの上で３０分間十分に混合し、そしてこの
混合溶液を使用する前に１時間放置した。
【００８２】試料２２及び２３のいづれも、次の如くし
て磁気光学記録ディスクにスピン塗布した。この磁気光
学記録ディスクは、塗布する前に事前にイオン化窒素ガ
スガンを使用して清淨した。次いでこの試料を低圧空気
（５から２０psi ）で針分配システム及び０．２から２
ミクロンのフィルターを使用し、磁気光学記録ディスク
のポリカーボネート側にスピン塗布した。
【００８３】この試料を、最初低回転（３０から５０rp
m ）でディスクの中央部に分配し、次に高回転（１８０
０から２４００rpm ）で平滑、且つ均一の塗布被膜とし
た。この塗布したディスクを窒素雰囲気下弱い紫外線
（３６５nm）で硬化した。試料２２は室温において比較
的高い粘度を有し、そしてスピン塗装する前に５０℃か
ら６０℃に事前に加熱した。
【００８４】比較を目的として、更に二つのディスクに
ついて、ＥＸ７０４（比較試料Ｉ）及びＴＢ３０７０
（比較試料Ｊ）をそれぞれスピン塗布方法によって塗布
した。比較試料Ｉ及びＪでは、ペルフルオロ界面活性剤
を使用しなかった。
【００８５】これらの試料（２２，２３，Ｉ及びＪ）で
塗布したいづれのディスクを、８０℃及び８５％相対湿
度の部屋においてエイジした。ディスクを各５００時間
後取り出し、そして各ディスクの全記録量の５％につい
て任意にバイト誤差割合をテストした。このディスクは
またエイジ前及び１５００時間のエイジ後、目視による
曇りと剥離並びに耐磨耗性の試験を行った。バイト誤差
割合の結果を次の表３に示す。
【００８６】
【表３】 ＊ここでの値は１００，０００バイトについての誤差数
である。 ＊＊試料２２の値は２回の平均値を記した。
【００８７】耐磨耗性の試験及び目視による結果を次に
示す
【表４】
【００８８】＊優秀は、引掻傷が全く目視できなかった
ことを意味する。＊＊良好は、目視によって多少の引掻
は認められるが、しかし曇りは認められなかったことを
意味する。
【００８９】本願明細書の記載を考慮し、また本願にお
いて開示した本発明の実施からして、本発明の他の実施
態様は当業者において明らかであろう。本発明において
開示した原理からして省略、改良及び変化させること
は、本願特許請求の範囲に示した本発明の範囲及び精神
から逸脱することなく当業者においてなし得ることであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】帯電防止被膜を含む磁気光学記録媒体の断面図
である。
【符号の説明】
１０…ディスク １２…光学記録被膜 １４…透明支持体 １６…反射面（１８）を有する膜 ２０…保護層 ２２…硬膜被膜 ４０…入射光

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）１００重量部の非弗素化共重合性、
    放射線硬化初期重合体、 （ｂ）０．５から５．０重量部の非イオンペルフルオロ
    界面活性剤及び （ｃ）０．５から５．０重量部のイオンペルフルオロ界
    面活性剤、を含む帯電防止組成物。
  2. 【請求項２】 ディスクの少なくとも一方の表面上に耐
    磨耗性で且つ透明である帯電防止硬化被膜を有する光学
    記録ディスクであって、該硬質被膜は（ａ）１００重量
    部の非弗素化共重合性、放射線硬化初期重合体、（ｂ）
    ０．５から５．０重量部の非イオンペルフルオロ界面活
    性剤、及び（ｃ）０．５から５．０重量部のイオンペル
    フルオロ界面活性剤を含む成分から得られた硬化組成物
    である光学記録ディスク。
JP4172120A 1991-07-09 1992-06-30 帯電防止硬質膜を有する光学記録媒体 Pending JPH05214323A (ja)

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