DE4222448A1 - Optisches aufzeichnungsmedium mit antistatischer hartbeschichtung - Google Patents
Optisches aufzeichnungsmedium mit antistatischer hartbeschichtungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft antistatische Zusam
mensetzungen auf Perfluor-Basis, umfassend ionische und
nicht-ionische Perfluor-Tenside im Gemisch mit nicht-
fluorierten, copolymerisierbaren, strahlungshärtbaren
Prepolymeren sowie aus diesen Zusammensetzungen herge
stellte antistatische Hartbeschichtungen. Die vorliegen
de Erfindung betrifft auch optische Aufzeichnungsmedien,
die auf wenigstens einer Oberfläche mit einer solchen
antistatischen Hartbeschichtung versehen sind.
Optische Aufzeichnungsmedien umfassen typischerweise
eine optische Aufzeichnungsschicht, die auf einem Sub
strat vorliegt. Bei Medien wie etwa magnetooptischen
Aufzeichnungsmedien und optischen WORM-Aufzeichnungs
medien (write-once-read-many) umfaßt die optische Auf
zeichnungsschicht im allgemeinen einen dünnen Film einer
Seltenerd-Übergangsmetall-Legierung wie etwa Gadolinium-
Cobalt (Gd-Co), Gadolinium-Eisen (Gd-Fe), Terbium-Eisen
(Tb-Fe), Dysprosium-Eisen (Dy-Fe), Gd-Tb-Fe, Tb-Dy-Fe,
Tb-Fe-Co, Terbium-Eisen-Chrom (Tb-Fe-Cr), Gadolinium-
Eisen-Bismut (Gd-Fe-Bi), Gd-Co-Bi, Gadolinium-Eisen-Zinn
(Gd-Fe-Sn), Gd-Fe-Co, Gd-Co-Bi und Gd-Dy-Fe. Derartige
Legierungen werden zum Beispiel in US-Patent
Nr. 48 22 675 beschrieben. Bei Medien wie etwa Compact
Disks kann es sich bei der optischen Aufzeichnungs
schicht um eine Schicht aus Polycarbonat mit struktu
rierter, informationstragender Oberfläche handeln.
Viele der als optische Aufzeichnungsschicht geeigneten
Materialien reagieren in hohem Maße mit Sauerstoff oder
anderen Elementen, die in der Umgebung vorhanden sind,
in welcher die optischen Aufzeichnungsmedien verwendet
werden. Des weiteren kann auch das Substrat selbst Ver
unreinigungen enthalten, die mit der optischen Aufzeich
nungsschicht reagieren. So können transparente dielek
trische Filme auf einer oder beiden Seiten der optischen
Aufzeichnungsschicht aufgebracht sein, um diese zu
schützen. Solche dielektrischen Filme werden zum Bei
spiel in den US-Patenten Nr. 48 33 043 und 49 17 970
beschrieben.
Gegebenenfalls kann in das optische Aufzeichnungsmedium
eine reflektierende Schicht eingebracht werden, so daß
einfallendes Licht, das die optische Aufzeichnungs
schicht ein erstes Mal passiert, reflektiert wird und
die optische Aufzeichnungsschicht ein zweites Mal pas
siert. Eine solche Reflexion erhöht die magnetooptische
Rotation des einfallenden Lichts, da zum sogenannten
Kerr-Effekt noch der sogenannte Faraday-Effekt hinzu
kommt. Reflektierende Schichten werden zum Beispiel in
US-Patent Nr. 48 22 675 beschrieben.
Die reflektierende Schicht kann so in ein magnetisches
Aufzeichnungsmedien eingebracht sein, daß die optische
Aufzeichnungsschicht zwischen Substrat und reflektieren
der Schicht liegt. Bei solchen Medien werden transparen
te Substrate verwendet, so daß einfallendes Licht zu
nächst durch das Substrat hindurchgeht, dann die opti
sche Aufzeichnungsschicht passiert und dann von der re
flektierenden Schicht zurück durch die optische Auf
zeichnungsschicht reflektiert wird. Bei diesen Medien
handelt es sich um Substrateinfallmedien (im angelsäch
sischen als "substrate incident media" geläufig). Wird
die optionelle reflektierende Schicht zwischen das Sub
strat und die optische Aufzeichnungsschicht gebracht, so
werden Lese- und Schreibstrahlen nicht durch das Sub
strat geführt. Bei diesen Medien handelt es sich um
Direkteinfallmedien (im angelsächsischen als "air
incident media" geläufig), wenn auch im allgemeinen we
nigstens eine Schicht zwischen der optischen Aufzeich
nungsschicht und der Luft vorhanden ist.
Bei Substrateinfallmedien ist das Substrat typischer
weise aus Polycarbonat gebildet. Polycarbonat-Substrate
besitzen ausgezeichnete Steifigkeit, Formbeständigkeit,
Transparenz und Schlagzähigkeit, doch leider geringe
Abriebfestigkeit. Folglich sind Polycarbonat-Substrate
empfindlich gegenüber mechanischen Beschädigungen durch
Kratzer, Abrieb und dergleichen.
Um das Substrat vor mechanischer Beschädigung zu schüt
zen, wird eine Schicht "Hartbeschichtung" auf das Sub
strat aufbeschichtet, um eine schützende Schicht zwi
schen dem Substrat und der Luft zu bilden. Zum Beispiel
beschreibt die japanische Kokai Nr. JP 02-2 60 145 eine
Hartbeschichtungsschicht, die auf das Substrat einer
optischen Karte aufbeschichtet wird. Die Hartbeschich
tungsschicht wird gebildet aus einem Harz, das mittels
Elektronenstrahl oder Ultraviolettstrahlung härtbar ist.
Die Hartbeschichtungsschicht der japanischen Kokai Nr.
JP 02-2 60 145 schließt auch ein Oberflächengleitmittel,
d. h., ein Schmiermittel ein.
Durch die statische Aufladung zieht die Hartbeschich
tungsschicht von optischen Aufzeichnungsmedien Staub an,
der verhindern kann, daß Lese- und Schreibstrahlen die
optische Aufzeichnungsschicht während des Lesens oder
Schreibens erreichen. Daher ist im allgemeinen die Ver
wendung von Antistatika wünschenswert, um diese stati
sche Aufladung zu vermindern.
Antistatische Zusammensetzungen müssen strengen Anforde
rungen genügen, damit sie für die Verwendung in opti
schen Aufzeichnungsmedien geeignet sind. Zusätzlich zu
ihrer Schutzfunktion vor statischer Aufladung müssen
antistatische Zusammensetzungen transparent sowie ab
riebfest und in ihrer Zusammensetzung stabil sein, so
daß die Zusammensetzungen über lange Zeiträume transpa
rent bleiben. Werden die Zusammensetzungen trübe, so
kann sich die Menge einfallenden Lichtes, das die opti
sche Aufzeichnungsschicht erreicht, verringern, was zu
einer Erhöhung der Bit-Fehlerquote, einer Vermehrung von
Reservesektoren oder zu Datenverlust führt. Eine weitere
Anforderung betrifft die Viskosität der antistatischen
Zusammensetzung. Um eine antistatische Beschichtung
gleichmäßiger Dicke zu erhalten, muß die antistatische
Zusammensetzung vorzugsweise geringe Viskosität aufwei
sen, z. B. 0,1 Pa·s (100 cP) oder weniger. Die Verwendung
von wärmehärtbaren oder heißen thermoplastischen Zusam
mensetzungen ist ebenso zu vermeiden, da höhere Tempera
turen, d. h., Temperaturen von etwa 100°C oder mehr, op
tische Aufzeichnungsmedien beschädigen und/oder die Lei
stung der Medien negativ beeinflussen können.
Im allgemeinen gibt es zwei Vorgehensweisen, um die
Antistatika mit der Hartbeschichtungsschicht zu ver
wenden. Bei der einen Vorgehensweise wird die Hartbe
schichtungsschicht direkt mit den Antistatika beschich
tet. Diese Vorgehensweise bietet jedoch im allgemeinen
insofern keinen dauerhaften Antistatikschutz, als diese
Beschichtungen zu leicht zur Abwischbarkeit neigen. Bei
einer anderen Vorgehensweise werden die Antistatika mit
den Hartbeschichtungsmaterialien vorgemischt, ehe die
Medien mit der Hartbeschichtung beschichtet werden. Bei
dieser Vorgehensweise sind die herkömmlichen Antistati
ka, um annehmbaren antistatischen Schutz zu bieten, je
doch in solch relativ hohen Konzentrationen verwendet
worden, daß die resultierenden Hartbeschichtungen mit
der Zeit zu Trübung neigen, geringe Abriebfestigkeit
zeigen und sich von den Medien in Schichten ablösen.
Die japanische Kokai Nr. JP 57-49 741 beschreibt eine
antistatische Zusammensetzung, umfassend ein nicht-
ionisches Fluorid-Tensid und ein ionisches Fluorid-
Tensid. Eine Kunststoffoberfläche kann durch Eintauchen
oder Besprühen mit der antistatischen Zusammensetzung
beschichtet werden, oder die Zusammensetzung kann vor
dem Vorgang des Formens mit Kunststoffen vorgemischt
werden. Gemäß JP57-42 741 schließen geeignete Kunst
stoffe wärmehärtbare und thermoplastische Materialien
ein.
Die japanische Kokai Nr. JP 61-0 00 265 beschreibt eine
Beschichtungszusammensetzung, die eine Verbindung mit
Perfluoralkyl-Gruppen an beiden Seiten einer Oligo
ethylenoxid-Gruppe enthält. Die Zusammensetzung wird
verwendet als Schutzüberzug für feste Oberflächen, z. B.
Magnetbänder oder -disks.
Die japanische Kokai Nr. JP63-2 08 561 beschreibt Per
fluorsulfonamide, die als Antistatika für Kunstharze
brauchbar sind.
Die japanische Kokai Nr. JP 62-2 07 352 beschreibt anti
statische Harzzusammensetzungen, die 100 Gewichtsteile
Harz und 0,05 bis 10 Gewichtsteile einer anionischen
Perfluor-Verbindung umfassen.
Das US-Patent Nr. 42 08 466 beschreibt die Herstellung
ionischer fluorchemischer Tenside, die als Antistatika
und Gleitmittel für polymere Profile brauchbar sind.
Diese Tenside können direkt auf ein polymeres Profil
aufgebracht oder vor dem Formen mit einem polymeren Ma
terial compoundiert werden.
Das US-Patent Nr. 46 23 594 beschreibt eine antistati
sche Zusammensetzung, erhalten aus einem mittels Elek
tronenstrahlung härtbaren Prepolymer und einem gegenüber
Elektronenstrahlung reaktiven Antistatikum, das in dem
Prepolymer löslich ist. Geeignete Antistatika sind quar
täre Ammonium-Salze wie etwa Trialkyletherammonium-
Salze.
Das US-Patent Nr. 45 05 990 beschreibt antistatische
Zusammensetzungen, umfassend ein filmbildendes syntheti
sches Harz und ein Alkali-, Erdalkali-, Ammonium- oder
Amin-Salz einer Perfluoralkylsulfonsäure oder Carbon
säure.
Es wurde jetzt gefunden, daß durch Kombinieren von ioni
schen und nicht-ionischen Perfluor-Tensiden mit nicht
fluorierten, copolymerisierbaren, strahlungshärtbaren
Präpolymeren verbesserte antistatische Zusammensetzungen
geliefert werden, die besonders zur Bildung von Hartbe
schichtungen auf optischen Aufzeichnungsmedien geeignet
sind. Bevorzugte antistatische Zusammensetzungen der
vorliegenden Erfindung sind gekennzeichnet durch niedri
ge Viskosität, z. B. 0,1 Pa·s (100 cP) oder weniger. Mit
ihrer niedrigen Viskosität lassen sich die Zusammenset
zungen leicht durch Rotationsbeschichtung auf Substrate
aufbringen, um extrem dünne, gleichmäßige Beschichtungen
zu ergeben. Da die Zusammensetzungen strahlungshärtbar
sind, können sie nach dem Beschichten mittels Strahlung
rasch gehärtet werden, um abriebfeste, transparente, in
ihrer Zusammensetzung stabile, antistatische Beschich
tungen zu bilden, die über lange Zeiträume transparent
bleiben. Vorteilhafterweise ist Härten durch Wärme oder
die Verwendung heißer thermoplastischer Materialien
nicht erforderlich, wodurch höhere Temperaturen vermie
den werden, die die optischen Aufzeichnungsmedien be
schädigen können. Darüber hinaus zeigen die antistati
schen Beschichtungen der vorliegenden Erfindung nach dem
Härten ausgezeichnete Adhäsion an Polycarbonat-substra
ten optischer Aufzeichnungsmedien. Im Ergebnis wider
stehen die gehärteten Zusammensetzungen der Delaminie
rung oder dem Abgewischtwerden für die Lebensdauer der
Medien.
In einer Hinsicht werden die Vorteile der vorliegenden
Erfindung mit einer antistatischen Zusammensetzung er
reicht, umfassend 100 Gewichtsteile eines nicht-fluo
rierten, copolymerisierbaren, strahlungshärtbaren Pro
polymers, 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines nicht-ioni
schen Perfluor-Tensids und 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile
eines ionischen Perfluor-Tensids. Die antistatische Zu
sammensetzung bildet beim Härten eine abriebfeste,
transparente Beschichtung.
In einer anderen Hinsicht betrifft die Erfindung ein op
tisches Aufzeichnungsmedium, das auf wenigstens einer
Seite mit einer abriebfesten, transparenten, antistati
schen Zusammensetzung versehen ist. Bei der antistati
schen Beschichtung handelt es sich um eine gehärtete
Zusammensetzung, erhalten aus Reaktionspartnern, umfas
send 100 Gewichtsteile eines nicht-fluorierten, copoly
merisierbaren, strahlungshärtbaren Präpolymers, 0,5 bis
5,0 Gewichtsteile eines nicht-ionischen Perfluor-Tensids
und 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines ionischen Perfluor-
Tensids.
"Transparent" bedeutet, daß wenigstens 80% einfallenden
Lichts einer gewünschten Wellenlänge oder eines Wellen
längenbereichs von der Beschichtung durchgelassen
werden. Die Lichtdurchlässigkeitseigenschaften einer
Beschichtung lassen sich mit Hilfe einer Vorrichtung
messen wie z. B. einem UV-Spectrophotometer, im Handel
erhältlich bei Shimatsu, Inc..
"Abriebfest" bedeutet, daß die Beschichtung sichtbar
trübungsfrei bleibt nach 200 Durchgängen Reiben der
Beschichtung mit einem Nylon-Tuch mit einer Gewichtsbe
lastung von 1000 g unter Verwendung eines Crockmeter-
Geräts, das im Handel von Atlas Electrical Device, Inc.
erhältlich ist. Nach diesem Test wird eine optische
Aufzeichnungsscheibe fest an die Plattform des Crock
meter-Geräts geheftet, wobei sicherzustellen ist, daß
die Scheibe flach aufliegt und die Kante der Scheibe mit
der Markierung auf der Plattform zur Deckung kommt. Ein
Nylon-Tuch wird auf das Armende gegeben und so zurecht
gelegt, daß es glatt und flach ist. Die Anzahl der
Durchgänge wird auf 200 gesetzt, und das Gerät wird 200
Durchgänge lang laufengelassen. Nach 200 Durchgängen
wird die Oberfläche der Scheibe auf Trübung überprüft.
Im allgemeinen wird die Scheibe zweimal in zwei senk
rechten Richtungen geprüft. "Trübungsfrei" bedeutet, daß
kein Trübungsstreifen in dem Bereich der Scheibe sicht
bar auftritt, wo gerieben wurde. Kleine Kratzer sind
akzeptabel und können auftreten, wenn die Scheibe nicht
fest und flach auf die Plattform montiert wurde oder
wenn das Nylon-Tuch nicht richtig um den Arm gewickelt
wurde.
Fig. 1 ist ein schematischer Querschnitt eines magneto
optischen Aufzeichnungsmediums, umfassend eine antista
tische Beschichtung der vorliegenden Erfindung.
Fig. 1 zeigt einen stark vergrößerten schematischen
Querschnitt durch einen Teil einer veranschaulichenden
magnetooptischen ("MO") Substrateinfall-Aufzeichnungs
scheibe 10 der vorliegenden Erfindung. Man sollte sich
jedoch darüber im klaren sein, daß die antistatischen
Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung nicht nur
auf die Verwendung von MO-Medien beschränkt ist, sondern
vielmehr für die Verwendung einer großen Vielfalt von
Materialien geeignet sind. Zum Beispiel sind die anti
statischen Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung
neben ihrer Verwendung als MO-Disks besonders für die
Verwendung mit anderen Arten optischer Aufzeichnungs
medien geeignet wie etwa Compact Disks, den Medien
CD-ROM, WORM (d. h., write-once-read-many) und der
gleichen.
Wie nun Fig. 1 zeigt, wird ein transparentes Substrat 14
mit einer optischen Aufzeichnungsschicht 12 versehen.
Ein Film 16 mit einer reflektierenden Oberfläche 18 ist
so angeordnet, daß einfallendes Licht 40 ein erstes Mal
die magnetooptische Schicht 12 durchdringt und ein zwei
tes Mal die optische Schicht 12 auf umgekehrtem Wege
durchdringt. Eine schützende Verschlußbeschichtung 20
ist über dem Film 16 angeordnet, um die optische Auf
zeichnungsschicht 12 vor Umgebungseinflüssen zu schüt
zen. Gegebenenfalls können transparente dielektrische
Schichten 15 und 17 auf einer oder beiden Seiten der
optischen Aufzeichnungsschicht 12 angeordnet sein. Wie
in der Fachwelt bekannt ist, verstärken derartige di
elekrische Schichten das optische Signal der optischen
Aufzeichnungsschicht 12 und schützen auch die optische
Aufzeichnungsschicht 12 vor Oxidation oder Korrosion,
hervorgerufen durch Wärme, Luftfeuchtigkeit oder chemi
sche Reaktionen mit Verunreinigungen. Darüber ist das
Substrat 14 mit einer Schicht Hartbeschichtung 22 gemäß
der vorliegenden Erfindung versehen, um das Substrat 14
vor mechanischer Beschädigung zu schützen.
Bei dem Substrat 14, der optischen Aufzeichnungsschicht
12, dem Film 16, der schützenden Verschlußbeschichtung
20 und den dielektrischen Schichten 15 und 17 kann es
sich um einen der Fachwelt bekannten Typ handeln. Siehe
zum Beispiel US-Patent Nr. 49 17 970. Allerdings wird
das Substrat 14 vorzugsweise aus Polycarbonat gebildet,
da die antistatischen Zusammensetzungen der vorliegenden
Erfindung ausgezeichnete Adhäsion an Polycarbonat-Sub
straten zeigen. Für dieses Merkmal der Erfindung läßt
sich eine mögliche Erklärung angeben. Es wird angenom
men, daß die nicht-fluorierten, strahlungshärtbaren,
copolymerisierbaren Präpolymere, die im allgemeinen mit
Polycarbonat mischbar sind, dazu neigen, beim Aufbringen
auf das Substrat in das Polycarbonat zu wandern. Im Er
gebnis weisen die Prepolymere beim Härten starke Adhä
sion am Substrat auf, was auf die Bildung von Vernetzung
mit dem Polycarbonat zurückgeht.
Die Hartbeschichtungsschicht 22 wird hergestellt aus
einer Zusammensetzung, umfassend 100 Gewichtsteile an
nicht-fluorierten, copolymerisierbaren, strahlungshärt
baren Prepolymeren. Die Präpolymere können mit Hilfe
irgendeiner geeigneten Form von Strahlung wie etwa Elek
tronenstrahlung oder Ultraviolettstrahlung gehärtet
werden. Bevorzugtermaßen jedoch sind die Präpolymere
photohärtbar, d. h., härtbar mit ultravioletter Strah
lung.
Zu den Beispielen für geeignete nicht-fluorierte, strah
lungshärtbare Präpolymere gehören ethylenisch ungesät
tigte Verbindungen wie etwa Acryl-, Methacryl-, Vinyl-
und Allyl-funktionelle Stoffe. In der vorliegenden Er
findung können auch Mischungen solcher ethylenisch unge
sättigter Stoffe verwendet werden. Vorzugsweise handelt
es sich bei den nicht-fluorierten, strahlungshärtbaren
Präpolymeren um Acrylat- oder Methacrylat-Stoffe oder
deren Mischungen. Zu den Beispielen für spezielle, im
Handel erhältliche nicht-fluorierte, strahlungshärtbare,
copolymerisierbare Monomere gehören Gafgard 233, ver
trieben durch GAF Chemical Corporation, TB3070m, ver
trieben durch Three Bond Chemical Company of America,
Inc., und EX704, vertrieben durch Dianippon Ink & Chemi
cals, Inc., Japan. Unter diesen Materialien wird die
Verwendung von EX704 bevorzugt.
Vorzugsweise sind im wesentlichen alle dieser Präpoly
meren in monomerer Form, obwohl auch polymere oder oli
gomere Bestandteile gegebenenfalls verwendet werden kön
nen. Zum Beispiel können Polyurethane mit endständigem
Acrylat oder Polyurethane mit endständigen Vinyl-Gruppen
verwendet werden. Jedoch neigt bei Verwendung solcher
polymerer oder oligomerer Materialien die Viskosität von
Lösungen der antistatischen Zusammensetzung zur Erhö
hung. Wird die Viskosität von Lösungen der antistati
schen Zusammensetzung zu hoch, d. h. höher als etwa
0,2 Pa·s (200 cP), kann die Lösung für die Anwendung bei
der nachstehend erörterten Rotationsbeschichtung unge
eignet sein.
Die antistatische Zusammensetzung umfaßt des weiteren
0,5 bis 5 Gewichtsteile, vorzugsweise 2 bis 3 Gewichts
teile eines nicht-ionischen Perfluor-Tensids, sowie 0,5
bis 5 Gewichtsteile, vorzugsweise 2 bis 3 Gewichtsteile
eines ionischen Perfluor-Tensids. Werden weniger als 0,5
Gewichtsteile sowohl des nicht-ionischen als auch des
ionischen Perfluor-Tensids verwendet, so ist die anti
statische Zusammensetzung nicht in der Lage, wirksamen
Schutz vor statischer Aufladung zu bieten. Werden ande
rerseits mehr als 5 Gewichtsteile sowohl des nicht-ioni
schen als auch des ionischen Perfluor-Tensids verwendet,
so wird wenig zusätzlicher Schutz erzielt als im Ver
gleich zur Verwendung geringerer Mengen Tensid. Die Ver
wendung von mehr als 5 Gewichtsteilen beider Tenside
kann zudem auch Abriebfestigkeit, Transparenz und Adhä
sionseigenschaften der resultierenden antistatischen
Beschichtung negativ beeinflussen. Meistbevorzugt ist,
wenn das Gewichtsverhältnis von nicht-ionischem Per
fluor-Tensid zu ionischem Perfluor-Tensid etwa 1 ist.
Vorzugsweise umfaßt der Perfluor-Abschnitt des nicht-
ionischen und/oder des ionischen Perfluor-Tensids eine
lineare oder verzweigte Kohlenstoff-Kette mit 4 bis 16
Kohlenstoff-Atomen, vorzugsweise 8 Kohlenstoff-Atomen.
Meistbevorzugt ist es, wenn der Perfluor-Abschnitt des
nicht-ionischen Tensids und/oder des ionisches Perfluor-
Tensids C8F17 ist. Tests in der Praxis haben gezeigt,
daß nicht-ionische und/oder ionische Perfluor-Tenside,
worin der Perfluor-Abschnitt C8F17 ist, in Relation zu
anderen nicht-ionischen und/oder ionischen Perfluor-Ten
siden besseren Schutz vor statischer Aufladung bei ver
gleichbarer Gewichtsbelastung bieten. Meistbevorzugt
ist es, wenn der Perfluor-Abschnitt des nicht-ionischen
Perfluor-Tensids der gleiche ist wie der des ionischen
Perfluor-Tensids.
Zu den Beispielen für nicht-ionische Perfluor-Tenside,
die für die Praxis der vorliegenden Erfindung geeignet
sind, gehören
CnF2n+1CmH2mOH
CnF2n+1CH₂O(C₂H₄O)m′R′′
CnF2n+1CH₂O(C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′
CnR2n+1SO₂N(R) (C₂H₄O)m′R′′
CnF2n+1SO₂N(R)(C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′
CnF2n+1CON (R) (C₂H₄O]m′R′′
CnF2n+1CON(R) (C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′,
CnF2n+1CH₂O(C₂H₄O)m′R′′
CnF2n+1CH₂O(C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′
CnR2n+1SO₂N(R) (C₂H₄O)m′R′′
CnF2n+1SO₂N(R)(C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′
CnF2n+1CON (R) (C₂H₄O]m′R′′
CnF2n+1CON(R) (C₂H₄O)m′(C₃H₆O)m′′R′′,
worin
n 4 bis 16 ist, vorzugsweise 8;
m 1-20 ist, vorzugsweise 8;
m′ 1-20 ist, vorzugsweise 14;
m′′ 0-8 ist;
R Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, z. B. H, CH₃, CH₃CH₂ und dergleichen; und
R′′ Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, vorzugsweise H oder CH₂.
n 4 bis 16 ist, vorzugsweise 8;
m 1-20 ist, vorzugsweise 8;
m′ 1-20 ist, vorzugsweise 14;
m′′ 0-8 ist;
R Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, z. B. H, CH₃, CH₃CH₂ und dergleichen; und
R′′ Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, vorzugsweise H oder CH₂.
Zu den Beispielen für ionische Perfluor-Tenside, die für
die Praxis der vorliegenden Erfindung geeignet sind,
gehören
worin
n 4 bis 16 ist, vorzugsweise 8;
M Na⁺, Li⁺, K⁺, H⁺ oder NH₄⁺ ist, vorzugsweise Li⁺;
m 1-10 ist, vorzugsweise 8;
x 1-3 ist, vorzugsweise 1; und
R Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, z. B. H, CH₃, CH₃CH₂ und dergleichen.
n 4 bis 16 ist, vorzugsweise 8;
M Na⁺, Li⁺, K⁺, H⁺ oder NH₄⁺ ist, vorzugsweise Li⁺;
m 1-10 ist, vorzugsweise 8;
x 1-3 ist, vorzugsweise 1; und
R Wasserstoff oder Niederalkyl mit 1-12 C-Atomen ist, z. B. H, CH₃, CH₃CH₂ und dergleichen.
Vorzugsweise werden die antistatischen Zusammensetzungen
der vorliegenden Erfindung mit Hilfe der Rotationsbe
schichtungstechnik auf optische Aufzeichnungsmedien auf
gebracht, wie etwa die magnetooptische Aufzeichnungs
scheibe 10 von Fig. 1. Die Rotationsbeschichtung erlaubt
leichte und schnelle Bildung von äußerst gleichmäßigen
Hartbeschichtungsschichten mit einer Dicke von nur 0,5
bis 20µm, vorzugsweise 0,8 bis 10 pm, wobei 5 bis 7µm
mehr bevorzugt sind. Vorteilhafterweise sind derartige
Beschichtungen hinreichend dünn, so daß es nicht notwen
dig ist, den optischen Index der Hartbeschichtungs
schicht 22 mit dem optischen Index des transparenten
Substrats 14 abzustimmen.
Gemäß der Rotationsbeschichtungstechnik wird eine Mi
schung hergestellt, umfassend die nicht-fluorierten,
strahlungshärtbaren, copolymerisierbaren Präpolymere,
das nicht-ionische Perfluor-Tensid, das ionische Per
fluor-Tensid und gegebenenfalls ein geeignetes Lösungs
mittel. Der Einsatz eines Lösungsmittels ist nicht er
forderlich. Allerdings ist der Einsatz eines Lösungs
mittels wünschenswert, wenn die Tenside mit den Präpoly
meren nicht mischbar sind, d. h., Tenside und Prepolymere
zwei flüssige Phasen bilden, wenn sie zusammengegeben
werden. Zu den Beispielen für geeignete Lösungsmittel
gehören Methylalkohol, Isopropylalkohol, N-Vinyl-2-pyr
rolidon, Mischungen dieser Lösungsmittel und derglei
chen. Von diesen Lösungsmitteln wird eine Lösungsmittel
mischung aus 10 Volumenteilen Isopropylalkohol mit 1 Vo
lumenteil n-Butanol, oder Isopropylalkohol für sich al
leine bevorzugt. Vorzugsweise sollte die resultierende
Mischung eine ausreichende Menge an Lösungsmittel ein
schließen, so daß die Lösung eine Viskosität von
0,1 Pa·s (100 cP) oder weniger und bevorzugt etwa
5 mPa·s (5 cP) aufweist. Für die Praxis der vorliegenden
Erfindung hat sich herausgestellt, daß für Isopropyl
alkohol der Einsatz von 0,7 bis 1,5 g Lösungsmittel pro
Gramm gesamter nicht-ionischer und ionischer Perfluor-
Tenside im allgemeinen geeignet ist.
Vorzugsweise wird die Mischung hergestellt, indem zu
nächst das ionische Perfluor-Tensid mit dem Lösungsmit
tel - sofern vorhanden - vereinigt wird. Als nächstes
wird das nicht-ionische Perfluor-Tensid unter Rühren
zugegeben. Dann werden die nicht-fluorierten, strah
lungshärtbaren, copolymerisierbaren Präpolymere langsam
zugesetzt, und die Bestandteile werden für hinreichend
lange Zeit gerührt, um eine homogene Lösung zu erhalten.
Als geeignet erwiesen haben sich Rührzeiten von 30 min.
Nach dem Rühren sollte die Mischung wenigstens 1 h lang
stehengelassen werden, ehe sie verwendet wird.
Mit Hilfe eines herkömmlichen Rotationsbeschichtungsge
räts wird die Mischung auf das Substrat 14 der magneto
optischen Scheibe 10 gebracht. Solch ein Gerät umfaßt im
allgemeinen eine Verteilernadel, eine Spritze und eine
Pumpe. Vor der Rotationsbeschichtung wird die magneto
optische Scheibe mit ionisiertem Stickstoff vorgerei
nigt. Bei Mischungen mit einer Viskosität von 5 mPa·s
(5 cP) oder weniger bringt ein Nadeldruck von 34,47 bis
137,89 kPa (5 bis 20 psi) innerhalb 2 s eine geeignete
Menge der Mischung auf den Mittelpunkt einer Scheibe,
wenn sich die Scheibe mit 30 bis 50 U/min dreht. Vor
zugsweise wird ein dazwischengeschaltetes Filter (0,2
bis 2 pm) verwendet, um Teilchen aus der Mischung zu
entfernen, ehe die Mischung durch die Verteilernadel
gegeben wird. Nach dem Auftragen sorgt eine hohe Rota
tionsgeschwindigkeit von 1800 bis 2400 U/min über 3 bis
5 s für eine dünne, gleichmäßige Beschichtung. Ein Groß
teil des Lösungsmittels, sofern überhaupt verwendet,
wird im Laufe der Hochgeschwindigkeitsrotation abgetrie
ben. Die feuchte Beschichtung sollte unmittelbar danach
mit einer geeigneten Form von Strahlung, z. B. Ultraviolettstrahlung,
bei Raumtemperatur in einem mit einem
Absauggebläse ausgestatteten Ofen gehärtet werden. Typi
scherweise ist das Absauggebläse während des Härtens in
Betrieb, um niedrigsiedende, flüchtige Komponenten aus
dem Ofen zu entfernen.
Die im einzelnen verwendete Strahlungsquelle ist nicht
kritisch. Zum Beispiel wäre eine UV-Bogenlampe mittlerer
Intensität, die bei einer Wellenlänge von 280 bis 365 nm
und einer Energie von 200 bis 450 mJ/cm2 4 bis 6 s lang
arbeitet, für die Praxis der vorliegenden Erfindung ge
eignet. Wird die antistatische Zusammensetzung mit Lö
sungsmittel verwendet, ist es wünschenswert, die Scheibe
vor dem Härten einige Sekunden im Ofen bei eingeschalte
tem Absauggebläse setzen zu lassen, damit zusätzliches
Lösungsmittel sich verflüchtigen kann. Alternativ können
derartige Zusammensetzungen - relativ zu antistatischen
Zusammensetzungen, die nicht mit einem Lösungsmittel
kombiniert wurden - über längere Zeiten, z. B. weitere 2
bis 4 s, gehärtet werden.
Für Mischungen mit einer Viskosität von mehr als
35 mPa·s (35 cP) können die gleichen Parameter wie oben
beschrieben verwendet werden. Jedoch sollte die Lösung
vor der Beschichtung auf 50 bis 60°C vorgewärmt werden.
Vorzugsweise laufen Rotationsbeschichtung und/oder Här
ten unter Inertatmosphäre ab. Zum Beispiel kann eine
Atmosphäre verwendet werden, die 90% oder mehr Stick
stoff umfaßt.
Unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele soll die
Erfindung nun näher beschrieben werden.
Mehrere Zusammensetzungen (Proben 1-18) der vorliegenden
Erfindung wurden hergestellt durch Vereinigen eines
nicht-ionischen Perfluor-Tensids der Formel
eines ionischen Perfluor-Tensids der Formel
C₈F₁₇SO₃-Li⁺
und nicht-fluorierten, copolymerisierbaren, strahlungs
härtbaren Prepolymeren (TB3070M, eine Lösung von Pre
polymeren mit 30% Feststoffen, im Handel erhältlich von
Three Bond Chemical Company of America, Inc.) in Mengen
gemäß Tabelle I.
Zur Herstellung der Proben 1-18 wurden 40 g des ioni
schen Perfluor-Tensids unter Rühren langsam in 60 g Iso
propylalkohol gelöst, um eine 40%ige Lösung des ioni
schen Perfluor-Tensids zu liefern. Für jede Probe wurde
eine passende Menge dieser Lösung unter Rühren mit dem
nicht-ionischen Perfluor-Tensid vereinigt. Danach wurde
die 30%ige Feststoff-Lösung der Präpolymere mit den Ten
siden vereinigt, und die resultierende Mischung wurde
30 min lang gerührt. Die Probe wurde 1 h lang stehenge
lassen, wonach sie mit Hilfe einer Meyer Bar Nr. 3 auf
eine Polyethylenterephthalat-Folie aufgebracht wurde.
Die Beschichtung wurde 4 bis 5 s lang mit Hilfe von
Ultraviolettstrahlung einer Wellenlänge von 365 nm und
einer Energie von 240 mJ/cm gehärtet. Das Härten wurde
unter Stickstoff-Atmosphäre bei einer Temperatur im Be
reich von 50 bis 60°C vorgenommen.
Eine Probe (Probe 19) der vorliegenden Erfindung wurde
gemäß Beispiel 1, außer daß CF₃SO₃-Li⁺ anstelle von
C₈F₁₇SO₃-Li⁺ verwendet wurde, wie folgt hergestellt:
Eine Probe (Probe 20) der vorliegenden Erfindung wurde
gemäß Beispiel 1, außer daß C₄F₉SO₃-Li⁺ anstelle von
C₈F₁₇SO₃-Li⁺ verwendet wurde, wie folgt hergestellt:
Eine Probe (Probe 21) der vorliegenden Erfindung wurde
gemäß Beispiel 1, außer daß EX704 - eine 100% Feststoff
mischung aus nicht-fluorierten, copolymerisierbaren,
strahlungshärtbaren Präpolymeren, vertrieben durch
Dianippon Ink and Chemicals, Inc., Japan. - anstelle von
TB3070M verwendet wurde, wie folgt hergestellt:
Die Viskosität dieser Probe wurde mit Hilfe eines Brook
field-Viskosimeters mit UL-Adapter gemessen und bei 25°C
und einer Rotationsgeschwindigkeit von 12 U/min zu 43
bis 45 mPa·s (43 bis 45 cP) bestimmt.
5 g des nicht-ionischen Perfluor-Tensids von Beispiel 1
wurden unter Rühren langsam zu 300 g TB3070 gegeben. Die
Lösung wurde 1 h lang stehengelassen, ehe sie gemäß Bei
spiel 1 auf eine PET-Folie aufgebracht wurde.
40 g CF3SO3⁻Li⁺ wurden unter Rühren langsam in 60 g Iso
propylalkohol gelöst. 3,8 g dieser Lösung wurden dann
unter Rühren 100 g TB3070 zugesetzt. Die Lösung wurde
1 h lang stehengelassen, ehe sie gemäß Beispiel 1 auf
eine PET-Folie aufgebracht wurde.
Es wurde in gleicher Weise wie in Vergleichsbeispiel B
gearbeitet, außer daß C8F17SO3Li⁺ anstelle von
CF3SO3⁻Li⁺ verwendet wurde.
Es wurde in gleicher Weise wie in Vergleichsbeispiel B
gearbeitet, außer daß C4F9SO3⁻Li⁺ anstelle von
CF3SO3⁻Li⁺ verwendet wurde.
Es wurde in gleicher Weise wie in Beispiel B gearbeitet,
außer daß pro 100 Gewichtsteilen Präpolymer-Feststoffen
nur 0,25 Gewichtsteile eines jeden Tensids eingesetzt
wurden.
Die antistatischen Eigenschaften der Proben 1-21 wurden
mit den antistatischen Eigenschaften der Vergleichsbei
spiele A-E verglichen. Zusätzlich wurden auch die anti
statischen Eigenschaften einer PET-Folie, die lediglich
mit TB3070M (Vergleichsbeispiel F) beschichtet war, und
einer unbeschichteten PET-Folie (Vergleichsbeispiel G)
gemessen. Jede Probe wurde auf etwa 5000 V geladen, und
die Zeit in Sekunden für den Ladungsabfall bis auf 50 V
wurde gemessen. Diese Messungen wurden bei 25°C und 15%
relativer Luftfeuchtigkeit durchgeführt. Für die Messung
des Ladungsabfalls wurde ein ETS406C-Meßgerät, erhält
lich von Electro Tech System, Inc., verwendet. Jede
Probe hatte eine Größe von 8,89 cm mal 13,97 cm (3,5
inch mal 5,5 inch). Die Ergebnisse waren wie folgt:
Eine antistatische Zusammensetzung wurde hergestellt
durch langsames Auflösen von 40 g des ionischen Per
fluor-Tensids von Beispiel 1 in 60 g Isopropylalkohol
unter Rühren. Dann wurden der Isopropylalkohol-Lösung
unter Rühren 40 g des nicht-ionischen Perfluor-Tensids
von Beispiel 1 zugesetzt. Der Gesamtanteil der Perfluor-
Tenside in der Lösung belief sich auf etwa 57 Gew.-%.
Als nächstes wurden 8,7 g der Isopropylalkohol-Lösung
der Perfluor-Tenside langsam in 100 g EX704 gegeben. Zur
gründlichen Mischung wurde die Lösung auf einem Schüt
teltisch 30 min lang geschüttelt. Nach dem Schütteln
wurde die Lösung 1 h lang stehengelassen, ehe sie ver
wendet wurde.
Eine antistatische Zusammensetzung wurde hergestellt
durch langsames Auflösen von 40 g des ionischen Per
fluor-Tensids von Beispiel 1 in 60 g Isopropylalkohol
unter Rühren. Dann wurden der Isopropylalkohol-Lösung
unter Rühren 40 g des nicht-ionischen Perfluor-Tensids
von Beispiel 1 zugesetzt. Der Gesamtanteil der Perfluor-
Tenside in der Lösung belief sich auf etwa 57 Gew.-%.
Als nächstes wurden 8,7 g der Isopropylalkohol-Lösung
der Perfluor-Tenside langsam in 300 g TB3070M gegeben.
Zur gründlichen Mischung wurde die Lösung auf einem
Schütteltisch 30 min lang geschüttelt, und die Mi
schungslösung wurde 1 h lang stehengelassen, ehe sie
verwendet wurde.
Eine jede der Proben 22 und 23 wurde dann wie folgt
mittels Rotationsbeschichtung auf eine magnetooptische
Aufzeichnungsscheibe aufgebracht. Die magnetooptische
Aufzeichnungsscheibe wurde vor der Beschichtung mit
einem N2-Ionenstrahler vorgereinigt. Die Probe wurde
dann mittels Rotationsbeschichtung auf die Polycarbonat-
Seite der magnetooptischen Aufzeichnungsscheibe bei ge
ringem Luftdruck (34,47 bis 137,89 kPa (5 bis 20 psi)
aufgebracht unter Verwendung eines Nadelverteilersystems
und eines dazwischengeschalteten Filters (0,2 bis 2µm).
Die Probe wurde bei geringer Umdrehungszahl (30 bis
50 U/min) auf den Mittelpunkt der Scheibe gebracht, und
zur Erzielung einer glatten, gleichmäßigen Beschichtung
wurde danach eine hohe Abdrehgeschwindigkeit (1800 bis
2400 U/min) eingesetzt. Die beschichtete Scheibe wurde
dann durch UV-Licht (365 nm) geringer Intensität unter
einer Stickstoff-Atmosphäre gehärtet. Probe 22 hatte bei
Raumtemperatur eine relativ hohe Viskosität und wurde
vor der Rotationsbeschichtung auf 50 bis 60°C erwärmt.
Zu Vergleichszwecken wurden zwei weitere Scheiben je
weils nur mit EX704 (Vergleichsbeispiel I) bzw. TB3070
(Vergleichsbeispiel J) mit Hilfe des Rotationsbeschich
tungsverfahrens beschichtet. Bei den Vergleichsbeispie
len I und J wurden keine Perfluor-Tenside verwendet.
Eine jede der mit diesen Proben (22, 23, I und J) be
schichteten Scheiben wurde in einer Kammer bei 80°C und
85% relativer Luftfeuchtigkeit gealtert. Alle 500 Stun
den wurden die Scheiben herausgenommen und auf Byte-
Fehlerquote geprüft, indem statistisch 5% der Gesamt
speicherkapazität einer jeden Scheibe geprüft wurden.
Auch wurden die Disks vor der Alterung und 1500 h nach
der Alterung auf Abriebfestigkeit geprüft sowie visuell
auf Trübung und Delaminierung untersucht: Die Ergebnisse
der Byte-Fehlerquotenprüfung waren wie folgt:
Die Ergebnisse der Abriebfestigkeitsprüfung und der
visuellen Untersuchung waren wie folgt:
Weitere Ausführungsformen werden Fachleuten aus einer
Betrachtung dieser Patentschrift oder aus der Praxis der
hierin offenbarten Erfindung klar werden. Der Fachmann
kann an den hierin beschriebenen Grundlagen verschiedene
Weglassungen, Modifizierungen und Änderungen vornehmen,
ohne von wahrem Umfang und Geist der Erfindung, bezeich
net durch die folgenden Patentansprüche, abzuweichen.
Claims (8)
1. Antistatische Zusammensetzung, umfassend:
- a) 100 Gewichtsteile eines nicht-fluorierten, copoly merisierbaren, strahlungshärtbaren Präpolymers;
- b) 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines nicht-ionischen Perfluor-Tensids; und
- c) 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines ionischen Perfluor Tensids.
2. Antistatische Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei das
Gewichtsverhältnis von nicht-ionischem Perfluor-Tensid
zu ionischem Perfluor-Tensid etwa 1 ist.
3. Antistatische Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei das
ionische Perfluor-Tensid einen Perfluor-Abschnitt auf
weist, der der gleiche ist wie der Perfluor-Abschnitt
des nicht-ionischen Perfluor-Tensids.
4. Antistatische Zusammensetzung nach Anspruch 3, wobei der
Perfluor-Abschnitt beider Tenside C8F17 ist.
5. Optische Aufzeichnungsscheibe, die auf wenigstens einer
Seite mit einer abriebfesten, transparenten, antistati
schen Hartbeschichtungsschicht versehen ist, wobei es
sich bei der Hartbeschichtungsschicht um eine gehärtete
Zusammensetzung handelt, erhältlich aus Bestandteilen,
umfassend:
- a) 100 Gewichtsteile eines nicht-fluorierten, copoly merisierbaren, strahlungshärtbaren Prapolymers;
- b) 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines nicht-ionischen Perfluor-Tensids; und
- c) 0,5 bis 5,0 Gewichtsteile eines ionischen Perfluor- Tensids.
6. Optische Aufzeichnungsscheibe nach Anspruch 5, wobei das
ionische Perfluor-Tensid einen Perfluor-Abschnitt auf
weist, der der gleiche ist wie der Perfluor-Abschnitt
des nicht-ionischen Perfluor-Tensids.
7. Optische Aufzeichnungsscheibe nach Anspruch 6, wobei der
Perfluor-Gruppe beider Tenside C8F17 ist.
8. Optische Aufzeichnungsscheibe nach Anspruch 5, wobei das
Gewichtsverhältnis von nicht-ionischem Perfluor-Tensid
zu ionischem Perfluor-Tensid etwa 1 : 1 ist.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |