JP3006635B2 - 固体潤滑転がり軸受 - Google Patents
固体潤滑転がり軸受Info
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Description
は宇宙機器等で使用される固体潤滑転がり軸受に関す
る。
および転動体と保持器間にグリ−ス等の潤滑剤を供給
し、それぞれの間に発生する転がり摩擦や滑り摩擦を減
少させ、軸受の耐久性を向上させるようにしている。
場合、グリ−ス等の蒸気圧の高い潤滑剤は雰囲気中に蒸
発してしまうため使用に耐えない。また、転がり軸受を
半導体製造設備等の高い清浄度が要求される密封真空下
で使用する場合、潤滑剤の蒸気が環境の汚染源となるた
め、グリ−ス等の流体潤滑剤を使用することができな
い。そのため、このような環境下で使用される転がり軸
受には蒸気圧の低い固体潤滑剤が必要になる。現在、転
がり軸受の固体潤滑剤としては、二硫化モリブデン等の
層状物質系、金、銀、鉛等の軟質金属系、PTFE、ポ
リイミド等の高分子系の潤滑剤が広く使用されている。
では半導体の集積度が増すにつれて導電パタ−ンの線幅
が微細化しており、軸受から排出される固体潤滑剤の摩
耗粉がパタ−ン上に付着して導電回路を短絡させる恐れ
があることから、導電性のある軟質金属系の固体潤滑剤
が敬遠される傾向にある。一方、二硫化モリブデン等の
層状物質系、PTFE(ポリマ−)等の高分子系の固体
潤滑剤は導電性をもたないが、これらは耐摩耗性が低
く、耐久性等の点で軟質金属よりも劣る。特に、二硫化
モリブデンは発塵量が多く、清浄度を必要とする環境下
での使用は敬遠される傾向にある。
で使用できるのみならず、大気・真空両用、耐蝕などの
機能をもつ軸受が必要とされるようになってきた。すな
わち、半導体製造工程で真空軸受が使用されるのは主に
ウェーハ処理工程であるが、この工程で使われる装置は
生産性向上のためインライン化される傾向があり、ウェ
ーハの搬送装置には大気と真空の両環境下で運転できる
軸受が必要となってきている。また、使用箇所によって
は耐蝕性や耐熱性も要求される。
造分野での使用に適した固体潤滑転がり軸受を提供する
ことにあり、そのためには、固体潤滑被膜の非導電性、
並びに潤滑性、耐久性、低発塵性を確保し、さらには、
これらの特性が大気・真空両環境下において発揮される
ようにすることが本発明の解決すべき課題になる。
軸受は、軌道輪の軌道面および転動体の表面のうち、少
なくとも転動体の表面に、平均分子量が5000以下の
ポリテトラフルオロエチレン(PTFEテロマー)を融
着させてなる潤滑被膜を形成したことを特徴とする。
ているPTFEは平均分子量が2×105 〜3×105
のポリマーであるが、PTFEテロマーは前記ポリマー
に比べて剪断強度が著しく小さく、また軟らかいという
特性をもつ。そのため、PTFEテロマーの摩耗粉(潤
滑粉)は転着性に優れ、相手面の微小な凹部へも入り込
んで潤滑被膜を形成するので、摩耗粉(パーティクル)
が飛散しにくく低発塵である。また、剪断抵抗が小さい
ため摩擦係数が小さく、優れた潤滑性能を発揮する。し
たがって、このPTFEテロマーを用いて転がり軸受の
転がり摩擦又は滑り摩擦を生じる部位に固体潤滑被膜を
形成することにより、低発塵性、潤滑性能の良好な潤滑
被膜が長期にわたって維持される。さらに、PTFEテ
ロマーからなる潤滑被膜は真空中のみならず大気中にお
いても優れた耐久性を備えており、半導体製造設備にお
いて各種製造装置間やクリンルーム間でウェーハを搬送
するためのウェーハ駆動系で使用される転がり軸受のよ
うに真空中と大気中の両方で使用される場合にきわめて
有利である。
例を示す。この深溝玉軸受は、内輪1、外輪2、内・外
輪1、2間に介在する複数の転動体3、転動体3を円周
等間隔に保持する保持器4といった軸受部品で構成され
る。そして、内・外輪1、2の軌道面および転動体3の
表面にはそれぞれPTFEテロマーの潤滑被膜1a、2
a、3aが形成されている。このPTFEテロマーは平
均分子量が5000以下のPTFEであるが、望ましく
は平均分子量が1000〜3000のものを使用するの
が良い。これらの潤滑被膜1a、2a、3aは、PTF
Eテロマー(日本アチソン製ARC7等)を、25cm
離れた位置から被膜形成面にスプレーして付着させたの
ち、300℃(熱処理温度は150℃以上であれば良
い。)の恒温槽で約20分間保持して被膜形成面に融着
させたものである。この場合の平均被膜厚さは0.6μ
m程度であったが、同図ではこれをかなり誇張してあ
る。このようにして形成された潤滑被膜1a、2a、3
aは、被膜形成面との密着性が高く、剪断力による被膜
形成面からの部分的剥離等の現象が生じず、長期にわた
って良好な潤滑性能を発揮する。
ーとしては、上記ARC7等の他、デュポン社製のVY
DAXAR等、セントラル硝子社製のD−1等を用いる
ことができ、また、被膜形成面への付着方法として、上
記スプレー法による他、浸漬法によることもでき、いず
れの場合にも同様の効果が得られる。
面および転動体3の表面に潤滑被膜を形成したものを例
示したが、潤滑被膜は少なくとも転動体3の表面に形成
すれば良い。また、同図では、内・外輪1、2の外表面
全体に潤滑被膜1a、2aが形成されているが、嵌合面
等の潤滑被膜が本来不必要な部分については、マスキン
グによって被膜処理を施さない、あるいは、最終製品と
する前に除去することも可能である。さらに、軸受形式
は図1に例示したような深溝玉軸受に限らず、広く転が
り軸受一般に適用することができる。
いて行なった寿命試験の結果を示す。寿命試験は、軸を
支承させた2個の試験軸受を、室温、真空度10-6To
rr以下、スラスト荷重1kgf、回転数2500rp
mの条件下に回転させ、2個の試験軸受の摩擦トルクの
総和が100gcmに達した時点を寿命とした。同図に
示すように、本実施例の固体潤滑転がり軸受は、PTF
Eポリマーの潤滑被膜を形成した従来の固体潤滑転がり
軸受に比べて、平均分子量が1000〜3000の潤滑
被膜を形成したものでは4倍以上、平均分子量が300
0〜5000の潤滑被膜を形成したものでは3〜4倍の
耐久性を示した。
いて行なった発塵試験の結果を示す。発塵試験は、試験
軸受を上記寿命試験と同条件下に回転させ、試験軸受の
直下に配置した発塵検出器で発塵量を検出することによ
り行なった。同図に示すように、本実施例の固体潤滑転
がり軸受は、PTFEポリマーの潤滑被膜を形成した従
来の固体潤滑転がり軸受に比べて、平均分子量が100
0〜3000の潤滑被膜を形成したものでは1/100
程度、平均分子量が3000〜5000の潤滑被膜を形
成したものでは1/10程度の低発塵性を示した。
を固体潤滑剤として用いることにより、非導電性で、か
つ、潤滑性および耐久性に優れた固体潤滑被膜が得られ
る。従って、このPTFEテロマーの潤滑被膜を形成し
た本発明の転がり軸受は、低トルク性(二硫化モリブデ
ンのスパッタリング被膜を形成したものと同程度)およ
び耐久性に優れ、しかも低発塵、大気・真空両用可能と
いった特性を兼ね具える。さらに、PTFEテロマーの
潤滑被膜は耐熱性(被膜の軟化温度は320℃であ
る。)、耐蝕性(被膜は酸やアルカリに侵されない。)
にも優れており、本発明は、特に、半導体製造設備用の
転がり軸受に適用された場合に顕著な効果を発揮する。
Claims (1)
- 【請求項1】 軌道輪の軌道面および転動体の表面のう
ち、少なくとも転動体の表面に、平均分子量が5000
以下のポリテトラフルオロエチレンを融着させてなる潤
滑被膜を形成したことを特徴とする固体潤滑転がり軸
受。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3190150A JP3006635B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 固体潤滑転がり軸受 |
GB9125165A GB2250549B (en) | 1990-11-30 | 1991-11-27 | Rolling bearing with solid lubricant |
US07/799,254 US5207513A (en) | 1990-11-30 | 1991-11-27 | Rolling bearing with solid lubricant |
FR9114779A FR2671386B1 (fr) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | Palier de roulement a lubrifiants solides utilises notamment dans un appareil de fabrication de semiconducteurs |
DE4139426A DE4139426A1 (de) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | Waelzlager mit festschmierstoff |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3190150A JP3006635B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 固体潤滑転がり軸受 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0533813A JPH0533813A (ja) | 1993-02-09 |
JP3006635B2 true JP3006635B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=16253251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3190150A Expired - Lifetime JP3006635B2 (ja) | 1990-11-30 | 1991-07-30 | 固体潤滑転がり軸受 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3006635B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6300042B1 (en) | 1998-11-24 | 2001-10-09 | Motorola, Inc. | Lithographic printing method using a low surface energy layer |
JP5133175B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2013-01-30 | Ntn株式会社 | 等速自在継手 |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP3190150A patent/JP3006635B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0533813A (ja) | 1993-02-09 |
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