JP2002266875A - 転がり軸受 - Google Patents

転がり軸受

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JP2002266875A
JP2002266875A JP2001062350A JP2001062350A JP2002266875A JP 2002266875 A JP2002266875 A JP 2002266875A JP 2001062350 A JP2001062350 A JP 2001062350A JP 2001062350 A JP2001062350 A JP 2001062350A JP 2002266875 A JP2002266875 A JP 2002266875A
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rolling bearing
grease
lubricating
ptfe
film
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JP2001062350A
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Hiromitsu Kondo
博光 近藤
Hiroshi Yamada
博 山田
Mitsuo Sasabe
光男 笹部
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NTN Corp
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NTN Corp
NTN Toyo Bearing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 転動面にポリテトラフルオロエチレン(PT
FE)の潤滑被膜のみを有する転がり軸受と同等の低発
塵性を維持しながら、高い耐久性を発揮する転がり軸受
を提供する。 【解決手段】 軌道面の表面にポリテトラフルオロエチ
レンからなる潤滑被膜2を形成し、かつ軸受内に、グリ
ースの基油成分4、例えば、パーフルオロポリエーテル
油(PFPE)やシクロペンタン油を封入することによ
り、せん断によるPTFEの潤滑被膜2の破断粉が生じ
た場合に、この破断粉とグリースの基油成分4とが混じ
り合うようにして、転がり摩擦面に局部的なグリースが
形成されるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】この発明は、半導体や液晶パ
ネルの製造装置における基板搬送機構部等、クリーン度
が管理された場所で使用して好適な転がり軸受に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体や液晶パネルの製造装置の基板搬
送機構部等、クリーン度が管理された環境に設置される
転がり軸受の場合、潤滑剤としては、発塵が少ない、金
属被膜である銀イオンプレーティング膜を用いることが
多い。ところが、銀イオンプレーティング膜は、真空中
ではなく、大気中において使用すると、金属被膜の銀
(Ag)が酸化して酸化銀になるため、潤滑性が劣り、
発塵が多くなるという問題がある。
【0003】ところで、転がり軸受の潤滑剤としては、
一般的には、グリースが広く使用されている。グリース
は、潤滑作用をする基油に、それを半固形状に保持する
ための増稠剤、および、油の性質を改善するための添加
剤を混合したものである。
【0004】ところが、グリースは、大気・真空の両方
での耐久性は優れているものの、クリーン度、いわゆる
発塵性が非常に悪いため、クリーン度が要求される半導
体や液晶パネルの製造設備といった用途には使用するこ
とができない。
【0005】このため、特に、半導体や液晶パネルの製
造設備に代表される密封真空下で使用する潤滑剤とし
て、真空グリースと呼ばれているものがある。
【0006】従来、この種の真空グリースとして、例え
ば、蒸気圧の低いパーフルオロポリエーテル(以下、P
FPEという)を基油とし、これにフッ素系化合物であ
るポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFEとい
う)を増稠剤として混合したものがある。この種の真空
グリースは、一般に、真空機器用軸受の潤滑剤として使
用されている固体潤滑剤、例えば、金、銀、二硫化モリ
ブデン、PTFE等の潤滑被膜に比べると、潤滑性の点
では優れているが、やはり低発塵性の点では劣ってい
る。
【0007】したがって、真空グリースを封入した軸受
は、良好な耐久性を示すものの、発塵量がPTFE等の
固体潤滑剤よりも多いので、特に、クリーン度が要求さ
れる環境では、使用することができない。
【0008】このため、近年、半導体製造分野では半導
体の集積度が増すにつれて回路パターンの線幅が微細化
しており、軸受から排出されるパーティクルがパターン
上に付着すると種々の弊害を引き起こす可能性があるこ
とから、軸受の特性として、特に、低発塵性が要求され
る場合には、浸漬処理により、PTFE被膜処理を行っ
たウルトラクリーン軸受と呼ばれる、グリースや潤滑油
を使用しないものを用いるのが一般的である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現行の
ウルトラクリーン軸受と呼ばれている軸受は、低発塵性
と共に、大気・真空両用で優れた性能を示すものである
が、耐久性の点では、フッ素系のグリースを封入した軸
受に及ばない。
【0010】ところで、半導体や液晶パネルの製造設備
において真に高い清浄度が要求されるのはウェーハの近
傍部分であり、ウェーハから離れた部分にあっては清浄
度の基準が、ウェーハの近傍部分に比べ、若干緩和され
る傾向にある。したがって、このような清浄度の基準が
若干緩和される環境下で使用される軸受の場合では、ウ
ェーハの近傍部分で使用される軸受ほどの高い低発塵性
は必ずしも必要ではなく、むしろ耐久性の方が重要な特
性の一つになっている。勿論、一般使用の軸受に比べる
と、高い低発塵性は必要である。
【0011】そこで、この発明は、ウルトラクリーン軸
受と同程度の低発塵性を示し、ウルトラクリーン軸受よ
りも耐久性に優れた転がり軸受を提供しようとするもの
である。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明は、外輪の軌道
面と内輪の軌道面の間に、荷重を負荷する複数の転動体
を介在させた転がり軸受において、上記軌道面の表面に
PTFEからなる潤滑被膜を形成し、上記軸受内に、グ
リースの基油成分を封入したものである。
【0013】上記潤滑被膜を形成するPTFEとして
は、平均分子量が5000以下の低分子量のものが好ま
しい。
【0014】上記基油成分としては、フッ素系グリース
の基油成分であるPFPE油等のフッ素系油や、炭化水
素系グリースの基油成分であるシクロペンタン油等の炭
化水素系油を使用することができる。また、上記PTF
Eからなる潤滑被膜の上層に真空乾燥した潤滑油でコー
ティング膜又は薄膜を形成することもできる。
【0015】
【作用】軌道面の表面にPTFEの潤滑被膜のみを設け
た場合には、転がり摩擦によるせん断でPTFEの潤滑
被膜が徐々に破断して、潤滑被膜自体が発塵となり消耗
していくが、この発明では、表面にグリースの基油成分
を存在させることにより、せん断による潤骨被膜の破断
粉とグリースの基油成分とが混じり合って、転がり摩擦
面に局部的なグリースを形成することができる。したが
って、せん断によるPTFEの潤滑被膜の破断粉が生じ
ても、破断粉が外部に排出され難くなるとともに、長期
に亘って高い潤滑性能を維持する。
【0016】また、この発明によると、PTFEの潤滑
被膜の破断粉により、グリース状の部分が形成されるの
で、はじめから増ちょう材(PTFE)と基油(PFP
E)とからなるグリースを封入した場合よりも、発塵量
を、はるかに少なくすることができる。
【0017】特に、グリースの基油成分として、フッ素
系グリースの基油成分であるPFPE油を使用した場合
には、フッ素系化合物であるPTFEの潤滑被膜との親
和性が良好で、PTFEの潤滑被膜の破断粉との間でグ
リース化し易くなる。PFPE油の具体例としては、商
品名Brayco815Z、フォンブリンZ25等を使
用することができる。
【0018】また、軌道面の表面にPTFEの潤滑被膜
のみがある場合よりも、グリースの基油成分が存在する
ことにより、金属音を含まず、ごろごろ感のない滑らか
な回転調子が得られる。
【0019】さらに、往復運動するような場所で使用す
るような場合には、その速度の変曲点が最も潤滑状態が
過酷になるが、この発明によれば、変曲点への潤滑もス
ムーズに行える。
【0020】以上の作用を概念図で表すと、図1〜図3
のようになる。
【0021】まず、潤滑の初期段階においては、図1
(a)、(b)に示すように、軌道面1の表面に存在す
るPTFEの潤滑被膜2は、点在し、軌道面(内輪1)
の表面に固着している。
【0022】その後の過渡期においては、図2に示すよ
うに、軌道面表面に固着したPTFEの潤滑被膜2の一
部が、せん断により離脱し、その一部がPTFEの潤滑
被膜2に再付着する。
【0023】続いて、安定期になると、図3に示すよう
に、せん断により、離脱したPTFE被膜2の一部は発
塵となるが、PTFE被膜2への再付着により、付着し
たPTFEの潤滑被膜2と基油成分4とが混じり合っ
て、局部的にグリース状になり、長期にわたって潤滑作
用が生じる。また、PTFEの潤滑被膜2を軌道面(内
輪1)の母材界面からせん断するエネルギーより、PT
FEの潤滑被膜2内でせん断する方が小さなエネルギー
であるから、PTFEの潤滑被膜2が母材界面から根こ
そぎ除去されるようなことはない。
【0024】上記PTFEの潤滑被膜2は、サブミクロ
ンであり、図1(a)(b)の概念図に示すように、軌
道面の面積比率で60%程度覆う程度であればよい。し
たがって、潤滑被膜2を覆う基油成分4の厚みは、1μ
m〜5μm、最低で約1μmあれば十分である。
【0025】PTFE処理を施した後、その上層に潤滑
油を真空乾燥して軌道面にコーティング膜または薄膜を
形成しておくと、従来の真空グリースに比べて、潤滑油
の蒸発や飛散を少なくすることができる。さらに、潤滑
油は運動する接触面の中に入りやすく、油膜の形成とP
TFE被膜との補修性が良いため、低トルク化及び低発
塵性も得られる。
【0026】
【実施の形態】以下、この発明を密封型の深溝玉軸受
(SEB08J1UC3)に適用して、発塵性(大気、
真空)、耐久性(真空)について試験した結果を示す。
この軸受は、内輪1、外輪5、内・外輪1、5間に介在
する複数のボール3を円周等間隔に保持する保持器6、
および、外輪5の両端内径部に装着された例えばSUS
304製のシールド板7によって構成される。そして、
内・外輪1、5の転走面およびボール3の表面には、P
TFE、例えば平均分子量が5000以下のPTFEの
潤滑被膜2が形成され、軸受内にはフッ素系の真空グリ
ースの基油成分4、具体的にはPFPE油(フォンブリ
ンZ25)が封入されている。
【0027】上記PTFEの潤滑被膜2は、低分子量P
TFE(例えば、デュポン社製バイダックスAR)を、
浸漬により付着させたものである。低分子量PTFE
は、従来から、軸受の固体潤滑剤として一般に用いられ
ている平均分子量が1×105以上のもの、主として、
1×106〜1×107のものである。低分子量PTFE
は、一般のPTFEに比べ剪断強度が著しく小さく、ま
た、転着性に優れている。そのため、低分子量PTFE
は、それ自体優れた潤滑性、低発塵性を有する。
【0028】潤滑被膜2を形成するPTFEとしては、
上記バイダックスARの他、バイダックス1000(い
ずれもデュポン社製)、MP1200、MP1300
(いずれも三井フロロケミカル社製)、ルブロンD−1
(ダイキンエ業社製)等がある。なお、被膜の平均厚さ
は0.6μm程度であるが、図4ではこれをかなり誇張
して描いている。また、図4では内・外輪1、5の外表
面のうち嵌合面等に潤滑被膜2が形成されていないが、
これは、マスキングによって被膜処理を施さない、ある
いは、最終製品となる前に除去したものである。
【0029】低分子量PTFEの被膜コーティング法と
しては、上述した浸漬法の他にスプレー法等があるが、
スプレー法によれば、低分子量PTFEの分散液を噴霧
状にして皮膜形成面に吹き付けるため、潤滑被膜は、図
1に示すように、点在し易い。PTFE被膜2は、軸受
内に封入された真空グリースの基油成分4によって覆わ
れている。
【0030】また、PTFE処理を施した後、その上層
に潤滑油を真空乾燥して軌道面にコーティング膜または
薄膜を形成する方法としては、代替フロンで希釈(10
〜200倍)した潤滑油をPTFE被膜表面に注入して
おき、真空乾燥(例えば、温度100℃、2時間)させ
て、コーティング膜または薄膜を形成させている。この
ように、希釈してから乾燥することにより、極めて微量
な潤滑油の注入工程を容易にすることができる。従来の
封入方法である加熱処理させてコーティング膜または薄
膜を形成させる方法と比較して、真空乾燥させる方法が
より低コスト化を可能にする。また、下層に形成してあ
るPTFE被膜との親和性は、液状の場合と同様に維持
されるため、剥離、離脱し難くなる。図5(a)、
(b)、(c)に、この被膜形成の状態を示す。図5
(a)、(b)、(c)の符号8は、真空乾燥した潤滑
油のコーティング膜または薄膜を示している。
【0031】図6は、この発明に係る上記構成の転がり
軸受(グリースの基油成分+PTFEの潤滑被膜)2
個、軸受A(基油の膜厚1μm)、軸受B(基油の膜厚
5μm)と、転動面にPTFEの潤滑被膜を形成し、そ
の上層に真空乾燥した潤滑油のコーティング膜(膜厚1
μ程度)を有する軸受C、転動面にPTFEの潤滑被膜
のみを有する軸受D(いわゆるウルトラクリーン軸受)
とについて大気中で行った発塵試験の結果を示す。発塵
試験は、温度:室温、回転数:500rpm、スラスト
荷重:29.4Nの条件下で試験軸受を回転させ、試験
軸受の直下に配置した発塵検出器により発塵量(24時
間の総個数)を測った。
【0032】図6に示すように、この発明に係る軸受
A、軸受B、軸受Cの発塵量は、転動面にPTFEの潤
滑被膜のみを有するいわゆるウルトラクリーン軸受であ
る、軸受Dと比較して大差なく、低発塵性と言える水準
にあることが確認できた。次に、図7は、上記軸受A、
軸受B、軸受C、軸受Dについて真空中で行った発塵試
験の結果を示す。発塵試験は、真空度:10-6Torr
以下、温度:室温、回転数:200rpm、スラスト荷
重:29.4Nの条件下で試験軸受を回転させ、試験軸
受の直下に配置した発塵検出器により発塵量(70時間
の総個数)を測った。
【0033】図7に示すように、この発明に係る軸受
A、軸受B、軸受Cの発塵量は、真空中においても、転
動面にPTFEの潤滑被膜のみを有するいわゆるウルト
ラクリーン軸受である、軸受Dと比較して大差なく、低
発塵性と言える水準にあることが確認できた。
【0034】図8は、上記軸受A、軸受B、軸受C、軸
受Dついて行った耐久性試験の結果を示す。耐久性試験
は、軸を支承させた2個の試験軸受を、室温、真空度1
-6Torr以下、スラスト荷重29.4N、回転数2
500rpmの条件下に回転させ、試験軸受の摩擦トル
クの総和が10-2Nmに達した時点を寿命とした。
【0035】図8に示すように、軸受A、軸受B、軸受
Cは、軸受Dに比べ約2倍の耐久性を示した。耐久性に
ついては、大気中においても、同様の結果が得られるこ
とが推測できる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る転
がり軸受は、転動面にPTFEの潤滑被膜のみを有する
いわゆるウルトラクリーン軸受と同等の低発塵性を維持
しながら、ウルトラクリーン軸受よりも高い耐久性を示
す。したがって、この発明に係る転がり軸受は、特に、
発塵性よりも、耐久性がより重視されるような場所、例
えば、ウェーハから離れた部分等、半導体や液晶パネル
の製造設備において清浄度の基準が若干緩和されるよう
な環境に適している。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)はこの発明に係る転がり軸受の転動面の
潤滑の初期段階を模式的に表した断面図、(b)その平
面図である。
【図2】潤滑の過渡期における状態を示す図1(a)の
断面図である。
【図3】潤滑の安定期における状態を示す図1(a)の
断面図である。
【図4】この発明に係る転がり軸受の全体断面図であ
る。
【図5】(a)、(b)、(c)はこの発明に係る転が
り軸受の別な実施形態を示し、(a)は転動面の潤滑の
初期段階を模式的に表した断面図、(b)は潤滑の過渡
期における状態を示す断面図、潤滑の安定期における状
態を示す断面図である。
【図6】大気中における発塵試験の結果を示す図であ
る。
【図7】真空中における発塵試験の結果を示す図であ
る。
【図8】耐久性試験の結果を示す図である。
【符号の説明】
1 内輪 2 PTFE被膜 3 ボール 4 基油 5 外輪 6 保持器 7 シールド板 8 コーティング膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹部 光男 大阪府大阪市西区京町堀1丁目3番17号 エヌテイエヌ株式会社内 Fターム(参考) 3J101 AA02 AA32 AA42 AA52 AA62 BA53 BA54 BA70 CA12 DA05 EA53 EA63 FA32 FA60 GA55

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外輪の軌道面と内輪の軌道面の間に、荷
    重を負荷する複数の転動体を介在させた転がり軸受にお
    いて、上記軌道面の表面にポリテトラフルオロエチレン
    からなる潤滑被膜を形成し、上記軸受内に、グリースの
    基油成分を封入させたことを特徴とする転がり軸受。
  2. 【請求項2】 上記潤滑被膜を形成するポリテトラフル
    オロエチレンの平均分子量が5000以下である請求項
    1記載の転がり軸受。
  3. 【請求項3】 上記グリースの基油成分がパーフルオロ
    ポリエーテル油であることを特徴とする請求項1又は2
    記載の転がり軸受。
  4. 【請求項4】 上記グリースの基油成分がシクロペンタ
    ン油であることを特徴とする請求項1又は2記載の転が
    り軸受。
  5. 【請求項5】 上記基油成分の膜厚が、1μm〜5μm
    である請求項1〜4のいずれかの項に記載の転がり軸
    受。
  6. 【請求項6】 外輪の軌道面と内輪の軌道面の間に、荷
    重を負荷する複数の転動体を介在させた転がり軸受にお
    いて、上記軌道面の表面にポリテトラフルオロエチレン
    からなる潤滑被膜を形成し、上記潤滑被膜の上層に真空
    乾燥した潤滑油でコーティング膜又は薄膜を形成したこ
    とを特徴とする転がり軸受。
  7. 【請求項7】 クリーン度が管理された環境に設置され
    た装置に用いられる請求項1〜6のいずれかの項に記載
    の転がり軸受。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005351373A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Ntn Corp 転がり軸受用保持器および転がり軸受
JP2008051179A (ja) * 2006-08-23 2008-03-06 Toyota Motor Corp 摺動部材及び摺動部材の製造方法
US10054156B2 (en) * 2016-06-26 2018-08-21 Atec Corporation Synthetic resin retainer for large thrust ball bearings with dry-lubricant and wet-lubricant management systems

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005351373A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Ntn Corp 転がり軸受用保持器および転がり軸受
JP4541769B2 (ja) * 2004-06-10 2010-09-08 Ntn株式会社 転がり軸受用保持器および転がり軸受
JP2008051179A (ja) * 2006-08-23 2008-03-06 Toyota Motor Corp 摺動部材及び摺動部材の製造方法
US10054156B2 (en) * 2016-06-26 2018-08-21 Atec Corporation Synthetic resin retainer for large thrust ball bearings with dry-lubricant and wet-lubricant management systems

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