JPS6155410A - 固体潤滑軸受 - Google Patents
固体潤滑軸受Info
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- JPS6155410A JPS6155410A JP17668384A JP17668384A JPS6155410A JP S6155410 A JPS6155410 A JP S6155410A JP 17668384 A JP17668384 A JP 17668384A JP 17668384 A JP17668384 A JP 17668384A JP S6155410 A JPS6155410 A JP S6155410A
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- Japan
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- soft metal
- solid lubricating
- bearing
- lubricant
- forming
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/30—Parts of ball or roller bearings
- F16C33/66—Special parts or details in view of lubrication
- F16C33/6696—Special parts or details in view of lubrication with solids as lubricant, e.g. dry coatings, powder
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M103/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being an inorganic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高温、低温、真空中、放射線下といった過酷
な条件下で使用できる固体潤滑軸受に関する。
な条件下で使用できる固体潤滑軸受に関する。
〈従来の技術〉
高温、低温、真空中、放射線下といった過酷な条件下で
の軸受には潤滑油が使用できず、代わりに軟質金属ある
いは層状潤滑剤などの固体による潤滑が行わnている。
の軸受には潤滑油が使用できず、代わりに軟質金属ある
いは層状潤滑剤などの固体による潤滑が行わnている。
軟質金属としてはAu 。
Ag 、 Pb 等が用いられ、また層状潤滑剤として
はMoS2.WS2等が用いられている。その付着法と
しては電気めっき法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、溶射法。
はMoS2.WS2等が用いられている。その付着法と
しては電気めっき法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、溶射法。
プラズマスプレー法などが試みられているが、実用され
ているのはイオンプレーティング法とスパッタリング法
である。イオンプレーティング法では化合物の付着は困
難であり、MoS2゜WS2等の化合物の付着にはもっ
ばらスパッタリング法が利用されている。
ているのはイオンプレーティング法とスパッタリング法
である。イオンプレーティング法では化合物の付着は困
難であり、MoS2゜WS2等の化合物の付着にはもっ
ばらスパッタリング法が利用されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
Au l Ag 、 Pbをイオンプレーティングで形
成した場合、強固な密着力があり、展性を利用して表面
を保護し、良好な潤滑性が得られているが、摩擦抵抗お
よび転勤トルクが太きいという欠点があった。これに対
し、MoS2.WS2は摩擦トルクが小さい利点を有し
ているが、スパッタ又は塗布によって表面に固定しであ
るので、膜界面との密着力が小さく、剥離しやすい等、
信頼性の点で問題があった。本発明は、これらの欠点を
除去するため、軟質金属の展性と、MoS2゜WS2等
の層状結晶の潤滑性を組み合わせ、長寿命、低トルクの
固体潤滑軸受を提供するにある。
成した場合、強固な密着力があり、展性を利用して表面
を保護し、良好な潤滑性が得られているが、摩擦抵抗お
よび転勤トルクが太きいという欠点があった。これに対
し、MoS2.WS2は摩擦トルクが小さい利点を有し
ているが、スパッタ又は塗布によって表面に固定しであ
るので、膜界面との密着力が小さく、剥離しやすい等、
信頼性の点で問題があった。本発明は、これらの欠点を
除去するため、軟質金属の展性と、MoS2゜WS2等
の層状結晶の潤滑性を組み合わせ、長寿命、低トルクの
固体潤滑軸受を提供するにある。
〈問題点を解決するための手段〉
斯かる目的を達成する本発明の固体潤滑軸受に係る構成
は玉、内輪あるいは外輪の転動面ないしは摺動面に軟質
金属をイオンプレーティングで形成し、この軟質金属の
上に層状潤滑剤をスパッタリングによって形成してなる
ことを特徴とする。軟質金属及び層状潤滑剤は、玉、内
輪及び外輪が相互にころが9接触する転動面及びすベシ
接触する摺動面のいずれにも形成することが最も好まし
いが、玉の表面だけ、あるいは内、外輪の表面のいずれ
かに形成してもかなシの効果がある。軟質金属としては
Au+ Ag + pb 。
は玉、内輪あるいは外輪の転動面ないしは摺動面に軟質
金属をイオンプレーティングで形成し、この軟質金属の
上に層状潤滑剤をスパッタリングによって形成してなる
ことを特徴とする。軟質金属及び層状潤滑剤は、玉、内
輪及び外輪が相互にころが9接触する転動面及びすベシ
接触する摺動面のいずれにも形成することが最も好まし
いが、玉の表面だけ、あるいは内、外輪の表面のいずれ
かに形成してもかなシの効果がある。軟質金属としては
Au+ Ag + pb 。
In等が使用でき、丑た層状潤滑剤として11’:;I
Mo S2゜WS2等を用いることができる。
Mo S2゜WS2等を用いることができる。
〈作用〉
下地層として軟質金属を形成し、その上に層状潤滑剤を
形成しているので、層状潤滑剤は摩擦トルクが小さいう
えに膜界面における密着力が大きくなり、剥離しにくく
なる。また軟質金属はインブレーティングによって転動
面ないし摺動面に強固に密着して、その面を保護するば
かりでなく、表面に露出していないので、その摩擦抵抗
および転動)・ルクの問題は起らない。
形成しているので、層状潤滑剤は摩擦トルクが小さいう
えに膜界面における密着力が大きくなり、剥離しにくく
なる。また軟質金属はインブレーティングによって転動
面ないし摺動面に強固に密着して、その面を保護するば
かりでなく、表面に露出していないので、その摩擦抵抗
および転動)・ルクの問題は起らない。
言い替れば、本発明においては、軟質金属と層状潤滑剤
は、その欠点が相互に打ち消し合って、その長所が有効
に引き出されているのである。
は、その欠点が相互に打ち消し合って、その長所が有効
に引き出されているのである。
〈実施例〉
第1図に、本発明の固体潤rjt軸受を評価するために
試作したムービングコイル型の揺動軸受試験機構を示す
。同図に示すように、軸5に2個の固体潤滑軸受1を介
してムービングコイル3が揺動自在に支持されており、
このムービングコイル3の揺動角度が制御センサ4によ
って設定できるようになっている。固体潤滑軸受1には
コイルバネ2によシスラスト方向に負荷がかけられてお
り、その玉の表面には4種類の固体潤滑膜を形成し、比
較した。即ち、比較例としてAu 、 Ag 、 Pb
等の軟質金属を、密度強度を大きくするため一定エネル
ギーで付着するイオンプレーティングで約0.5μm程
度形成し、本実施例として、同様な方法によりAgヲイ
オンプレーテイングにより形成し、その後MoS2をス
パッタにより0゜5μm程度形成し、Ag + MO8
2の固体潤滑膜とした。本機構は、一定角度を高速揺動
することが可能でちゃ、また脱ガス等の考慮を行い、真
空中にそのまま設置し、真空中での評価が可能である。
試作したムービングコイル型の揺動軸受試験機構を示す
。同図に示すように、軸5に2個の固体潤滑軸受1を介
してムービングコイル3が揺動自在に支持されており、
このムービングコイル3の揺動角度が制御センサ4によ
って設定できるようになっている。固体潤滑軸受1には
コイルバネ2によシスラスト方向に負荷がかけられてお
り、その玉の表面には4種類の固体潤滑膜を形成し、比
較した。即ち、比較例としてAu 、 Ag 、 Pb
等の軟質金属を、密度強度を大きくするため一定エネル
ギーで付着するイオンプレーティングで約0.5μm程
度形成し、本実施例として、同様な方法によりAgヲイ
オンプレーテイングにより形成し、その後MoS2をス
パッタにより0゜5μm程度形成し、Ag + MO8
2の固体潤滑膜とした。本機構は、一定角度を高速揺動
することが可能でちゃ、また脱ガス等の考慮を行い、真
空中にそのまま設置し、真空中での評価が可能である。
真空装置としては内径400喘のチャンバーを用い、タ
ーボモレキュラポンプにより排気し、10−’ Tor
r 台に真空度を維持できる。軸受1としては軸径8m
、外径は22咽の玉軸受を用い、揺動角度は±4.3°
と十0.8′に設定し、それぞれ17Hz、42Hzで
駆動した。
ーボモレキュラポンプにより排気し、10−’ Tor
r 台に真空度を維持できる。軸受1としては軸径8m
、外径は22咽の玉軸受を用い、揺動角度は±4.3°
と十0.8′に設定し、それぞれ17Hz、42Hzで
駆動した。
第2図(a) (b)に4種類の固体潤滑膜について、
大気中、真空中に於ける摩擦係数の摩擦回数依存性を示
す。大気中、真空中ともに本発明のAg + MOS2
の摩擦係数が低くなっている。特にAg+MOS2につ
いては、真空中で長期的に小さな値を示している。最初
20Cyc1es程度では一度摩擦係数は増大し、その
後減少、2 X 103Cycles程度迄比較的低い
値を示す。この場合、摩擦面は点接触であり局部的にし
か摩擦しない球側に固体潤滑処理がしであるので、表面
の固体潤滑剤は相手面に移着して除去され易く、非常に
厳しい条件であるが、Ag + Mo S、、について
は比較的硬れた潤滑特性を示している。
大気中、真空中に於ける摩擦係数の摩擦回数依存性を示
す。大気中、真空中ともに本発明のAg + MOS2
の摩擦係数が低くなっている。特にAg+MOS2につ
いては、真空中で長期的に小さな値を示している。最初
20Cyc1es程度では一度摩擦係数は増大し、その
後減少、2 X 103Cycles程度迄比較的低い
値を示す。この場合、摩擦面は点接触であり局部的にし
か摩擦しない球側に固体潤滑処理がしであるので、表面
の固体潤滑剤は相手面に移着して除去され易く、非常に
厳しい条件であるが、Ag + Mo S、、について
は比較的硬れた潤滑特性を示している。
第3図に一定揺動後の各軸受の起動トルクを示す。起動
トルクは揺動角度の範囲内では比較的小さな値を示し、
揺動角度を越えて移動させる時には大きな値を示す。従
ってこれ等の両方の値を示しである。これ等の結果でも
明らかなように、摩擦実験と同様にAg+MO82の起
動トルクが小さな値を示している。
トルクは揺動角度の範囲内では比較的小さな値を示し、
揺動角度を越えて移動させる時には大きな値を示す。従
ってこれ等の両方の値を示しである。これ等の結果でも
明らかなように、摩擦実験と同様にAg+MO82の起
動トルクが小さな値を示している。
第4図に示す摩擦痕を観察すると、微小角ではそれ程大
きな差はないが、±4.3°と揺動角が大きくなると、
固体潤滑処理をしない場合のAu 。
きな差はないが、±4.3°と揺動角が大きくなると、
固体潤滑処理をしない場合のAu 。
Ag 、 MOS2は大きな摩擦痕を生じている。とれ
に対し、Ag +Mo S2の摩擦痕は小さく、特にこ
れらの試験で摩耗粉の発生しないのは、Ag + Mo
S2のみであった。
に対し、Ag +Mo S2の摩擦痕は小さく、特にこ
れらの試験で摩耗粉の発生しないのは、Ag + Mo
S2のみであった。
このように軟質金属と層状潤婿剤1・iの両者で形成し
であるので、非常に優れた効果を示す。
であるので、非常に優れた効果を示す。
更にMO82、WS2等の層状結晶を含有した複合材を
リテイーナとして用いた場合には、MoS2゜WS2が
玉、軌道面に転移することによシ補給され、更に長期潤
滑が可能になる。
リテイーナとして用いた場合には、MoS2゜WS2が
玉、軌道面に転移することによシ補給され、更に長期潤
滑が可能になる。
〈発明の効果〉
以上述べたようにAu 、 Ag 、 Pb 、 In
等の軟質金属およびMo 82 、 WS2等の層状潤
滑剤を玉、内。
等の軟質金属およびMo 82 、 WS2等の層状潤
滑剤を玉、内。
外輪の転道面ないし摺動面に形成したことを特長とする
固体潤滑軸受は、低摩擦抵抗、低トルクであり蒸気圧の
高い潤滑油を用いることが不可能な個所の軸受に適して
いる。特に真空、クリーンルーム等の清浄環境で揺動す
る部分に用いる軸受として有用である。
固体潤滑軸受は、低摩擦抵抗、低トルクであり蒸気圧の
高い潤滑油を用いることが不可能な個所の軸受に適して
いる。特に真空、クリーンルーム等の清浄環境で揺動す
る部分に用いる軸受として有用である。
第1図は揺動軸受試験機構を一部破断して示す斜視図、
第2図(a) (b)は大気中、真空中における摩擦回
数に対する摩擦係数の変化を各々示すグラフ、第3図は
一定揺動後の各軸受の起動トルクを示すグラフ、第4図
は揺動試験終了後の摩擦痕断面形状を示すグラフである
。 図面中、 1は固体潤滑軸受、 2はコイルバネ、 3はムービングコイル、 4は制御センサ、 5は軸である。
第2図(a) (b)は大気中、真空中における摩擦回
数に対する摩擦係数の変化を各々示すグラフ、第3図は
一定揺動後の各軸受の起動トルクを示すグラフ、第4図
は揺動試験終了後の摩擦痕断面形状を示すグラフである
。 図面中、 1は固体潤滑軸受、 2はコイルバネ、 3はムービングコイル、 4は制御センサ、 5は軸である。
Claims (3)
- (1)玉、内輪あるいは外輪の転動面ないしは摺動面に
軟質金属をイオンプレーティングで形成し、この軟質金
属の上に層状潤滑剤をスパツタリングによつて形成して
なることを特徴とする固体潤滑軸受。 - (2)軟質金属としてAu、Ag、Pb、Inを用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固体潤滑
軸受。 - (3)層状潤滑剤としてMoS_2、WS_2を用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固体潤滑
軸受。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17668384A JPS6155410A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 固体潤滑軸受 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17668384A JPS6155410A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 固体潤滑軸受 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6155410A true JPS6155410A (ja) | 1986-03-19 |
Family
ID=16017896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17668384A Pending JPS6155410A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 固体潤滑軸受 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6155410A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63167125A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Koyo Seiko Co Ltd | ころがり軸受 |
EP0275080A2 (en) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid lubricant bearing |
JPH02267265A (ja) * | 1989-02-21 | 1990-11-01 | General Electric Co <Ge> | 潤滑軸受の製造方法 |
US6367981B1 (en) | 1998-08-24 | 2002-04-09 | Nsk Ltd. | Retainer and rolling bearing having the same |
CN100387750C (zh) * | 2005-09-30 | 2008-05-14 | 上海交通大学 | 磁控溅射制备减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜的方法 |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP17668384A patent/JPS6155410A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63167125A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Koyo Seiko Co Ltd | ころがり軸受 |
EP0275080A2 (en) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid lubricant bearing |
JPH02267265A (ja) * | 1989-02-21 | 1990-11-01 | General Electric Co <Ge> | 潤滑軸受の製造方法 |
US6367981B1 (en) | 1998-08-24 | 2002-04-09 | Nsk Ltd. | Retainer and rolling bearing having the same |
US6746157B2 (en) | 1998-08-24 | 2004-06-08 | Nsk Ltd. | Retainer and rolling bearing having the same |
CN100387750C (zh) * | 2005-09-30 | 2008-05-14 | 上海交通大学 | 磁控溅射制备减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜的方法 |
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