JPH06191891A - ガラス物品の表面にバリヤー層を形成させる方法 - Google Patents
ガラス物品の表面にバリヤー層を形成させる方法Info
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- JPH06191891A JPH06191891A JP5217452A JP21745293A JPH06191891A JP H06191891 A JPH06191891 A JP H06191891A JP 5217452 A JP5217452 A JP 5217452A JP 21745293 A JP21745293 A JP 21745293A JP H06191891 A JPH06191891 A JP H06191891A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 ガラスを構成するある種のイオン類、特にナ
トリウム−カルシウムガラスの場合にはアルカリイオン
類と、さらに大きい寸法のイオン例えばカドミウムとの
移動(migration)を防止するバリヤー層を形
成させる方法を、特にかかるイオン類の移動に反応性及
び/又は感受性の物質を収容するのに適した容器又はフ
ラスコの内部被覆用に提供する。 【構成】 ガラス物品の加熱表面に、中性ガスと、ケイ
素先駆体典型的にはシランと、10〜60%のアンモニア
と、好ましくは5%未満の酸素とを含有するガス混合物
を、典型的には開放周囲大気中で噴射することによっ
て、該ガラス物品の表面に該ガス混合物からケイ素を基
剤とした耐移動性のバリヤー層を形成させる方法。酸素
含有量とシラン含有量の比は0〜4である。
トリウム−カルシウムガラスの場合にはアルカリイオン
類と、さらに大きい寸法のイオン例えばカドミウムとの
移動(migration)を防止するバリヤー層を形
成させる方法を、特にかかるイオン類の移動に反応性及
び/又は感受性の物質を収容するのに適した容器又はフ
ラスコの内部被覆用に提供する。 【構成】 ガラス物品の加熱表面に、中性ガスと、ケイ
素先駆体典型的にはシランと、10〜60%のアンモニア
と、好ましくは5%未満の酸素とを含有するガス混合物
を、典型的には開放周囲大気中で噴射することによっ
て、該ガラス物品の表面に該ガス混合物からケイ素を基
剤とした耐移動性のバリヤー層を形成させる方法。酸素
含有量とシラン含有量の比は0〜4である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス物品の加熱(ho
t) 表面に、ケイ素先駆体及び中性ガスを含有してなる
ガス混合物を噴射することによって該ガラス物品の表面
にバリヤー層(barrier layer) を形成させる方法に関す
る。
t) 表面に、ケイ素先駆体及び中性ガスを含有してなる
ガス混合物を噴射することによって該ガラス物品の表面
にバリヤー層(barrier layer) を形成させる方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術、発明が解決しようとする課題、課題を解
決するための手段、作用及び効果】この種の方法は、本
出願人の出願に係る欧州特許出願公開第0,526,344A号明
細書により知られている。該明細書には、種々のガラス
物品上に、追加成分として酸素を典型的には7〜15%の
含有量で含有してなるガス混合物から、ケイ素を基剤と
した層(silicon-base layer)を形成させる方法が記載さ
れている。
決するための手段、作用及び効果】この種の方法は、本
出願人の出願に係る欧州特許出願公開第0,526,344A号明
細書により知られている。該明細書には、種々のガラス
物品上に、追加成分として酸素を典型的には7〜15%の
含有量で含有してなるガス混合物から、ケイ素を基剤と
した層(silicon-base layer)を形成させる方法が記載さ
れている。
【0003】本発明は、ガラスを構成するある種のイオ
ン類、特にナトリウム−カルシウムガラスの場合にはア
ルカリイオン類と、さらに大きい寸法のイオン例えばカ
ドミウムとの移動(migration) を防止するバリヤー層を
形成させる新規な方法を、特にかかるイオン類の移動に
反応性及び/又は感受性の物質を収容するのに適した容
器又はフラスコの内部被覆用に提供することを目的とす
る。
ン類、特にナトリウム−カルシウムガラスの場合にはア
ルカリイオン類と、さらに大きい寸法のイオン例えばカ
ドミウムとの移動(migration) を防止するバリヤー層を
形成させる新規な方法を、特にかかるイオン類の移動に
反応性及び/又は感受性の物質を収容するのに適した容
器又はフラスコの内部被覆用に提供することを目的とす
る。
【0004】上記の内部被覆を行うためには、本発明の
1つの特徴によれば、ガラス物品の加熱表面に、アンモ
ニアを少なくとも5%、特別には少なくとも10%、典型
的には10〜60%、好ましくは約50%含有するガス混合物
が噴射される。
1つの特徴によれば、ガラス物品の加熱表面に、アンモ
ニアを少なくとも5%、特別には少なくとも10%、典型
的には10〜60%、好ましくは約50%含有するガス混合物
が噴射される。
【0005】本発明のさらに具体的な特徴によれば、 − 前記ケイ素先駆体がシランであり、その前記ガス混
合物中の含有量が0.2〜3%、典型的には約1%であ
り; − 前記ガス混合物は、さらに追加成分として酸素を7
%よりも少ない含有量で、典型的には5%よりも少ない
含有量で含有するものであり; − 前記ガス混合物中の酸素含有量とシラン含有量の比
が0〜4、典型的には0.5 〜1.5 である。
合物中の含有量が0.2〜3%、典型的には約1%であ
り; − 前記ガス混合物は、さらに追加成分として酸素を7
%よりも少ない含有量で、典型的には5%よりも少ない
含有量で含有するものであり; − 前記ガス混合物中の酸素含有量とシラン含有量の比
が0〜4、典型的には0.5 〜1.5 である。
【0006】本発明の別の特徴及び利点は、例として示
した以下の実施態様の記載から明らかになるであろう。
しかし、該実施態様は本発明を限定するものではない。
した以下の実施態様の記載から明らかになるであろう。
しかし、該実施態様は本発明を限定するものではない。
【0007】本発明の方法は、ケイ素先駆体、例えば典
型的にはシランと、アンモニアとを含有するガス混合物
であってしかも不活性ガスとシランとの予備混合物から
得られるガス混合物を、被覆すべきガラス物品の一表面
又は複数の表面の近くに配置したノズル又は噴射装置に
供給することによりに実施される。 最終ガス混合物
は、予備形成されたガラス物品の表面を表面的に再加熱
した後に、ガラス物品の最終形成層の形成中か又はその
形成後に、300 ℃からガラスの形成温度までの間の温度
で該ガラス物品の表面に噴射される。本発明の一つの態
様によれば、ガラス物品の加熱表面に対するガス混合物
の噴射は、開放周囲大気中で、典型的には自由空気(fre
e air)中で行われる。噴射すべきガス混合物は、それが
注入装置から放出されるまで、200 ℃よりも低い温度、
典型的には100 ℃未満の温度で保持される。
型的にはシランと、アンモニアとを含有するガス混合物
であってしかも不活性ガスとシランとの予備混合物から
得られるガス混合物を、被覆すべきガラス物品の一表面
又は複数の表面の近くに配置したノズル又は噴射装置に
供給することによりに実施される。 最終ガス混合物
は、予備形成されたガラス物品の表面を表面的に再加熱
した後に、ガラス物品の最終形成層の形成中か又はその
形成後に、300 ℃からガラスの形成温度までの間の温度
で該ガラス物品の表面に噴射される。本発明の一つの態
様によれば、ガラス物品の加熱表面に対するガス混合物
の噴射は、開放周囲大気中で、典型的には自由空気(fre
e air)中で行われる。噴射すべきガス混合物は、それが
注入装置から放出されるまで、200 ℃よりも低い温度、
典型的には100 ℃未満の温度で保持される。
【0008】ガス混合物中の中性同伴ガス(carrier ga
s) は窒素、アルゴン又はこれら2成分の混合物であ
る。噴射されるガス混合物中のアンモニア含有量は、5
〜60%、好ましくは費用のから及び緻密(dense) で均質
なケイ素基剤層の形成を確実にするためには約50%であ
る。ケイ素のガス状先駆体は、シラン(モノシラン、ジ
シラン、トリシラン)、好ましくはモノシランである。
噴射されるガス混合物中のシランの含有量は0.2 %から
シランの引火限界までの範囲にわたり、希釈ガスとして
窒素を使用する場合には、モノシランについては約3%
である。下記の表に示すように、ガラス表面の付着層の
化学的バリヤーの効力は、噴射されるガス混合物中に酸
素を少量、特に2%未満存在させることにより実質的に
増大する。このことは、シラン−酸素・反応速度が、シ
ラン−アンモニア・反応速度よりも大きいという事実に
より説明し得る。酸素含有量とシラン含有量の比は、好
ましくは4よりも小さく、典型的には0.5 〜1.5 であ
る。
s) は窒素、アルゴン又はこれら2成分の混合物であ
る。噴射されるガス混合物中のアンモニア含有量は、5
〜60%、好ましくは費用のから及び緻密(dense) で均質
なケイ素基剤層の形成を確実にするためには約50%であ
る。ケイ素のガス状先駆体は、シラン(モノシラン、ジ
シラン、トリシラン)、好ましくはモノシランである。
噴射されるガス混合物中のシランの含有量は0.2 %から
シランの引火限界までの範囲にわたり、希釈ガスとして
窒素を使用する場合には、モノシランについては約3%
である。下記の表に示すように、ガラス表面の付着層の
化学的バリヤーの効力は、噴射されるガス混合物中に酸
素を少量、特に2%未満存在させることにより実質的に
増大する。このことは、シラン−酸素・反応速度が、シ
ラン−アンモニア・反応速度よりも大きいという事実に
より説明し得る。酸素含有量とシラン含有量の比は、好
ましくは4よりも小さく、典型的には0.5 〜1.5 であ
る。
【0009】
【実施例】下記の表は、種々の操作条件下におけるバリ
ヤー層の耐加水分解性の性能を示すものである。適用し
た試験方法は下記の通りである。本発明のガス混合物を
中に噴射しておいたナトリウム−カルシウムガラス製フ
ラスコに、蒸留水を満たし、次いで80℃に48時間保持し
た。次いで、上記ガラスから抽出されるナトリウムを蒸
留水中で、例えば炎光分光分析により測定した。
ヤー層の耐加水分解性の性能を示すものである。適用し
た試験方法は下記の通りである。本発明のガス混合物を
中に噴射しておいたナトリウム−カルシウムガラス製フ
ラスコに、蒸留水を満たし、次いで80℃に48時間保持し
た。次いで、上記ガラスから抽出されるナトリウムを蒸
留水中で、例えば炎光分光分析により測定した。
【0010】
【0011】操作条件 − ガラス表面の温度: 570 ℃; − ガス混合物の流量: 100リットル/時間 − 処理時間: 5秒間 − 処理A: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :0
%; N:残部 − 処理B: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :0.5
%; N:残部 − 処理C: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :1
%; N:残部 − 処理D: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :2
%; N:残部 − 処理E: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :4
%; N:残部
%; N:残部 − 処理B: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :0.5
%; N:残部 − 処理C: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :1
%; N:残部 − 処理D: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :2
%; N:残部 − 処理E: SiH4 :1%; NH3 :50%; O2 :4
%; N:残部
【0012】アルゴンを用いて同様の結果が得られた。
【0013】本発明を具体的な態様に関連して説明した
が、本発明はそれによって限定されるものではなく、当
業者に自明の変更及び変形が可能である。特に、噴射装
置は、ガス混合物の均一な流れ及び分布が得られるよう
に、処理すべきガラス物品の表面の形状に適合させるの
が好ましい。
が、本発明はそれによって限定されるものではなく、当
業者に自明の変更及び変形が可能である。特に、噴射装
置は、ガス混合物の均一な流れ及び分布が得られるよう
に、処理すべきガラス物品の表面の形状に適合させるの
が好ましい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルクール,パトリツク フランス国.91460・マルコーシス.リ ユ・トウールーズ・ロートレツク.5 (72)発明者 オーガランヌ,ラーサン フランス国.78180・モンテイニユ−ル− ブルトノー.リユ・ジヤン・コクトー.1
Claims (13)
- 【請求項1】 ガラス物品の加熱表面に、ケイ素先駆
体、中性ガス及びアンモニアを含有するガス混合物を噴
射することによって該ガラス物品の表面にバリヤー層を
形成させる方法において、前記ガス混合物がアンモニア
を少なくとも5%含有するものであることを特徴とす
る、ガラス物品の表面にバリヤー層を形成させる方法。 - 【請求項2】 前記ガス混合物がアンモニアを10〜約60
%含有するものである請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記ガス混合物がアンモニアを約50%含
有するものである請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 前記ケイ素先駆体がシランであり、その
前記ガス混合物中の含有量が約0.2 〜3%である前記請
求項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 前記ガス混合物が追加成分として酸素を
7%よりも低い含有量で含有するものである前記請求項
のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項6】 前記酸素含有量が5%未満である請求項
5に記載の方法。 - 【請求項7】 前記シラン含有量が約1%である前記請
求項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】 前記ガス混合物中の酸素含有量とシラン
含有量の比が0〜4である請求項6及び請求項7に記載
の方法。 - 【請求項9】 前記の酸素含有量とシラン含有量の比が
0.5 〜1.5 である請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 前記ガス混合物が前記ガラス物品の表
面に噴射されるまで200 ℃よりも低い温度で保持される
前記請求項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項11】 前記中性ガスが窒素、アルゴン及びこ
れらの混合物からなる群から選択されるものである前記
請求項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項12】 前記加熱表面に対する前記ガス混合物
の噴射が、解放周囲大気中で行われるものである前記請
求項のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項13】 前記ガラス物品がナトリウム−カルシ
ウムガラス製容器であり且つ前記表面が該容器の内部表
面である前記請求項のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9210458 | 1992-09-02 | ||
FR9210458A FR2695118B1 (fr) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06191891A true JPH06191891A (ja) | 1994-07-12 |
Family
ID=9433132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5217452A Pending JPH06191891A (ja) | 1992-09-02 | 1993-09-01 | ガラス物品の表面にバリヤー層を形成させる方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5431707A (ja) |
JP (1) | JPH06191891A (ja) |
DE (1) | DE4327513A1 (ja) |
FR (1) | FR2695118B1 (ja) |
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JP2007504076A (ja) * | 2003-08-29 | 2007-03-01 | ピルキングトン・ノースアメリカ・インコーポレイテッド | 基板上にシリカ被膜を堆積させる方法 |
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US6080644A (en) | 1998-02-06 | 2000-06-27 | Burr-Brown Corporation | Complementary bipolar/CMOS epitaxial structure and process |
US6274464B2 (en) | 1998-02-06 | 2001-08-14 | Texas Instruments Incorporated | Epitaxial cleaning process using HCL and N-type dopant gas to reduce defect density and auto doping effects |
DE19812056C1 (de) * | 1998-03-19 | 1999-10-28 | Schott Glas | Verfahren zum Herstellen eines Glasbehälters |
WO2003031362A1 (en) | 2001-10-05 | 2003-04-17 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass for use in displays and other electronic devices |
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ITPD20070272A1 (it) * | 2007-08-03 | 2009-02-04 | Nuova Ompi Srl | Procedimento per la produzione di contenitori in vetro e prodotto ottenuto |
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US4100330A (en) * | 1977-03-28 | 1978-07-11 | Ppg Industries, Inc. | Method for coating glass with silicon and a metal oxide and resulting product |
GB2031756B (en) * | 1978-10-20 | 1983-03-09 | Gordon Roy Gerald | Non-iridescent glass structures and processes for their production |
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US4780372A (en) * | 1984-07-20 | 1988-10-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Silicon nitride protective coatings for silvered glass mirrors |
JPS632330A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長方法 |
GB8630918D0 (en) * | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
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FR2666324B1 (fr) * | 1990-09-03 | 1993-04-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Couches minces de nitrure de silicium a proprietes ameliorees. |
-
1992
- 1992-09-02 FR FR9210458A patent/FR2695118B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-08-16 DE DE4327513A patent/DE4327513A1/de not_active Withdrawn
- 1993-09-01 JP JP5217452A patent/JPH06191891A/ja active Pending
- 1993-09-02 US US08/115,423 patent/US5431707A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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US5431707A (en) | 1995-07-11 |
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FR2695118B1 (fr) | 1994-10-07 |
FR2695118A1 (fr) | 1994-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040309 |