JPH05213922A - ラクトン誘導体の新規製造方法 - Google Patents
ラクトン誘導体の新規製造方法Info
- Publication number
- JPH05213922A JPH05213922A JP4023999A JP2399992A JPH05213922A JP H05213922 A JPH05213922 A JP H05213922A JP 4023999 A JP4023999 A JP 4023999A JP 2399992 A JP2399992 A JP 2399992A JP H05213922 A JPH05213922 A JP H05213922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- lactone derivative
- general formula
- derivative
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヒドロキシカルボン酸誘導体から、温和な条
件下で、効率的にラクトン誘導体を製造する方法を提供
する。 【構成】 ヒドロキシカルボン酸又はシリルオキシカル
ボン酸シリルエステル誘導体から、ラクトン誘導体を製
造する際に、一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物を触媒量のカチオン
性触媒の存在下に反応させることを特徴とするラクトン
誘導体の製造方法。
件下で、効率的にラクトン誘導体を製造する方法を提供
する。 【構成】 ヒドロキシカルボン酸又はシリルオキシカル
ボン酸シリルエステル誘導体から、ラクトン誘導体を製
造する際に、一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物を触媒量のカチオン
性触媒の存在下に反応させることを特徴とするラクトン
誘導体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はラクトン誘導体の新規な
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ラクトン骨格を有する生理活性物質とし
ては、エリスロマイシン等のマクロライド系抗生物質を
初めとして、数多くの物質が知られており、ラクトン化
合物の合成反応は、有機合成上極めて重要な反応であ
る。
ては、エリスロマイシン等のマクロライド系抗生物質を
初めとして、数多くの物質が知られており、ラクトン化
合物の合成反応は、有機合成上極めて重要な反応であ
る。
【０００３】従来、ラクトン誘導体を合成する方法とし
ては以下に示す方法が一般的である。
ては以下に示す方法が一般的である。
【０００４】即ち、（１）分子内エステル結合生成によ
る閉環法、（２）すでにエステル結合を有する鎖状化合
物の炭素−炭素結合生成による閉環法、並びに（３）環
拡大による方法等であり、特に（１）の分子内エステル
結合生成による閉環法は、近年最も著しい進歩を遂げた
方法である。
る閉環法、（２）すでにエステル結合を有する鎖状化合
物の炭素−炭素結合生成による閉環法、並びに（３）環
拡大による方法等であり、特に（１）の分子内エステル
結合生成による閉環法は、近年最も著しい進歩を遂げた
方法である。
【０００５】しかし、ラクトン骨格を有する生理活性物
質は様々な官能基を併せ持つことが多く、より温和な条
件で、より簡便で効率的なラクトン合成法が医薬品合成
上からも望まれている。
質は様々な官能基を併せ持つことが多く、より温和な条
件で、より簡便で効率的なラクトン合成法が医薬品合成
上からも望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】本発明の目的は、ヒ
ドロキシカルボン酸誘導体から、より温和な条件下で、
効率的にラクトン誘導体を製造する方法を提供すること
にある。
ドロキシカルボン酸誘導体から、より温和な条件下で、
効率的にラクトン誘導体を製造する方法を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ヒドロキシカ
ルボン酸誘導体からラクトン誘導体を製造する際に、一
般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物を触媒量のカチオン
性触媒の存在下に反応させることにより、温和な条件下
で、効率的にラクトン誘導体を製造できることを見出
し、発明を完成した。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ヒドロキシカ
ルボン酸誘導体からラクトン誘導体を製造する際に、一
般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物を触媒量のカチオン
性触媒の存在下に反応させることにより、温和な条件下
で、効率的にラクトン誘導体を製造できることを見出
し、発明を完成した。
【０００８】したがって、本発明は、一般式（１） Ｚ−Ｏ−Ａ−ＣＯＯ−Ｚ （１） （式中、Ａは、置換基を有していてもよく、不飽和結合
を有していてもよいアルキレン基を、Ｚは水素又はＳｉ
（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）を示し、Ｒ1、Ｒ2 、Ｒ3は同一
又は相異なる低級アルキル基を示す）で表されるヒドロ
キシカルボン酸誘導体と、一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物とを、触媒量のカチ
オン性触媒の存在下に反応させることを特徴とするラク
トン誘導体の製造方法に関する。
を有していてもよいアルキレン基を、Ｚは水素又はＳｉ
（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）を示し、Ｒ1、Ｒ2 、Ｒ3は同一
又は相異なる低級アルキル基を示す）で表されるヒドロ
キシカルボン酸誘導体と、一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物とを、触媒量のカチ
オン性触媒の存在下に反応させることを特徴とするラク
トン誘導体の製造方法に関する。
【０００９】即ち、触媒量のカチオン性触媒の存在下
に、一般式（１） Ｚ−Ｏ−Ａ−ＣＯＯ−Ｚ （１） （式中、Ａ、Ｚは前記と同一）で表されるヒドロキシカ
ルボン酸誘導体と一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ４は前記と同一）で表されるカルボン酸無水
物とを、アセトニトリル、エーテル、１，２−ジクロル
エタン、ベンゼン、トルエン、ジクロルメタン等の反応
に関与しない溶媒中、０〜５０℃、好ましくは１０〜３
０℃で反応させることにより対応するラクトン誘導体
（３）
に、一般式（１） Ｚ−Ｏ−Ａ−ＣＯＯ−Ｚ （１） （式中、Ａ、Ｚは前記と同一）で表されるヒドロキシカ
ルボン酸誘導体と一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ４は前記と同一）で表されるカルボン酸無水
物とを、アセトニトリル、エーテル、１，２−ジクロル
エタン、ベンゼン、トルエン、ジクロルメタン等の反応
に関与しない溶媒中、０〜５０℃、好ましくは１０〜３
０℃で反応させることにより対応するラクトン誘導体
（３）
【００１０】
【化１】
【００１１】（式中、Ａは前記と同一）を高収率で得る
ことができる。
ことができる。
【００１２】ここで、一般式（１）中のＡの置換基は基
本的にはいかなる置換基でもよく、一般にラクトン化反
応が困難とされている置換基を有するものでも本発明方
法によればラクトン化が可能である。また、不飽和結合
を有していてもよい。
本的にはいかなる置換基でもよく、一般にラクトン化反
応が困難とされている置換基を有するものでも本発明方
法によればラクトン化が可能である。また、不飽和結合
を有していてもよい。
【００１３】一般式（１）においてＺは水素であること
も可能だが、Ｚが置換シリル基である場合が好ましく、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、炭素数１〜６の低級アルキル基で、
例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等が好まし
い。
も可能だが、Ｚが置換シリル基である場合が好ましく、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、炭素数１〜６の低級アルキル基で、
例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等が好まし
い。
【００１４】また、一般式（２）のＲ4は、電子吸引性
基を有するアリール基が好ましく、特にフッ素原子、塩
素原子等のハロゲン原子、トリクロルメチル基、トリフ
ルオロメチル基等のハロゲン置換低級アルキル基等で置
換されたフェニル基が好ましい。
基を有するアリール基が好ましく、特にフッ素原子、塩
素原子等のハロゲン原子、トリクロルメチル基、トリフ
ルオロメチル基等のハロゲン置換低級アルキル基等で置
換されたフェニル基が好ましい。
【００１５】また、カチオン性触媒とは、四塩化チタ
ン、塩化ハフニウム、塩化ジルコニウム、塩化アルミニ
ウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、塩化鉄、塩化ス
ズ(II)等の各種ルイス酸、又は過塩素酸銀、トリフルオ
ロメタンスルホン酸銀等の銀塩と各種ルイス酸との複合
塩、及びトリフルオロメタンスルホン酸スズ(II)等が好
ましく、基質である一般式（１）のヒドロキシカルボン
酸誘導体の０．０１〜１００モル％使用することが好ま
しい。０．０１モル％以下では充分な触媒効果が得られ
ず、１００モル％以上加えても触媒効果に変わりはな
く、製造コストが嵩むだけである。
ン、塩化ハフニウム、塩化ジルコニウム、塩化アルミニ
ウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、塩化鉄、塩化ス
ズ(II)等の各種ルイス酸、又は過塩素酸銀、トリフルオ
ロメタンスルホン酸銀等の銀塩と各種ルイス酸との複合
塩、及びトリフルオロメタンスルホン酸スズ(II)等が好
ましく、基質である一般式（１）のヒドロキシカルボン
酸誘導体の０．０１〜１００モル％使用することが好ま
しい。０．０１モル％以下では充分な触媒効果が得られ
ず、１００モル％以上加えても触媒効果に変わりはな
く、製造コストが嵩むだけである。
【００１６】一般式（１）でＺが置換シリル基である化
合物は、対応するヒドロキシカルボン酸より通常良く知
られた方法により製造することができ、得られたシリル
化合物は単離する事なく、本発明方法に使用することが
できる。
合物は、対応するヒドロキシカルボン酸より通常良く知
られた方法により製造することができ、得られたシリル
化合物は単離する事なく、本発明方法に使用することが
できる。
【００１７】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明方法の有用性を
示すが、本発明は実施例に限定されるものではない。
示すが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００１８】実施例１ ε−カプロラクトンの製造
【００１９】
【化２】
【００２０】アルゴン気流下、過塩素酸銀（２４．４ｍ
ｇ）を２ｍｌのジクロルメタンに懸濁させ、室温にて四
塩化チタンのトルエン溶液０．１１７７ｍｌ（０．５モ
ル濃度）を加え、同温度で０．５時間撹拌した。これに
室温にてトリメチルシリルオキシヘキサン酸トリメチル
シリルエステル（９０．８ｍｇ）及び４−トリフルオロ
メチル安息香酸無水物（１０８．４ｍｇ）及びジクロル
メタン４ｍｌの混液をゆっくり（５分間）加えて、同温
度で３時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えた後、
ジクロルメタンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝３：１）にて精製し、目的物（２４．６ｍｇ、収率７
１％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ標準） δＰＰＭ： ４．２５〜４．２２（２Ｈ，ｍ）、２．６７〜２．６３
（２Ｈ，ｍ）、１．８７〜１．７５（６Ｈ，ｍ）
ｇ）を２ｍｌのジクロルメタンに懸濁させ、室温にて四
塩化チタンのトルエン溶液０．１１７７ｍｌ（０．５モ
ル濃度）を加え、同温度で０．５時間撹拌した。これに
室温にてトリメチルシリルオキシヘキサン酸トリメチル
シリルエステル（９０．８ｍｇ）及び４−トリフルオロ
メチル安息香酸無水物（１０８．４ｍｇ）及びジクロル
メタン４ｍｌの混液をゆっくり（５分間）加えて、同温
度で３時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えた後、
ジクロルメタンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝３：１）にて精製し、目的物（２４．６ｍｇ、収率７
１％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ標準） δＰＰＭ： ４．２５〜４．２２（２Ｈ，ｍ）、２．６７〜２．６３
（２Ｈ，ｍ）、１．８７〜１．７５（６Ｈ，ｍ）
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明方法によればヒド
ロキシカルボン酸誘導体から、温和な条件下に、高収率
でラクトン誘導体を製造することが可能である。
ロキシカルボン酸誘導体から、温和な条件下に、高収率
でラクトン誘導体を製造することが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 313/04 7729−4Ｃ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１） Ｚ−Ｏ−Ａ−ＣＯＯ−Ｚ （１） （式中、Ａは、置換基を有していてもよく、不飽和結合
を有していてもよいアルキレン基を、Ｚは水素又はＳｉ
（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）を示し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は同一又
は相異なる低級アルキル基を示す）で表されるヒドロキ
シカルボン酸誘導体と一般式（２） （Ｒ4ＣＯ）2Ｏ （２） （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアリール基を
示す）で表されるカルボン酸無水物とを触媒量のカチオ
ン性触媒の存在下に反応させることを特徴とするラクト
ン誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（２）におけるＲ4が４−フルオ
ロフェニル基である請求項１記載のラクトン誘導体の製
造方法。 - 【請求項３】 一般式（２）におけるＲ4が４−トリフ
ルオロメチルフェニル基である請求項１記載のラクトン
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04023999A JP3135658B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | ラクトン誘導体の新規製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04023999A JP3135658B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | ラクトン誘導体の新規製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05213922A true JPH05213922A (ja) | 1993-08-24 |
| JP3135658B2 JP3135658B2 (ja) | 2001-02-19 |
Family
ID=12126279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04023999A Expired - Fee Related JP3135658B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | ラクトン誘導体の新規製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3135658B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107118199A (zh) * | 2017-06-09 | 2017-09-01 | 中山大学惠州研究院 | 一种萃取提纯ε‑己内酯的方法 |
| CN107129483A (zh) * | 2017-06-09 | 2017-09-05 | 中山大学惠州研究院 | 一种结晶提纯ε‑己内酯的方法 |
-
1992
- 1992-02-10 JP JP04023999A patent/JP3135658B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107118199A (zh) * | 2017-06-09 | 2017-09-01 | 中山大学惠州研究院 | 一种萃取提纯ε‑己内酯的方法 |
| CN107129483A (zh) * | 2017-06-09 | 2017-09-05 | 中山大学惠州研究院 | 一种结晶提纯ε‑己内酯的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3135658B2 (ja) | 2001-02-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH089608B2 (ja) | α，β−不飽和ケトラクトンの製造法 | |
| CA2205745C (en) | Method for the preparation of baccatin iii and derivatives thereof from 10-deacetylbaccatin iii | |
| US6002021A (en) | Process for preparing 6(R)-{2-8'(S)-2",2"-dimethylbutyryloxy-2'(S)-6'(R)-dimethyl-1',2',6'7',8' 8'A(R)-hexahydronapthyl-1'(S)-ethyl}-4(R)-hydroxy-3,4,5,6-tetrahydro-2H- pyran-2-one | |
| JP3135658B2 (ja) | ラクトン誘導体の新規製造方法 | |
| JP2992314B2 (ja) | アリル基の除去方法 | |
| JP3298929B2 (ja) | カルボン酸エステル又はカルボン酸チオエステルの新規製造方法 | |
| JP2003286244A (ja) | Ｎ−フェニルビス（トリフルオロメタンスルホンイミド）の製造方法 | |
| SU1277897A3 (ru) | Способ получени 1,1-диоксо-6-бром(или-6,6-дибром)пеницилланоилоксиметиловых эфиров 6-(2-азидо-2-фенилацетамидо)пенициллановой кислоты | |
| JP3829273B2 (ja) | 光学活性なフラバノン及びクロマノン類の製造法 | |
| JPH05148293A (ja) | 新規カプラマイシン誘導体およびその製造方法 | |
| JP3279801B2 (ja) | カルボン酸エステルの新規製造方法 | |
| JPH07247279A (ja) | ラクトン誘導体の新規製造方法 | |
| KR20030031433A (ko) | 베타-케토에스테르 화합물의 제조방법 | |
| KR100395231B1 (ko) | 메틸 7-(3-하이드록시-5-옥소-1-사이클로펜텐-1-일)헵타노에이트 | |
| JP3953141B2 (ja) | ５−メチル−１，４−ベンゾジオキサン−６−カルボン酸類及びその新規中間体の製法 | |
| KR910006981B1 (ko) | 록사티딘 카르복실레이트 염산염의 새로운 제조방법 | |
| JP2581186B2 (ja) | ４−置換−２−シクロペンテノンエステル誘導体の製造法 | |
| KR100645373B1 (ko) | 세 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물과 이의 제조방법 | |
| JPS61293979A (ja) | ３−置換−２−ホルミルチオフエン化合物の製造方法 | |
| JPH0460591B2 (ja) | ||
| JPH0967292A (ja) | ベンズアルデヒド誘導体の製造方法 | |
| JPH03127780A (ja) | アニリノピリミジン誘導体 | |
| JPH0527617B2 (ja) | ||
| JPH0789891A (ja) | ヒドロキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 | |
| JPS63130578A (ja) | 有機セレン化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071201 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081201 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081201 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091201 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |