JPH05201751A - ガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法 - Google Patents
ガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】ガラス製品の表面に、移行（マイグレーショ
ン）防止障壁層を形成するのに適当で、洗剤製品のよう
なアルカリ媒質に対する抵抗を増大し、簡単にガラス製
品にシリカを含む良質の堆積を行うことができる方法を
提供する。 【構成】シリカ基層の堆積は、閉じ込められない大気中
で、２％未満のシラン含有率、３．５〜３０％の酸素含
有率、及び有利には５％未満の水素含有率を有するガス
状混合物をガラス製品１の熱い表面に噴射ノズル３から
噴射することによつてガラス表面に形成される。処理さ
れるべき対象物の表面は、噴射装置に送られる直前に加
熱されるのが有利である。
ン）防止障壁層を形成するのに適当で、洗剤製品のよう
なアルカリ媒質に対する抵抗を増大し、簡単にガラス製
品にシリカを含む良質の堆積を行うことができる方法を
提供する。 【構成】シリカ基層の堆積は、閉じ込められない大気中
で、２％未満のシラン含有率、３．５〜３０％の酸素含
有率、及び有利には５％未満の水素含有率を有するガス
状混合物をガラス製品１の熱い表面に噴射ノズル３から
噴射することによつてガラス表面に形成される。処理さ
れるべき対象物の表面は、噴射装置に送られる直前に加
熱されるのが有利である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大部分が中性ガスで、
ケイ素の前駆物質及び酸素を含むガス状混合物を、少く
とも１個の噴射ノズルによつてガラス製品の熱い表面に
噴射することによつて、ガラス製品の表面にシリカを含
む堆積を生成する方法に関する。
ケイ素の前駆物質及び酸素を含むガス状混合物を、少く
とも１個の噴射ノズルによつてガラス製品の熱い表面に
噴射することによつて、ガラス製品の表面にシリカを含
む堆積を生成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種類の方法は米国特許第３，７１
７，４９８号から知られており、それによれば噴射は管
内で閉じ込められたやり方で行われている。さらに最近
では英国特許第２，２３４，２６４号明細書が平らなガ
ラスについて類似の方法を記載しており、そこでは噴射
は、被覆されるべき区域を覆う被覆室内で行われ、被覆
室は密閉スカート部を備えた吸引フード内に囲まれてい
る。
７，４９８号から知られており、それによれば噴射は管
内で閉じ込められたやり方で行われている。さらに最近
では英国特許第２，２３４，２６４号明細書が平らなガ
ラスについて類似の方法を記載しており、そこでは噴射
は、被覆されるべき区域を覆う被覆室内で行われ、被覆
室は密閉スカート部を備えた吸引フード内に囲まれてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、例え
ばナトリウム−カルシウムガラス又はフルオロケイ酸塩
ガラスのようなガラス製品の表面に、移行（マイグレー
ション）防止、特にナトリウム−カルシウムガラスでの
ナトリウムの移行防止障壁層を形成するのに適当であ
り、洗剤製品のようなアルカリ媒質に対するガラス製品
の抵抗を増大し、簡単で特に順応性のあるやり方で数多
くのガラス製品に良質の堆積を行うことができ、かつこ
れによつて設備費及び製造費の実質的低下をもたらす方
法を提案することである。
ばナトリウム−カルシウムガラス又はフルオロケイ酸塩
ガラスのようなガラス製品の表面に、移行（マイグレー
ション）防止、特にナトリウム−カルシウムガラスでの
ナトリウムの移行防止障壁層を形成するのに適当であ
り、洗剤製品のようなアルカリ媒質に対するガラス製品
の抵抗を増大し、簡単で特に順応性のあるやり方で数多
くのガラス製品に良質の堆積を行うことができ、かつこ
れによつて設備費及び製造費の実質的低下をもたらす方
法を提案することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】このために本発明の一特
徴によれば、噴射は閉じ込められない大気中、典型的に
は解放空間で、ガラス製品の熱い表面に行われる。
徴によれば、噴射は閉じ込められない大気中、典型的に
は解放空間で、ガラス製品の熱い表面に行われる。
【０００５】本発明のさらに特定の特徴によれば、ガラ
ス状混合物中のケイ素前駆物質、典型的にはシランの含
有率は０．５〜２％、典型的には約１％であり、ガス状
混合物中の酸素含有率は３．５〜３０％、典型的には７
〜１５％である。本発明の他の特徴によれば、典型的に
は５％未満の含有率の水素が、噴射されるべきガス状混
合物に添加される。
ス状混合物中のケイ素前駆物質、典型的にはシランの含
有率は０．５〜２％、典型的には約１％であり、ガス状
混合物中の酸素含有率は３．５〜３０％、典型的には７
〜１５％である。本発明の他の特徴によれば、典型的に
は５％未満の含有率の水素が、噴射されるべきガス状混
合物に添加される。
【０００６】本発明のさらに特定の特徴によれば、ガス
状混合物中の水素の含有率は０．１〜５％、典型的には
２％より多く、約３％が有利であり、ケイ素前駆物質、
典型的にはシラン、特に有利なモノシランの含有率は
０．１〜２％、約１％が有利であり、ガス状混合物中の
酸素含有率は３．５〜３０％であつて、酸素とケイ素前
駆物質との間の容積比は５〜２０、典型的には７より大
きいのが好ましく、水素とシランとの間の容積比は２よ
り大きく、典型的には３であるのが好ましい。
状混合物中の水素の含有率は０．１〜５％、典型的には
２％より多く、約３％が有利であり、ケイ素前駆物質、
典型的にはシラン、特に有利なモノシランの含有率は
０．１〜２％、約１％が有利であり、ガス状混合物中の
酸素含有率は３．５〜３０％であつて、酸素とケイ素前
駆物質との間の容積比は５〜２０、典型的には７より大
きいのが好ましく、水素とシランとの間の容積比は２よ
り大きく、典型的には３であるのが好ましい。
【０００７】本発明の他の特徴によれば、処理されるべ
きガラス表面は、解放空間で加熱表面にガス状混合物を
噴射する直前に、選択的に加熱される。
きガラス表面は、解放空間で加熱表面にガス状混合物を
噴射する直前に、選択的に加熱される。
【０００８】驚くべきことに出願人は、上記の条件下
で、熱いガラス表面（３００℃とガラス成形温度間の温
度）に解放空間でのガス状混合物の噴射が、形成された
層にシリカを含む単離粒子の実質的再堆積の存在なし
に、シリカ又は水素化シリカの均質、均一で粒子のない
化学量論的層の堆積を与えることを認めた。本発明は、
添付の図面を参照しながら、限定なしに図示された実施
態様の以下の記載からより良く理解されるであろう。
で、熱いガラス表面（３００℃とガラス成形温度間の温
度）に解放空間でのガス状混合物の噴射が、形成された
層にシリカを含む単離粒子の実質的再堆積の存在なし
に、シリカ又は水素化シリカの均質、均一で粒子のない
化学量論的層の堆積を与えることを認めた。本発明は、
添付の図面を参照しながら、限定なしに図示された実施
態様の以下の記載からより良く理解されるであろう。
【０００９】
【実施例】図１は解放空間をベルトコンベヤー２で移送
されるガラス板１を略図的に示し、ベルトコンベヤーの
軌道上には、ガラス板１の上面にシリカ層を形成するた
めにシラン−酸素−窒素の三成分混合物を噴射するノズ
ル３が配置される。この実施態様では、ノズル３はガラ
ス板１の相対的前進方向を横切る噴射スリットを限定
し、窒素及びシランの二成分混合物を収容する貯槽４及
び酸素ガスの貯槽５から三成分混合物を供給される。
されるガラス板１を略図的に示し、ベルトコンベヤーの
軌道上には、ガラス板１の上面にシリカ層を形成するた
めにシラン−酸素−窒素の三成分混合物を噴射するノズ
ル３が配置される。この実施態様では、ノズル３はガラ
ス板１の相対的前進方向を横切る噴射スリットを限定
し、窒素及びシランの二成分混合物を収容する貯槽４及
び酸素ガスの貯槽５から三成分混合物を供給される。
【００１０】噴射ノズル３は、ガラス板１が必要な温度
でそこから出てくる浮遊炉の下流に直接配置されてもよ
い。しかしながら噴射装置は炉とは全く別に設けること
ができ、その場合典型的には、例えば赤外線式の加熱装
置は、ガラス板１の前進方向に噴射装置のすぐ下流に配
置されるであろう。
でそこから出てくる浮遊炉の下流に直接配置されてもよ
い。しかしながら噴射装置は炉とは全く別に設けること
ができ、その場合典型的には、例えば赤外線式の加熱装
置は、ガラス板１の前進方向に噴射装置のすぐ下流に配
置されるであろう。
【００１１】この実施態様では、ノズル３の端部とガラ
ス板の被覆すべき表面との間の間隔ｈは、１５ｍｍ未
満、典型的には３ｍｍと１０ｍｍとの間に含まれ、混合
物の噴射速度は、スリットの幅に応じて５ｍ／秒と３０
ｍ／秒との間に含まれる。
ス板の被覆すべき表面との間の間隔ｈは、１５ｍｍ未
満、典型的には３ｍｍと１０ｍｍとの間に含まれ、混合
物の噴射速度は、スリットの幅に応じて５ｍ／秒と３０
ｍ／秒との間に含まれる。
【００１２】ガス状混合物中のシラン含有率は０．５〜
２％に、好ましくは０．８〜１％に含まれ、ガス状混合
物中の酸素含有率は３．５〜３０％、好ましくは７〜１
５％に含まれ、酸素／シランの容積比は５〜３０、典型
的には７〜１５、好ましくは７〜１０に含まれる。
２％に、好ましくは０．８〜１％に含まれ、ガス状混合
物中の酸素含有率は３．５〜３０％、好ましくは７〜１
５％に含まれ、酸素／シランの容積比は５〜３０、典型
的には７〜１５、好ましくは７〜１０に含まれる。
【００１３】この条件で、ガラス板とノズルとの間の相
対前進速度５ｃｍ／秒及び５５０〜６００℃の温度に加
熱されたガラスの基本的区域に約９秒間の実際の噴射時
間に相当する連続通過回数によつて、１ｍｍ2 当り１０
個未満で０．２μｍを超えない寸法の、結合、再堆積さ
れない粒子を有する約０．７μｍの均一な厚さの化学量
論的シリカ層が得られた。
対前進速度５ｃｍ／秒及び５５０〜６００℃の温度に加
熱されたガラスの基本的区域に約９秒間の実際の噴射時
間に相当する連続通過回数によつて、１ｍｍ2 当り１０
個未満で０．２μｍを超えない寸法の、結合、再堆積さ
れない粒子を有する約０．７μｍの均一な厚さの化学量
論的シリカ層が得られた。
【００１４】窒素の代わりに、有効障壁層を与えるため
のガス状混合物の噴射継続時間をわずかに短縮できるア
ルゴンによつても同様な結果が得られた。アルカリ媒質
に対する抵抗試験（Ｎａ2 ＣＯ3 ０．５モル／ｌ及びＮ
ａＯＨ１モル／ｌの沸騰溶液による１５分間のアルカリ
攻撃、次いで同じ沸騰溶液による１５分間の第２の攻
撃）及び蛍光Ｘの強度の測定は、３０分を下らないアル
カリの攻撃にシリカ層が耐えることを明らかにした。
のガス状混合物の噴射継続時間をわずかに短縮できるア
ルゴンによつても同様な結果が得られた。アルカリ媒質
に対する抵抗試験（Ｎａ2 ＣＯ3 ０．５モル／ｌ及びＮ
ａＯＨ１モル／ｌの沸騰溶液による１５分間のアルカリ
攻撃、次いで同じ沸騰溶液による１５分間の第２の攻
撃）及び蛍光Ｘの強度の測定は、３０分を下らないアル
カリの攻撃にシリカ層が耐えることを明らかにした。
【００１５】本発明の他の実施態様によれば、天然ガ
ス、シラン及び酸素のガス状混合物に、水素含有ガス状
混合物がその噴射まで２００℃未満の典型的には１５０
℃未満の温度に保持され、少なくとも２秒間、ガラス製
品の形状と予定された利用によつて典型的には５〜２０
秒間、解放空間で処理されるべき表面に噴射されること
を除いては、実質的に作業条件を修正することなしに
０．１〜５％の水素が加えられる。ここではまた、処理
されるべきガラスの表面は、３００℃とガラス成形温度
又はクリスタル成形温度との間の温度、典型的には５０
０〜６００℃の温度にあらかじめ加熱される。
ス、シラン及び酸素のガス状混合物に、水素含有ガス状
混合物がその噴射まで２００℃未満の典型的には１５０
℃未満の温度に保持され、少なくとも２秒間、ガラス製
品の形状と予定された利用によつて典型的には５〜２０
秒間、解放空間で処理されるべき表面に噴射されること
を除いては、実質的に作業条件を修正することなしに
０．１〜５％の水素が加えられる。ここではまた、処理
されるべきガラスの表面は、３００℃とガラス成形温度
又はクリスタル成形温度との間の温度、典型的には５０
０〜６００℃の温度にあらかじめ加熱される。
【００１６】ガス状混合物は、大部分窒素又はアルゴン
のような中性の希釈ガスからなる。ケイ素のガス状前駆
物質は、モノシラン、ジシラン又はトリシランのような
シランであるのが有利である。ガス状混合物のシラン含
有率は、０．１％とガス状混合物の他の成分に依存する
シランの引火性の下限、例えば希釈ガスとしての窒素と
シランの場合には３％の間で変化する。酸素含有率は
３．５〜３０％である。水素含有率は、０．１％と方法
の条件による水素の引火性の下限との間で変化する。
のような中性の希釈ガスからなる。ケイ素のガス状前駆
物質は、モノシラン、ジシラン又はトリシランのような
シランであるのが有利である。ガス状混合物のシラン含
有率は、０．１％とガス状混合物の他の成分に依存する
シランの引火性の下限、例えば希釈ガスとしての窒素と
シランの場合には３％の間で変化する。酸素含有率は
３．５〜３０％である。水素含有率は、０．１％と方法
の条件による水素の引火性の下限との間で変化する。
【００１７】次の表は、いろいろな作業条件下で本発明
により得られたシリカ又は水素化シリカ基層の堆積の加
水分解抵抗の能力を示す。行われた試験は次のようであ
る。シリカ基層を製造するために本発明によるガス状混
合物が噴射されていたナトリウム−カルシウムガラスの
フラスコが蒸留水で満たされ、次いで４８時間、８℃で
加熱された。その後ガラスから抽出されたナトリウム
が、例えば炎光分光測定法によつて測定された。
により得られたシリカ又は水素化シリカ基層の堆積の加
水分解抵抗の能力を示す。行われた試験は次のようであ
る。シリカ基層を製造するために本発明によるガス状混
合物が噴射されていたナトリウム−カルシウムガラスの
フラスコが蒸留水で満たされ、次いで４８時間、８℃で
加熱された。その後ガラスから抽出されたナトリウム
が、例えば炎光分光測定法によつて測定された。
【００１８】 作業条件： −ガラスの温度: ５７０℃ −ガス状混合物の流量：１００ｌ／時 −処理Ａ：ＳｉＨ4 ：１％，Ｏ2 ：７％，
Ｎ2 ：９２ −処理Ｂ：ＳｉＨ4 ：１％，Ｏ2 ：７％，Ｈ2 ：３％，
Ｎ2 ：８９ −処理Ｃ：ＳｉＨ4 ：１％，Ｏ2 ：１６％，Ｈ2 ：３
％，Ｎ2 ：８０ 処理されない基準値と比較してすでにナトリウム移行量
が１／２になつている、上記の水素なしの方法と対応す
る処理Ａと比較すると、水素を使用する方法は、この量
を５秒の処理時間で１／３以下まで、そして１５秒の処
理時間で１／１５以下まで低下できることは注目される
であろう。
Ｎ2 ：９２ −処理Ｂ：ＳｉＨ4 ：１％，Ｏ2 ：７％，Ｈ2 ：３％，
Ｎ2 ：８９ −処理Ｃ：ＳｉＨ4 ：１％，Ｏ2 ：１６％，Ｈ2 ：３
％，Ｎ2 ：８０ 処理されない基準値と比較してすでにナトリウム移行量
が１／２になつている、上記の水素なしの方法と対応す
る処理Ａと比較すると、水素を使用する方法は、この量
を５秒の処理時間で１／３以下まで、そして１５秒の処
理時間で１／１５以下まで低下できることは注目される
であろう。
【００１９】解放空間で堆積をつくることを可能にする
本発明による方法の高度な簡便性は、ガス状混合物の噴
射時間と速度、混合物中のシラン，酸素，水素の含有率
及び処理されるべき表面の温度により厚さが変化する層
をもつた、いろいろな形状のガラス製品に数多く利用で
きる。
本発明による方法の高度な簡便性は、ガス状混合物の噴
射時間と速度、混合物中のシラン，酸素，水素の含有率
及び処理されるべき表面の温度により厚さが変化する層
をもつた、いろいろな形状のガラス製品に数多く利用で
きる。
【００２０】図２は、加熱炉６０から出る受皿又は皿
１′の内面の被覆への応用を示す。この実施態様では、
噴射ノズル３′は、受皿１′の直径に適合した直径の環
状スリット３０を有するドーナツ形をしており、噴射ノ
ズル３′は、加熱炉又は成形炉６０の出口で受皿１′の
上に下げられ、所望の堆積の厚さにより３〜２０秒間、
受皿１′の移動に伴なつて移動する。噴射ノズルはま
た、処理されるべき製品の寸法、形状と厳密に対応する
寸法及び形状の多孔性噴射面を有することもできる。
１′の内面の被覆への応用を示す。この実施態様では、
噴射ノズル３′は、受皿１′の直径に適合した直径の環
状スリット３０を有するドーナツ形をしており、噴射ノ
ズル３′は、加熱炉又は成形炉６０の出口で受皿１′の
上に下げられ、所望の堆積の厚さにより３〜２０秒間、
受皿１′の移動に伴なつて移動する。噴射ノズルはま
た、処理されるべき製品の寸法、形状と厳密に対応する
寸法及び形状の多孔性噴射面を有することもできる。
【００２１】図３の実施態様では、被覆されるべきガラ
ス製品は、ここではまだ熱い間に回転支持台２０上に置
かれたフラスコ１″からなる。第１円筒形ノズル３″1
はフラスコ１″の頸部内に挿入され一方フラスコ１″の
母線と平行な噴射スリットを有する第２円筒形ノズル
３″2 は、フラスコ１″の外壁の近傍に配置される。前
と同じガス状混合物が、工業的製造ラインに容易に組み
込むことがてきる３〜５秒間、フラスコ内部に噴射され
る。
ス製品は、ここではまだ熱い間に回転支持台２０上に置
かれたフラスコ１″からなる。第１円筒形ノズル３″1
はフラスコ１″の頸部内に挿入され一方フラスコ１″の
母線と平行な噴射スリットを有する第２円筒形ノズル
３″2 は、フラスコ１″の外壁の近傍に配置される。前
と同じガス状混合物が、工業的製造ラインに容易に組み
込むことがてきる３〜５秒間、フラスコ内部に噴射され
る。
【００２２】本発明は特定の実施態様に関して述べられ
たけれども本発明はこれに限られるものでなく、当業者
にとつて自明であろう改良及び変更することが可能であ
る。
たけれども本発明はこれに限られるものでなく、当業者
にとつて自明であろう改良及び変更することが可能であ
る。
【図１】 本発明による方法を実施するための装置の第
１実施態様の略図。
１実施態様の略図。
【図２】 本発明の他の実施態様の略図。
【図３】 本発明のさらに他の実施態様の略図。
【符号の説明】 １ ガラス板 １′ 受皿又は皿 １″ フラスコ ２ ベルトコンベヤー ３、３′ 噴射ノズル ３″1 ，３″2 円筒形ノズル ４ 窒素及びシランの貯槽 ５ 酸素ガスの貯槽 ６ 加熱装置 ２０ 回転支持台 ３０ 噴射ノズル３′の環状スリット ６０ 加熱炉
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジユニエ・ベルナル フランス国．91440・ビユレ・シユル・イ ベツト．アブニユ・ド・ボーゼジユール. 53 (72)発明者 オーガランヌ・ラサン フランス国．78180・モンテニイ・ル・ブ ルトノー．リユ・ジヤン・コクトー．１ (72)発明者 ルクール・パトリツク フランス国．91460・マルクーシ．リユ・ トーローズ・ロートレツク．５
Claims (27)
- 【請求項１】 大部分が中性ガスで、ケイ素の前駆物質
及び酸素を含むガス状混合物を、少くとも１個の噴射ノ
ズル（３；３′；３″1 ，３″2 ）によつてガラス製品
（１，１′，１″）の表面に噴射してシリカを含む堆積
を生成させる方法において、前記噴射が、閉じ込められ
ない大気中でガラス製品の熱い表面に行われることを特
徴とするガラスの製品の表面にシリカを含む堆積を生成
させる方法。 - 【請求項２】 処理されるべきガラス製品の表面が、ガ
ラス状混合物を噴射する直前に選択的に加熱されること
を特徴とする請求項１記載のガラス製品の表面にシリカ
を含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項３】 噴射ノズル（３；３′；３″1 ，
３″2 ）が、処理されるべき表面に対して相対運動を与
えられることを特徴とする請求項１又は２記載のガラス
製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項４】 噴射ノズルが、処理されるべきガラス製
品の表面の形状に適合する少くとも１個の噴射開口を有
することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項
に記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成さ
せる方法。 - 【請求項５】 噴射ノズル（３；３′；３″2 ）と処理
されるべき表面との間隔（ｈ）が１５ｍｍより短いこと
を特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の
ガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方
法。 - 【請求項６】 前記間隔（ｈ）が３〜１０ｍｍであるこ
とを特徴とする請求項５記載のガラス製品の表面にシリ
カを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項７】 ガス状混合物の噴射速度が５〜３０ｍ／
秒であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか
１項に記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生
成させる方法。 - 【請求項８】 ケイ素の前駆物質が、ガス状混合物中で
約０．５〜２％の含有率を有するシランであることを特
徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載のガラ
ス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項９】 シランの含有率が約１％であることを特
徴とする請求項８記載のガラス製品の表面にシリカを含
む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１０】 ガス状混合物中の酸素含有率が約３．
５〜３０％である請求項８又は９記載のガラス製品の表
面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１１】 酸素含有率が約７〜１５％であること
を特徴とする請求項１０記載のガラス製品の表面にシリ
カを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１２】 ガス状混合物中の酸素とシランとの間
の容積比が約７であることを特徴とする請求項９ないし
１１のいずれか１項に記載のガラス製品の表面にシリカ
を含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１３】 噴射されるべきガス状混合物に水素を
添加する段階を含むことを特徴とする請求項１ないし１
１のいずれか１項に記載のガラス製品の表面にシリカを
含む堆積を生成する方法。 - 【請求項１４】 ガス状混合物中の水素含有率が０．１
〜５％であることを特徴とする請求項１３記載のガラス
製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１５】 ガス状混合物中のケイ素前駆物質含有
率が約０．１〜２％であることを特徴とする請求項１４
記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させ
る方法。 - 【請求項１６】 ガス状混合物中の酸素含有率が約３．
５〜３０％であることを特徴とする請求項１５記載のガ
ラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１７】 ガス状混合物中の酸素とケイ素前駆物
質との間の容積比が５〜２０であることを特徴とする請
求項１６記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を
生成する方法。 - 【請求項１８】 ケイ素前駆物質がシランであることを
特徴とする請求項１７記載のガラス製品の表面にシリカ
を含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項１９】 ガス状混合物中のシラン含有率が約１
％であることを特徴とする請求項１８記載のガラス製品
の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項２０】 ガス状混合物中の水素とシランとの間
の容積比が２より大きいことを特徴とする請求項１９記
載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる
方法。 - 【請求項２１】 ガス状混合物中の酸素とシランとの間
の容積比が７より大きいことを特徴とする請求項１９又
は２０記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を生
成させる方法。 - 【請求項２２】 ガス状混合物中の水素含有率が約３％
であることを特徴とする請求項１９ないし２１のいずれ
か１項に記載のガラス製品の表面にシリカを含む堆積を
生成させる方法。 - 【請求項２３】 ガス状混合物の温度が、その噴射まで
２００℃以下に保持されることを特徴とする請求項１３
ないし２２のいずれか１項に記載のガラス製品の表面に
シリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項２４】 ガス状混合物が、ガラス製品の表面に
少なくとも２秒間噴射されることを特徴とする請求項１
ないし２３いずれか１項に記載のガラス製品の表面にシ
リカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項２５】 ガス状混合物が、ガラス製品の表面に
約５秒と２０秒との間で変化する時間噴射されることを
特徴とする請求項２４記載のガラス製品の表面にシリカ
を含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項２６】 中性ガスが窒素であることを特徴とす
る請求項１ないし２５のいずれか１項に記載のガラス製
品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。 - 【請求項２７】 中性ガスがアルゴンであることを特徴
とする請求項１ないし２５のいずれか１項に記載のガラ
ス製品の表面にシリカを含む堆積を生成させる方法。
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