JPH05209624A - 半導体製造設備用滑り軸受 - Google Patents
半導体製造設備用滑り軸受Info
- Publication number
- JPH05209624A JPH05209624A JP1643792A JP1643792A JPH05209624A JP H05209624 A JPH05209624 A JP H05209624A JP 1643792 A JP1643792 A JP 1643792A JP 1643792 A JP1643792 A JP 1643792A JP H05209624 A JPH05209624 A JP H05209624A
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- JP
- Japan
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- film
- lubricating film
- molecular weight
- lubricating
- ptfe
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 平均分子量が５０００以下のＰＴＦＥからな
る潤滑皮膜の優れた特性を滑り軸受においても発揮させ
る。 【構成】 軸受部品１の摺動面１ａには多数の微小なく
ぼみ３がアトランダムに形成され、さらに潤滑皮膜２が
島状に形成されている。くぼみ３の形状は母材内部に向
いたくさび状をなしている。潤滑皮膜２は相手面５から
荷重を受けると、くぼみ３の近傍の皮膜部分２ａがくぼ
み３に深く入り込む。そして、相手面５との摺動接触に
よって潤滑皮膜２が滑り摩擦力を受けた場合には、くぼ
み３に深く入り込んだ皮膜部分２ａが一種のアンカーと
なって潤滑皮膜２を摺動面１ａに保持する。
る潤滑皮膜の優れた特性を滑り軸受においても発揮させ
る。 【構成】 軸受部品１の摺動面１ａには多数の微小なく
ぼみ３がアトランダムに形成され、さらに潤滑皮膜２が
島状に形成されている。くぼみ３の形状は母材内部に向
いたくさび状をなしている。潤滑皮膜２は相手面５から
荷重を受けると、くぼみ３の近傍の皮膜部分２ａがくぼ
み３に深く入り込む。そして、相手面５との摺動接触に
よって潤滑皮膜２が滑り摩擦力を受けた場合には、くぼ
み３に深く入り込んだ皮膜部分２ａが一種のアンカーと
なって潤滑皮膜２を摺動面１ａに保持する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造設備に使用
される滑り軸受に関する。
される滑り軸受に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備に使用される軸受は、高
い清浄度が要求される密封真空下で運転されるため、そ
の潤滑には、一般に、二硫化モリブデン等の層状物質、
金、銀、鉛等の軟質金属、ＰＴＦＥ、ポリイミド等の高
分子材料などの固体潤滑剤が用いられている。
い清浄度が要求される密封真空下で運転されるため、そ
の潤滑には、一般に、二硫化モリブデン等の層状物質、
金、銀、鉛等の軟質金属、ＰＴＦＥ、ポリイミド等の高
分子材料などの固体潤滑剤が用いられている。
【０００３】ところで、近年、半導体製造分野では半導
体の集積度が増すにつれて回路パターンの線幅が微細化
しており、軸受から排出される固体潤滑剤の摩耗粉がパ
ターン上に付着すると種々の弊害を引き起こす可能性が
あることから、固体潤滑剤の特性として、本来の潤滑性
・耐久性の他に、特に低発塵性を要求するようになって
きている。
体の集積度が増すにつれて回路パターンの線幅が微細化
しており、軸受から排出される固体潤滑剤の摩耗粉がパ
ターン上に付着すると種々の弊害を引き起こす可能性が
あることから、固体潤滑剤の特性として、本来の潤滑性
・耐久性の他に、特に低発塵性を要求するようになって
きている。
【０００４】このような現状に鑑み、本出願人は、転が
り軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦また
は滑り摩擦を生ずる表面に、平均分子量が５０００以下
のポリテトラフルオロエチレン（以下、簡単のため、低
分子量ＰＴＦＥと略記する。）からなる潤滑皮膜を形成
した固体潤滑転がり軸受について既に出願している（特
願平３−１９０１５０号等）。従来より、軸受の固体潤
滑剤として用いられているＰＴＦＥは平均分子量が１×
１０5 以上、主に、１×１０6〜１×１０7のものである
が、低分子量ＰＴＦＥを用いて潤滑皮膜を形成すること
により、潤滑性、耐久性、低発塵性等に優れた潤滑皮膜
を得ることができることを上記出願において示した。こ
れらの効果は、低分子量ＰＴＦＥが、従来より固体潤滑
剤として用いられているＰＴＦＥに比べて、剪断強度が
著しく小く、また、転着性に優れていることによるもの
であった。さらに、本出願人は平均分子量が１０００〜
３０００のＰＴＦＥからなる連続した島状分布の固体潤
滑皮膜を形成した半導体製造設備用転がり軸受について
出願し、この出願において、上記ＰＴＦＥの固体潤滑皮
膜を島状分布とすることにより、軸受の低発塵性がさら
に向上することを示した。
り軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦また
は滑り摩擦を生ずる表面に、平均分子量が５０００以下
のポリテトラフルオロエチレン（以下、簡単のため、低
分子量ＰＴＦＥと略記する。）からなる潤滑皮膜を形成
した固体潤滑転がり軸受について既に出願している（特
願平３−１９０１５０号等）。従来より、軸受の固体潤
滑剤として用いられているＰＴＦＥは平均分子量が１×
１０5 以上、主に、１×１０6〜１×１０7のものである
が、低分子量ＰＴＦＥを用いて潤滑皮膜を形成すること
により、潤滑性、耐久性、低発塵性等に優れた潤滑皮膜
を得ることができることを上記出願において示した。こ
れらの効果は、低分子量ＰＴＦＥが、従来より固体潤滑
剤として用いられているＰＴＦＥに比べて、剪断強度が
著しく小く、また、転着性に優れていることによるもの
であった。さらに、本出願人は平均分子量が１０００〜
３０００のＰＴＦＥからなる連続した島状分布の固体潤
滑皮膜を形成した半導体製造設備用転がり軸受について
出願し、この出願において、上記ＰＴＦＥの固体潤滑皮
膜を島状分布とすることにより、軸受の低発塵性がさら
に向上することを示した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近時、半導体製造分野
においては、製造設備のインライン化、コンパクト化の
傾向が顕著であり、軸受を高荷重下で使用したい、軸受
スペースの縮小化を図りたいという要望が強い。このよ
うな場合、軸受として滑り軸受を用いることによって対
応することが可能である。
においては、製造設備のインライン化、コンパクト化の
傾向が顕著であり、軸受を高荷重下で使用したい、軸受
スペースの縮小化を図りたいという要望が強い。このよ
うな場合、軸受として滑り軸受を用いることによって対
応することが可能である。
【０００６】しかしながら、滑り軸受の摺動面には相手
面との接触による滑り摩擦が発生するため、単に、摺動
面に潤滑皮膜を形成しただけでは、潤滑皮膜がこの摩擦
力によって摺動面から掻き取られ、局部的脱落、早期摩
耗等をおこし、潤滑不良、発塵量の増大といった弊害が
生じる。上述したように、低分子量ＰＴＦＥの潤滑皮膜
は潤滑性、低発塵性に優れたものであるが、従来、この
ような理由によって、滑り軸受に対してはその本来の優
れた特性を発揮させることが困難であり、期待する効果
が得られていないのが実状である。
面との接触による滑り摩擦が発生するため、単に、摺動
面に潤滑皮膜を形成しただけでは、潤滑皮膜がこの摩擦
力によって摺動面から掻き取られ、局部的脱落、早期摩
耗等をおこし、潤滑不良、発塵量の増大といった弊害が
生じる。上述したように、低分子量ＰＴＦＥの潤滑皮膜
は潤滑性、低発塵性に優れたものであるが、従来、この
ような理由によって、滑り軸受に対してはその本来の優
れた特性を発揮させることが困難であり、期待する効果
が得られていないのが実状である。
【０００７】本発明は、低分子量ＰＴＦＥからなる潤滑
皮膜の優れた特性を滑り軸受においても発揮させること
により、近時の半導体製造分野における製造設備のイン
ライン化、コンパクト化等に対応しようとするものであ
る。
皮膜の優れた特性を滑り軸受においても発揮させること
により、近時の半導体製造分野における製造設備のイン
ライン化、コンパクト化等に対応しようとするものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造設備
用滑り軸受は、滑り軸受を構成する部品のうち少なくと
も滑り摩擦を生ずる表面に多数の微小なくぼみを形成す
ると共に、この表面に、平均分子量が５０００以下のポ
リテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成した
ことを特徴とする。
用滑り軸受は、滑り軸受を構成する部品のうち少なくと
も滑り摩擦を生ずる表面に多数の微小なくぼみを形成す
ると共に、この表面に、平均分子量が５０００以下のポ
リテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成した
ことを特徴とする。
【０００９】
【作用】低分子量ＰＴＦＥを用いて潤滑皮膜を形成する
ことにより、潤滑性、低発塵性に優れた潤滑皮膜を得る
ことができる。この潤滑皮膜は相手面との接触による摩
擦力によって皮膜形成面から削り取られ潤滑粉となる。
この潤滑粉は相手面等に転着して再び潤滑皮膜を形成す
る。このように、潤滑皮膜は剥離・転着を繰り返しなが
ら潤滑作用をなす。
ことにより、潤滑性、低発塵性に優れた潤滑皮膜を得る
ことができる。この潤滑皮膜は相手面との接触による摩
擦力によって皮膜形成面から削り取られ潤滑粉となる。
この潤滑粉は相手面等に転着して再び潤滑皮膜を形成す
る。このように、潤滑皮膜は剥離・転着を繰り返しなが
ら潤滑作用をなす。
【００１０】一方、滑り軸受の場合は摺動面に滑り摩擦
が発生し、これにより潤滑皮膜に大きな剪断力が作用す
るため、潤滑皮膜の剥離を潤滑に必要な限度にとどめる
ための手段が必要となる。本発明の滑り軸受は、多数の
微小なくぼみが形成されており、潤滑皮膜が相手面から
の荷重を受けると、その一部がくぼみのなかに深く入り
こみ、この入り込んだ皮膜部分がアンカー効果によって
潤滑皮膜の必要以上の剥離を防止するのである。
が発生し、これにより潤滑皮膜に大きな剪断力が作用す
るため、潤滑皮膜の剥離を潤滑に必要な限度にとどめる
ための手段が必要となる。本発明の滑り軸受は、多数の
微小なくぼみが形成されており、潤滑皮膜が相手面から
の荷重を受けると、その一部がくぼみのなかに深く入り
こみ、この入り込んだ皮膜部分がアンカー効果によって
潤滑皮膜の必要以上の剥離を防止するのである。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００１２】図１に示すように、本発明の滑り軸受は、
筒状の軸受部品１の表面に平均分子量が５０００以下の
ＰＴＦＥ（以下、低分子量ＰＴＦＥと略記する。）から
なる潤滑皮膜２を形成したものである。潤滑皮膜２は、
低分子量ＰＴＦＥ（例えば、日本アチソン製ＡＲＣ７）
を、２５ｃｍ離れた位置から皮膜形成面にスプレーして
付着させたもので、この場合の平均皮膜厚さは０．６μ
ｍ程度であった。ただし、同図では皮膜厚さをかなり誇
張してある。低分子量ＰＴＦＥの皮膜コーティング法と
しては、上記スプレー法による他、浸漬法等がある。
尚、同図では軸受部品１の外表面全体に潤滑皮膜２が形
成されているが、図２に示すように、潤滑皮膜２は少な
くとも摺動面１ａに形成すれば良く、嵌合面等の潤滑皮
膜が本来不要な部分については、マスキングによって皮
膜処理を施さない、あるいは、最終製品となる前に除去
するようにすると良い。
筒状の軸受部品１の表面に平均分子量が５０００以下の
ＰＴＦＥ（以下、低分子量ＰＴＦＥと略記する。）から
なる潤滑皮膜２を形成したものである。潤滑皮膜２は、
低分子量ＰＴＦＥ（例えば、日本アチソン製ＡＲＣ７）
を、２５ｃｍ離れた位置から皮膜形成面にスプレーして
付着させたもので、この場合の平均皮膜厚さは０．６μ
ｍ程度であった。ただし、同図では皮膜厚さをかなり誇
張してある。低分子量ＰＴＦＥの皮膜コーティング法と
しては、上記スプレー法による他、浸漬法等がある。
尚、同図では軸受部品１の外表面全体に潤滑皮膜２が形
成されているが、図２に示すように、潤滑皮膜２は少な
くとも摺動面１ａに形成すれば良く、嵌合面等の潤滑皮
膜が本来不要な部分については、マスキングによって皮
膜処理を施さない、あるいは、最終製品となる前に除去
するようにすると良い。
【００１３】図３に拡大して示すように、軸受部品１の
摺動面１ａには多数の微小なくぼみ３がアトランダムに
形成され、さらに潤滑皮膜２が島状に形成されている。
このくぼみ３は摺動面１ａにバレル加工等を施して形成
したもので、その深さは最大で約１．０〜２．０μｍ程
度であり、その形状は母材内部に向いたくさび状をなし
ている。同図ｂに示すように、潤滑皮膜２は相手面５か
ら荷重を受けると、くぼみ３の近傍の皮膜部分２ａがく
ぼみ３に深く入り込む。そして、相手面５との摺動接触
によって潤滑皮膜２が滑り摩擦力を受けた場合には、く
ぼみ３に深く入り込んだ皮膜部分２ａが一種のアンカー
となって潤滑皮膜２を摺動面１ａに保持する。したがっ
て、潤滑皮膜２は比較的大きな滑り摩擦力を受けても摺
動面１ａから容易に脱落することがなく、その良好な潤
滑性、低発塵性を発揮する。また、同図ｃに示すよう
に、潤滑皮膜２の表面から削り取られた潤滑粉２ｂは、
島２ｃと島２ｃとの間の母材部分に捕捉され、その部分
に転着皮膜２ｄを形成する。この転着皮膜２ｄにも、同
様に、くぼみ３のアンカー効果が及び、摺動面１ａから
容易に脱落することがない。
摺動面１ａには多数の微小なくぼみ３がアトランダムに
形成され、さらに潤滑皮膜２が島状に形成されている。
このくぼみ３は摺動面１ａにバレル加工等を施して形成
したもので、その深さは最大で約１．０〜２．０μｍ程
度であり、その形状は母材内部に向いたくさび状をなし
ている。同図ｂに示すように、潤滑皮膜２は相手面５か
ら荷重を受けると、くぼみ３の近傍の皮膜部分２ａがく
ぼみ３に深く入り込む。そして、相手面５との摺動接触
によって潤滑皮膜２が滑り摩擦力を受けた場合には、く
ぼみ３に深く入り込んだ皮膜部分２ａが一種のアンカー
となって潤滑皮膜２を摺動面１ａに保持する。したがっ
て、潤滑皮膜２は比較的大きな滑り摩擦力を受けても摺
動面１ａから容易に脱落することがなく、その良好な潤
滑性、低発塵性を発揮する。また、同図ｃに示すよう
に、潤滑皮膜２の表面から削り取られた潤滑粉２ｂは、
島２ｃと島２ｃとの間の母材部分に捕捉され、その部分
に転着皮膜２ｄを形成する。この転着皮膜２ｄにも、同
様に、くぼみ３のアンカー効果が及び、摺動面１ａから
容易に脱落することがない。
【００１４】尚、潤滑皮膜２は、図４に示すような連続
した島状分布、あるいは、図５に示すような一様分布の
ものでも良い。
した島状分布、あるいは、図５に示すような一様分布の
ものでも良い。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
滑り軸受を構成する部品のうち、少なくとも滑り摩擦を
生じる表面に多数の微小なくぼみを形成すると共に、こ
の表面に、平均分子量が５０００以下のＰＴＦＥからな
る潤滑皮膜を形成するようにしたので、潤滑皮膜が滑り
摩擦力を受けて皮膜形成面から容易に脱落するといった
弊害がなく、低分子量ＰＴＦＥ本来の優れた特性を滑り
軸受においても発揮させることができる。
滑り軸受を構成する部品のうち、少なくとも滑り摩擦を
生じる表面に多数の微小なくぼみを形成すると共に、こ
の表面に、平均分子量が５０００以下のＰＴＦＥからな
る潤滑皮膜を形成するようにしたので、潤滑皮膜が滑り
摩擦力を受けて皮膜形成面から容易に脱落するといった
弊害がなく、低分子量ＰＴＦＥ本来の優れた特性を滑り
軸受においても発揮させることができる。
【図１】本発明の実施例に係わる滑り軸受を示す横断面
図（ａ）、縦断面図（図ｂ）である。
図（ａ）、縦断面図（図ｂ）である。
【図２】図１における嵌合面等の潤滑皮膜を除去した状
態を示す横断面図（ａ）、縦断面図（図ｂ）である。
態を示す横断面図（ａ）、縦断面図（図ｂ）である。
【図３】摺動面を示す拡大断面図（図ａ、図ｂ、図ｃ）
である。
である。
【図４】本発明の実施例に係わる潤滑皮膜の分布状態を
示す拡大断面図である。
示す拡大断面図である。
【図５】本発明の実施例に係わる潤滑皮膜の分布状態を
示す拡大断面図である。
示す拡大断面図である。
１ 軸受部品 １ａ 摺動面 ２ 潤滑皮膜 ２ｃ 島 ３ くぼみ
Claims (2)
- 【請求項１】 滑り軸受を構成する部品のうち少なくと
も滑り摩擦を生ずる表面に多数の微小なくぼみを形成す
ると共に、この表面に、平均分子量が５０００以下のポ
リテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成した
ことを特徴とする半導体製造設備用滑り軸受。 - 【請求項２】 潤滑皮膜を島状に分布させたことを特徴
とする請求項１の半導体製造設備用滑り軸受。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1643792A JPH05209624A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 半導体製造設備用滑り軸受 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1643792A JPH05209624A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 半導体製造設備用滑り軸受 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05209624A true JPH05209624A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=11916212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1643792A Pending JPH05209624A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 半導体製造設備用滑り軸受 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05209624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011522148A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | オーバハングタイプのスタータ |
| US8556514B2 (en) | 2009-09-01 | 2013-10-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Sliding support structure for shaft member |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP1643792A patent/JPH05209624A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011522148A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | オーバハングタイプのスタータ |
| US8556514B2 (en) | 2009-09-01 | 2013-10-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Sliding support structure for shaft member |
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